Categorie: Ion Implantation Equipment
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai200HC.D ionenimplantatiesysteem met hoge bundel voor 6/8 inch siliciumwaferverwerking en Smart Cut-toepassingen
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem op kamertemperatuur voor verwerking van 6-8 inch siliciumwafers
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai300 (Medium Beam) Ionenimplantatiesysteem op hoge temperatuur voor 12-inch waferverwerking
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai350HT ionenimplantatiesysteem met middelhoge bundel bij hoge temperatuur voor verwerking van 6/8 inch SiC- en siliciumwafers
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Hoog rendement Ai80HC (High Beam) Ion implantatie-apparatuur voor geavanceerde silicium wafer doping
