Ti/Cu fémmel bevont szilíciumszelet titánréz porlasztott szelet MEMS mikroelektronikai vezető szubsztrátumokhoz

A Ti/Cu fémmel bevont szilíciumszelet egy kiváló minőségű funkcionális szelet, amelyet egy titán tapadóréteg és egy réz vezető réteg szilíciumszubsztrátra történő, magnetronporlasztásos technológiával történő leválasztásával állítanak elő. A titánréteg javítja a film tapadását és stabilitását, míg a rézréteg kiváló elektromos vezetőképességet biztosít. Ezt a terméket széles körben használják a mikroelektronikában, a MEMS gyártásban, a laboratóriumi kutatásban és a vékonyréteg-eljárások fejlesztésében.

A Ti/Cu fémbevonatú szilíciumszeletet szabványos vezető és folyamat-kompatibilis szubsztrátként tervezték a fejlett kutatási és ipari alkalmazásokhoz. A szilícium ostyatechnológia és a fém vékonyréteg bevonat kombinálásával stabil platformot biztosít elektromos, kémiai és mikrogyártási folyamatokhoz.

A Ti/Cu bevonatrendszer szerkezete egyszerre biztosítja a mechanikai megbízhatóságot és a funkcionális vezetőképességet. Különösen alkalmas olyan alkalmazásokhoz, amelyek megbízható fémfelületeket, egyenletes felületi vezetőképességet és a szabványos félvezető-feldolgozási technikákkal való kompatibilitást igényelnek.

A termék támogatja az ostyaméret, a hordozó típusa és a filmvastagság testreszabását, így alkalmas mind a kisléptékű kutatási kísérletekhez, mind a kísérleti gyártási környezetekhez.


Fő jellemzők

  • Erős tapadási teljesítmény
    A titán tapadóréteg jelentősen javítja a rézfilm és a szilíciumszubsztrát közötti kötést, csökkentve a leválás és a leválás kockázatát.
  • Nagy elektromos vezetőképesség
    A réz felületi réteg alacsony ellenállást és stabil elektromos teljesítményt biztosít az eszközök teszteléséhez és a vezető alkalmazásokhoz.
  • Kiváló filmegyenletesség
    A magnetronos porlasztás egyenletes bevonatvastagságot és sima felületi morfológiát biztosít a teljes ostyán.
  • Jó folyamat-kompatibilitás
    Kompatibilis a litográfiával, maratással, galvanizálással, leválasztással és a szokásos félvezetőgyártási eljárásokkal.
  • Rugalmas testreszabás
    Többféle ostyaméretben, hordozótípusban és fémrétegvastagság-kombinációban kapható.

Tipikus struktúra

Alátét + titán tapadó réteg + réz vezető réteg

  • Alátét: Szilícium / kvarc / üveg (opcionális)
  • Tapadó réteg: Titán (Ti)
  • Vezető réteg: Réz (Cu)
  • Lerakási módszer: Magnetron porlasztás

A Ti réteg a hordozó és a rézfilm közötti határfelületi kötőrétegként működik, biztosítva a szerkezeti stabilitást. A Cu réteg biztosítja a funkcionális vezető felületet az elektromos és technológiai alkalmazásokhoz.


Műszaki adatok

Tétel Leírás
Wafer méret 2″, 4″, 6″, 8″, egyedi méretben
Alátét Anyag Szilícium, kvarc, BF33 üveg (opcionális)
Kristály orientáció , stb.
Ellenállás Alacsony / Közepes / Magas (testreszabható)
Ti vastagság 10-50 nm (tipikus tartomány)
Cu vastagság 50 nm - 1 µm (porlasztva), vastagabb galvanizálással
Bevonási módszer Magnetron porlasztás
Bevonat oldal Egyoldalas vagy kétoldalas

Gyártási folyamat

A Ti/Cu fémbevonatú ostyát vákuum magnetronporlasztásos technológiával állítják elő. Először egy titánréteget helyeznek el a megtisztított szilíciumfelületen a tapadás javítása érdekében. Ezután a titánréteg tetejére egy rézréteg kerül, hogy egységes vezető felületet képezzen.

A vastagabb rézrétegeket igénylő alkalmazások esetében a porlasztott rézréteg galvanizáláshoz magvető rétegként használható, ami további fémnövekedést tesz lehetővé a mikronos vastagság elérése érdekében, miközben erős tapadást biztosít.

Ez a kombinált eljárás egyszerre biztosítja a magas filmminőséget és a rugalmas funkcionális terjeszkedést.


Alkalmazások

  • Félvezető eszközök kutatása és prototípusgyártás
  • Ohmos érintkezés és elektródagyártás
  • MEMS mikroszerkezetű csíraréteg fejlesztése
  • Galvanizáló alap RDL és vastag rézszerkezetekhez
  • Vékonyfilmek és nanoanyagok növekedésének kutatása
  • Felületi vezetőképesség vizsgálata és anyagelemzés
  • SEM, AFM és felületi metrológiai mintaelőkészítés
  • Bio-elektrokémiai érzékelők és microarray platformok

Előnyök az egyszerű fémbevonattal szemben

A szilíciumra történő közvetlen rézbevonattal összehasonlítva a Ti/Cu szerkezet:

  • Jobb tapadási stabilitás termikus és kémiai igénybevétel esetén
  • A réz hámlásának vagy repedezésének csökkent kockázata
  • Javított folyamathozam a mikrogyártási lépésekben
  • Idővel stabilabb elektromos teljesítmény
  • Jobb kompatibilitás a többlépcsős félvezető eljárásokkal

Ez megbízhatóbb megoldást jelent mind a kutatólaboratóriumok, mind az ipari K+F környezetek számára.


GYIK

1. kérdés: Miért használnak titániumot rézbevonat alatt?
A titán adhéziós rétegként működik, amely javítja a réz és a szilícium szubsztrátumok közötti kötést, megakadályozva a leválást a feldolgozás és a használat során.

2. kérdés: Lehet-e növelni a réz vastagságát?
Igen. A porlasztott réz felhasználható galvanizáló rétegként, hogy az alkalmazás követelményeitől függően vastagabb fémrétegeket érjen el.

3. kérdés: Az ostya mindkét oldala bevonható?
Igen. Kérésre egy- vagy kétoldalas bevonási lehetőség is rendelkezésre áll.

4. kérdés: Milyen szubsztrát lehetőségek állnak rendelkezésre?
A leggyakoribb a szabványos szilícium, de speciális optikai vagy kémiai alkalmazásokhoz kvarc és üveg szubsztrátumok is rendelkezésre állnak.

Értékelések

Még nincsenek értékelések.

„Ti/Cu Metal-Coated Silicon Wafer Titanium Copper Sputtered Wafer for MEMS Microelectronics Conductive Substrate” értékelése elsőként

Az e-mail címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöltük