Yarı İletken Gofret Montajı ve Ön İşleme için Seramik Disk Temizleme ve Mumlama Entegre Makinesi

Seramik Disk Temizleme ve Mumlama Entegre Makinesi, yarı iletken gofret ön işleme için tasarlanmış, hassas temizleme, kurutma ve gofret mumlamayı (montaj) tek bir platforma entegre eden yüksek verimli otomatik bir sistemdir. Bu ekipman, SiC, Si, GaN, safir ve gelişmiş seramik işlemede yaygın olarak kullanılır ve taşlama, inceltme veya parlatma işlemlerinden önce taşıyıcı disklere sabit gofret bağlanmasını sağlar.

Yarı İletken Gofret Montajı ve Ön İşleme için Seramik Disk Temizleme ve Mumlama Entegre MakinesiSeramik Disk Temizleme ve Mumlama Entegre Makinesi, yarı iletken gofret ön işleme için tasarlanmış, hassas temizleme, kurutma ve gofret mumlamayı (montaj) tek bir platforma entegre eden yüksek verimli otomatik bir sistemdir.

Bu ekipman SiC, Si, GaN, safir ve gelişmiş seramik işlemede yaygın olarak kullanılır ve taşlama, inceltme veya parlatma işlemlerinden önce taşıyıcı disklere istikrarlı yonga plakası bağlanmasını sağlar. Ultrasonik temizleme teknolojisini akıllı mumlama kontrolü ile birleştiren sistem, 99,9%'ye kadar yüksek verim oranlarına ulaşarak hem seri üretim hem de üst düzey yarı iletken uygulamaları için idealdir.

Tam otomatik çalışma ve MES bağlantısı ile bu makine üretim verimliliğini, süreç tutarlılığını ve izlenebilirliği önemli ölçüde artırır.


Temel Teknik Özellikler

Entegre Temizlik ve Ağda Sistemi

  • Seramik disk temizleme + çift ağda istasyonlarını birleştirir
  • Tek adımda işleme: temizleme → kurutma → cilalama
  • Paralel çalışma verimi artırır

Ultra Yüksek Hassasiyetli Hizalama

  • CCD görsel konumlandırma sistemi
  • Hizalama hassasiyeti: ±0,02 mm
  • Hassas yonga plakası yerleşimi ve yapıştırma kalitesi sağlar

Kontrollü Balmumu Biriktirme

  • Balmumu miktarı: Gofret başına 0,8 g ±0,05 g
  • Düzgün dağılım, taşlama sırasında dengeli montaj sağlar

Kararlı Basınç Kontrolü

  • Pnömatik sistem 5-10 N/cm² eşit basınç sağlar
  • Yonga plakası çarpılmasını ve yapıştırma kusurlarını önler

Yüksek Verim ve Süreç Kararlılığı

  • 99,9%'ye kadar verim oranı
  • Otomatik parametre ayarı ile gerçek zamanlı izleme (±3% tolerans)

Teknik Özellikler

Parametre Değer
Boyutlar 7740 × 3390 × 2300 mm
Güç Kaynağı AC 380V, 50Hz, 90 kW
Pnömatik Tedarik 2 m³/saat, 0,4-0,5 MPa (yağsız kuru hava)
Su Temini 2 T/h @ 0,3 MPa, ≥12 MΩ-cm DI su

Çalışma Prensibi

1. Seramik Disk Temizleme Aşaması

  • Ultrasonik temizleme sistemi mikron düzeyindeki partikülleri ve kirleticileri temizler
  • Yüksek saflıkta DI su kullanır (≥12 MΩ-cm)
  • Hava bıçağı + vakumlu kurutma ile birlikte sıfır kalıntı sağlar

2. Otomatik Ağda Süreci

  • Görüş sistemi disk koordinatlarını algılar
  • Programlanabilir dağıtım başlığı tek tip mum tabakası uygular
  • Wafer kontrollü basınç koşulları altında monte edilir

3. Akıllı Süreç Kontrolü

  • PLC sistemi temizleme ve cilalama modüllerini senkronize eder
  • Saatte 30 diske kadar paralel işlemeyi destekler
  • Kalınlık sensörleri mum homojenliğini gerçek zamanlı olarak izler

Üretim Kapasitesi

Gofret Boyutu Disk Çapı Miktar Çevrim Süresi
4 inç Φ485 mm 11 adet 5 dakika/disk
4 inç Φ576 mm 13 adet 6 dakika/disk
6 inç Φ485 mm 6 adet 3 dakika/disk
6 inç Φ576 mm 8 adet 4 dakika/disk
8 inç Φ485 mm 3 adet 2 dakika/disk
8 inç Φ576 mm 5 adet 3 dakika/disk

Uygulamalar

Yarı İletken Gofret Ön İşleme

  • Taşlama / inceltme / parlatma öncesi Wafer montajı
  • Şunlar için uygundur:
    • Silisyum (Si)
    • Silisyum Karbür (SiC)
    • Galyum Nitrür (GaN)

Bileşik Yarı İletken Üretimi

  • GaN, SiC güç cihazları
  • Gelişmiş alt tabaka işleme

Optik ve Kristal Malzemeler

  • Safir yüzeyler
  • Hassas seramikler
  • Optik bileşenler

MEMS ve İleri Malzemeler

  • Mikrofabrikasyon wafer hazırlığı
  • Özel malzeme işleme

Temel Avantajlar

  • Yüksek Entegrasyon: Tek bir sistemde temizleme + kurutma + cilalama
  • Enerji Verimliliği: Su geri dönüşüm oranı >80%, azaltılmış tüketim
  • Yüksek Verim: 30 disk/saate kadar
  • Akıllı Üretime Hazır: MES/ERP entegrasyonu desteklenir
  • Esnek Özelleştirme: Φ300-650 mm standart dışı diskleri destekler
  • Hızlı Geçiş: Takım değiştirme süresi <3 dakika

Performans Özetleri

  • Balmumu homojenlik sapması: ≤±3%
  • Su tüketimi: ≤0,5 L/disk
  • Tam izlenebilirlik ile otomatik operasyon
  • İstikrarlı ve tekrarlanabilir süreç kontrolü

SSS

S1: Yüksek verim nasıl sağlanır?

Özel bir CCD görsel hizalama sistemi ±0,02 mm konumlandırma hassasiyeti sağlayarak tutarlı yonga plakası montaj kalitesi sağlar.

S2: Su tüketim seviyesi nedir?

Sistem, disk başına ≤0,5 L kadar düşük tüketimle >80% su geri dönüşümü sağlar.

S3: Hızlı wafer boyutu değiştirmeyi destekliyor mu?

Evet, akıllı fikstür kütüphanesi, HMI aracılığıyla 3 dakika içinde otomatik takım değiştirmeye olanak tanır.

Değerlendirmeler

Henüz değerlendirme yapılmadı.

“Ceramic Disc Cleaning and Waxing Integrated Machine for Semiconductor Wafer Mounting and Pre-Processing” için yorum yapan ilk kişi siz olun

E-posta adresiniz yayınlanmayacak. Gerekli alanlar * ile işaretlenmişlerdir