Máquina integrada de limpieza y encerado de discos cerámicos para el montaje y preprocesado de obleas semiconductoras

La máquina integrada de limpieza y encerado de discos cerámicos es un sistema automatizado de alta eficacia diseñado para el preprocesamiento de obleas semiconductoras, que integra limpieza de precisión, secado y encerado (montaje) de obleas en una única plataforma. Este equipo se utiliza ampliamente en el procesamiento de SiC, Si, GaN, zafiro y cerámica avanzada, garantizando la unión estable de las obleas a los discos portadores antes de los procesos de esmerilado, adelgazamiento o pulido.

Máquina integrada de limpieza y encerado de discos cerámicos para el montaje y preprocesado de obleas semiconductorasLa máquina integrada de limpieza y encerado de discos cerámicos es un sistema automatizado de alta eficacia diseñado para el preprocesado de obleas semiconductoras, que integra limpieza de precisión, secado y encerado (montaje) de obleas en una única plataforma.

Este equipo se utiliza ampliamente en el procesamiento de SiC, Si, GaN, zafiro y cerámica avanzada, garantizando una unión estable de las obleas a los discos portadores antes de los procesos de esmerilado, adelgazamiento o pulido. Combinando la tecnología de limpieza por ultrasonidos con el control inteligente del encerado, el sistema alcanza altos índices de rendimiento de hasta 99,9%, lo que lo hace ideal tanto para la producción en serie como para aplicaciones de semiconductores de gama alta.

Con un funcionamiento totalmente automatizado y conectividad MES, esta máquina mejora significativamente la eficacia de la producción, la coherencia del proceso y la trazabilidad.


Principales características técnicas

Sistema integrado de limpieza y encerado

  • Combina la limpieza con discos cerámicos + estaciones de encerado dobles
  • Procesado en un solo paso: limpieza → secado → encerado.
  • El funcionamiento en paralelo mejora el rendimiento

Alineación de alta precisión

  • Sistema de posicionamiento por visión CCD
  • Precisión de alineación: ±0,02 mm
  • Garantiza la colocación precisa de las obleas y la calidad de la unión

Deposición controlada de cera

  • Cantidad de cera: 0,8 g ±0,05 g por oblea
  • La distribución uniforme garantiza un montaje estable durante el rectificado

Control de presión estable

  • El sistema neumático mantiene una presión uniforme de 5-10 N/cm².
  • Evita el alabeo de las obleas y los defectos de adhesión

Alto rendimiento y estabilidad del proceso

  • Índice de rendimiento hasta 99,9%
  • Supervisión en tiempo real con ajuste automático de parámetros (tolerancia ±3%)

Especificaciones técnicas

Parámetro Valor
Dimensiones 7740 × 3390 × 2300 mm
Fuente de alimentación CA 380 V, 50 Hz, 90 kW
Suministro neumático 2 m³/h, 0,4-0,5 MPa (aire seco exento de aceite)
Suministro de agua 2 T/h @ 0,3 MPa, ≥12 MΩ-cm Agua desionizada

Principio de funcionamiento

1. Etapa de limpieza del disco cerámico

  • El sistema de limpieza por ultrasonidos elimina partículas y contaminantes micrométricos
  • Utiliza agua desionizada de gran pureza (≥12 MΩ-cm)
  • Combinado con cuchilla de aire + secado al vacío, garantiza cero residuos

2. Proceso de depilación automatizado

  • El sistema de visión detecta las coordenadas del disco
  • El cabezal dispensador programable aplica una capa de cera uniforme
  • La oblea se monta en condiciones de presión controlada

3. Control inteligente de procesos

  • El sistema PLC sincroniza los módulos de limpieza y encerado
  • Admite el procesamiento en paralelo de hasta 30 discos por hora
  • Los sensores de espesor controlan la uniformidad de la cera en tiempo real

Capacidad de producción

Tamaño de la oblea Diámetro del disco Cantidad Duración del ciclo
4 pulgadas Φ485 mm 11 piezas 5 min/disco
4 pulgadas Φ576 mm 13 piezas 6 min/disco
6 pulgadas Φ485 mm 6 piezas 3 min/disco
6 pulgadas Φ576 mm 8 piezas 4 min/disco
8 pulgadas Φ485 mm 3 piezas 2 min/disco
8 pulgadas Φ576 mm 5 piezas 3 min/disco

Aplicaciones

Preprocesamiento de obleas semiconductoras

  • Montaje de obleas antes del esmerilado / adelgazamiento / pulido
  • Adecuado para:
    • Silicio (Si)
    • Carburo de silicio (SiC)
    • Nitruro de galio (GaN)

Fabricación de semiconductores compuestos

  • Dispositivos de potencia de GaN y SiC
  • Manipulación avanzada de sustratos

Materiales ópticos y cristalinos

  • Sustratos de zafiro
  • Cerámica de precisión
  • Componentes ópticos

MEMS y materiales avanzados

  • Preparación de obleas para microfabricación
  • Tratamiento de materiales especiales

Principales ventajas

  • Alta integración: Limpieza + secado + encerado en un solo sistema
  • Eficiencia energética: Tasa de reciclaje de agua >80%, consumo reducido
  • Alto rendimiento: Hasta 30 discos/hora
  • Preparado para la fabricación inteligente: Compatible con la integración MES/ERP
  • Personalización flexible: Admite discos no estándar de Φ300-650 mm.
  • Cambio rápido: Tiempo de cambio de herramienta <3 minutos

Resultados destacados

  • Desviación de la uniformidad de la cera: ≤±3%
  • Consumo de agua: ≤0,5 L/disco
  • Funcionamiento automatizado con trazabilidad total
  • Control de procesos estable y repetible

PREGUNTAS FRECUENTES

P1: ¿Cómo se garantiza un alto rendimiento?

Un sistema de alineación por visión CCD específico proporciona una precisión de posicionamiento de ±0,02 mm, lo que garantiza una calidad de montaje de obleas constante.

P2: ¿Cuál es el nivel de consumo de agua?

El sistema consigue un reciclaje de agua >80%, con un consumo tan bajo como ≤0,5 L por disco.

P3: ¿Es compatible con el cambio rápido de tamaño de oblea?

Sí, la biblioteca inteligente de utillajes permite el cambio automático de utillaje en 3 minutos a través de la HMI.

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