Высокоточное оборудование для склеивания пластин Si-Si, SiC-SiC и гетерогенной интеграции

Оборудование для скрепления пластин - это высокопроизводительная система, разработанная для передовой упаковки полупроводников, производства МЭМС и интеграции полупроводников третьего поколения.

Оборудование для склеивания пластин - это высокопроизводительная система, разработанная для передовой упаковки полупроводников, производства МЭМС и интеграции полупроводников третьего поколения. Оно поддерживает пластины размером от 2 до 12 дюймов и позволяет осуществлять прямое склеивание при комнатной температуре и гидрофильное склеивание, что делает его особенно подходящим для склеивания Si-Si, SiC-SiC и гетерогенных материалов (Si-SiC, GaN, сапфир и т. д.).

Система, предназначенная как для научно-исследовательских работ, так и для массового производства, объединяет в себе сверхточное выравнивание, замкнутый цикл контроля давления и температуры, а также условия склеивания в сверхвысоком вакууме, обеспечивая высокую прочность склеивания, отличную однородность интерфейса и низкую плотность дефектов.

Основные характеристики

1. Передовая технология склеивания при комнатной температуре

  • Устранение теплового напряжения и коробления пластин
  • Обеспечивает склеивание термочувствительных и разнородных материалов
  • Поддерживает гидрофильное соединение и плазменно-активированное соединение

2. Сверхвысокая точность выравнивания

  • Точность выравнивания маркировки: ≤ ±2 мкм
  • Точность выравнивания краев: ≤ ±50 мкм
  • Опциональная модернизация системы субмикронного выравнивания

3. Высокая прочность сцепления и качество интерфейса

  • ≥ 2,0 Дж/м² (прямое соединение Si-Si при комнатной температуре)
  • До ≥5 Дж/м² при плазменной активации поверхности
  • Превосходная чистота интерфейса в условиях сверхвысокого напряжения

4. Широкая совместимость с материалами

Поддерживает соединение:

  • Полупроводники: Si, SiC, GaN, GaAs, InP
  • Оптические материалы: Сапфир, стекло
  • Функциональные материалы: LiNbO₃, алмаз

5. Гибкость технологических возможностей

  • Размер пластин: 2″ - 12″
  • Совместимость с образцами неправильной формы
  • Дополнительные модули: предварительный нагрев / отжиг (RT-500°C)

Технические характеристики

Параметр Технические характеристики
Методы скрепления Прямое скрепление / плазменно-активированное скрепление
Размер пластины 2″ - 12″
Диапазон давления 0 - 10 МПа
Максимальная сила 100 кН
Диапазон температур Комнатная температура - 500°C (опция)
Уровень вакуума ≤ 5 × 10-⁶ Торр
Точность выравнивания ≤ ±2 мкм (метка), ≤ ±50 мкм (кромка)
Прочность сцепления ≥ 2,0 Дж/м² (RT Si-Si)

Интеллектуальная система управления

  • Сенсорный экран промышленного класса HMI
  • Поддерживает хранение 50+ рецептов процессов
  • Замкнутый контур управления давлением и температурой в реальном времени
  • Стабильные и повторяющиеся характеристики процесса

Безопасность и надежность

  • Тройная защита от блокировки (давление / температура / вакуум)
  • Система аварийного отключения
  • Разработан для совместимости с чистыми помещениями класса 100

Дополнительные конфигурации

  • Роботизированная система обработки пластин
  • Интерфейс связи SECS/GEM (готовность к интеграции в фабрику)
  • Модуль последовательного контроля
  • Установка для активации плазменной поверхности

Типовые применения

1. Упаковка МЭМС

Герметичное уплотнение для датчиков, таких как акселерометры и гироскопы

2. Интеграция 3D ИС

Штабелирование пластин для TSV и усовершенствованной упаковки

3. Составные полупроводниковые приборы

Склеивание и перенос слоев в силовых устройствах GaN / SiC

4. КМОП-датчики изображения (CIS)

Низкотемпературное склеивание КМОП-подложек и оптических субстратов

5. Биочипы и микрофлюидика

Надежное соединение для устройств "лаборатория-на-чипе

Пример процесса

Соединение LiNbO₃ - SiC пластин (комнатная температура)

  • Обеспечивает прочное и равномерное склеивание поверхностей
  • Проверено с помощью поперечного ТЕМ-изображения
  • Подходит для высокочастотных и оптоэлектронных приложений

ВОПРОСЫ И ОТВЕТЫ

Q1: Почему стоит выбрать склеивание пластин при комнатной температуре вместо термического склеивания?

Склеивание при комнатной температуре позволяет избежать термического несоответствия и напряжения, что делает его идеальным для гетерогенных материалов и повышает выход продукции в современной упаковке.

Вопрос 2: Какие материалы можно склеивать?

Система поддерживает широкий спектр материалов, включая:

  • Полупроводники: Si, SiC, GaN
  • Оксиды: SiO₂, LiNbO₃
  • Металлы: Cu, Au

Почему стоит выбрать эту систему

  • Проверенная эффективность при производстве силовых устройств SiC
  • Прочность соединения подтверждена лабораторными испытаниями и анализом TEM
  • Предназначен как для исследовательских институтов, так и для промышленных заводов
  • Модульная архитектура обеспечивает долгосрочную масштабируемость и возможность модернизации

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “High-Precision Wafer Bonding Equipment for Si-Si, SiC-SiC & Heterogeneous Integration”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *