Máquina integrada de limpeza e enceramento de discos cerâmicos para montagem e pré-processamento de bolachas semicondutoras

A Máquina Integrada de Limpeza e Enceramento de Discos Cerâmicos é um sistema automatizado de alta eficiência concebido para o pré-processamento de bolachas semicondutoras, integrando limpeza de precisão, secagem e enceramento de bolachas (montagem) numa única plataforma. Este equipamento é amplamente utilizado em SiC, Si, GaN, safira e processamento de cerâmica avançada, assegurando uma ligação estável das bolachas aos discos portadores antes dos processos de trituração, desbaste ou polimento.

Máquina integrada de limpeza e enceramento de discos cerâmicos para montagem e pré-processamento de bolachas semicondutorasA máquina integrada de limpeza e enceramento de discos cerâmicos é um sistema automatizado de alta eficiência concebido para o pré-processamento de bolachas semicondutoras, integrando limpeza de precisão, secagem e enceramento de bolachas (montagem) numa única plataforma.

Este equipamento é amplamente utilizado no processamento de SiC, Si, GaN, safira e cerâmica avançada, assegurando uma ligação estável da bolacha aos discos portadores antes dos processos de trituração, desbaste ou polimento. Ao combinar a tecnologia de limpeza por ultra-sons com o controlo inteligente do enceramento, o sistema atinge taxas de rendimento elevadas até 99,9%, o que o torna ideal tanto para a produção em massa como para aplicações de semicondutores topo de gama.

Com um funcionamento totalmente automatizado e conetividade MES, esta máquina melhora significativamente a eficiência da produção, a consistência do processo e a rastreabilidade.


Principais caraterísticas técnicas

Sistema integrado de limpeza e enceramento

  • Combina limpeza com disco de cerâmica + estações duplas de enceramento
  • Tratamento numa só etapa: limpeza → secagem → enceramento
  • O funcionamento em paralelo melhora o rendimento

Alinhamento de ultra-alta precisão

  • Sistema de posicionamento por visão CCD
  • Precisão do alinhamento: ±0,02 mm
  • Garante a colocação exacta da bolacha e a qualidade da ligação

Deposição controlada de cera

  • Quantidade de cera: 0,8 g ±0,05 g por bolacha
  • A distribuição uniforme garante uma montagem estável durante a retificação

Controlo de pressão estável

  • O sistema pneumático mantém uma pressão uniforme de 5-10 N/cm²
  • Evita o empeno da bolacha e defeitos de ligação

Alto rendimento e estabilidade do processo

  • Taxa de rendimento até 99,9%
  • Monitorização em tempo real com ajuste automático dos parâmetros (tolerância ±3%)

Especificações técnicas

Parâmetro Valor
Dimensões 7740 × 3390 × 2300 mm
Fonte de alimentação AC 380V, 50Hz, 90 kW
Fornecimento pneumático 2 m³/h, 0,4-0,5 MPa (ar seco isento de óleo)
Abastecimento de água 2 T/h @ 0,3 MPa, ≥12 MΩ-cm Água DI

Princípio de funcionamento

1. Fase de limpeza do disco de cerâmica

  • O sistema de limpeza por ultra-sons remove partículas e contaminantes de nível micrónico
  • Utiliza água DI de elevada pureza (≥12 MΩ-cm)
  • Combinado com faca de ar + secagem a vácuo, garantindo zero resíduos

2. Processo de depilação automatizado

  • O sistema de visão detecta as coordenadas do disco
  • A cabeça doseadora programável aplica uma camada de cera uniforme
  • A pastilha é montada sob condições de pressão controlada

3. Controlo inteligente de processos

  • O sistema PLC sincroniza os módulos de limpeza e enceramento
  • Suporta o processamento paralelo até 30 discos por hora
  • Os sensores de espessura monitorizam a uniformidade da cera em tempo real

Capacidade de produção

Tamanho da pastilha Diâmetro do disco Quantidade Tempo de ciclo
4 polegadas Φ485 mm 11 unidades 5 min/disco
4 polegadas Φ576 mm 13 unidades 6 min/disco
6 polegadas Φ485 mm 6 unidades 3 min/disco
6 polegadas Φ576 mm 8 unidades 4 min/disco
8 polegadas Φ485 mm 3 peças 2 min/disco
8 polegadas Φ576 mm 5 unidades 3 min/disco

Aplicações

Pré-processamento de bolachas semicondutoras

  • Montagem da pastilha antes da retificação / desbaste / polimento
  • Adequado para:
    • Silício (Si)
    • Carboneto de silício (SiC)
    • Nitreto de gálio (GaN)

Fabrico de semicondutores compostos

  • Dispositivos de potência GaN, SiC
  • Manuseamento avançado de substratos

Materiais ópticos e cristalinos

  • Substratos de safira
  • Cerâmica de precisão
  • Componentes ópticos

MEMS e materiais avançados

  • Preparação de pastilhas de microfabricação
  • Processamento de materiais especiais

Principais vantagens

  • Elevada integração: Limpeza + secagem + enceramento num só sistema
  • Eficiência energética: Taxa de reciclagem de água >80%, consumo reduzido
  • Alto rendimento: Até 30 discos/hora
  • Preparado para fabrico inteligente: Integração MES/ERP suportada
  • Personalização flexível: Suporta discos não padronizados de Φ300-650 mm
  • Mudança rápida: Tempo de troca de ferramentas <3 minutos

Destaques do desempenho

  • Desvio da uniformidade da cera: ≤±3%
  • Consumo de água: ≤0,5 L/disco
  • Funcionamento automatizado com total rastreabilidade
  • Controlo de processos estável e repetível

FAQ

P1: Como é assegurado o rendimento elevado?

Um sistema de alinhamento de visão CCD dedicado fornece uma precisão de posicionamento de ±0,02 mm, assegurando uma qualidade consistente de montagem da bolacha.

Q2: Qual é o nível de consumo de água?

O sistema atinge uma reciclagem de água >80%, com um consumo tão baixo como ≤0,5 L por disco.

Q3: Suporta a comutação rápida do tamanho da bolacha?

Sim, a biblioteca de fixações inteligente permite a troca automática de ferramentas em 3 minutos através da HMI.

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