Categorie: Ion Implantation Equipment
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai200HC.D ionenimplantatiesysteem met hoge bundel voor 6/8 inch siliciumwaferverwerking en Smart Cut-toepassingen
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem op kamertemperatuur voor verwerking van 6-8 inch siliciumwafers
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai300 (Medium Beam) Ionenimplantatiesysteem op hoge temperatuur voor 12-inch waferverwerking
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai350HT ionenimplantatiesysteem met middelhoge bundel bij hoge temperatuur voor verwerking van 6/8 inch SiC- en siliciumwafers
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Hoog rendement Ai80HC (High Beam) Ion implantatie-apparatuur voor geavanceerde silicium wafer doping
CUSTOM REQUIREMENTS
Looking for Ion Implantation Equipment?
Tell us your required specifications, dimensions, quantity, application and technical requirements. ZMSH supports customized semiconductor wafers, advanced materials, equipment, consumables and precision components.