Категория: Ion Implantation Equipment
-
Оборудование для ионной имплантации
Система высоколучевой ионной имплантации Ai200HC.D для обработки кремниевых пластин размером 6/8 дюйма и интеллектуальной резки
-
Оборудование для ионной имплантации
Система ионной имплантации Ai250 (средний пучок) при комнатной температуре для обработки 6-8-дюймовых кремниевых пластин
-
Оборудование для ионной имплантации
Система высокотемпературной ионной имплантации Ai300 (средний луч) для обработки 12-дюймовых пластин
-
Оборудование для ионной имплантации
Среднелучевая высокотемпературная система ионной имплантации Ai350HT для обработки 6/8-дюймовых SiC и кремниевых пластин
-
Оборудование для ионной имплантации
Высокоэффективное оборудование для ионной имплантации Ai80HC (High Beam) для легирования кремниевых пластин
CUSTOM REQUIREMENTS
Looking for Ion Implantation Equipment?
Tell us your required specifications, dimensions, quantity, application and technical requirements. ZMSH supports customized semiconductor wafers, advanced materials, equipment, consumables and precision components.