Pastilha de quartzo fundido de alta pureza de 8 polegadas (200 mm) para sensores de precisão e aplicações ópticas

A pastilha de quartzo fundido de 8 polegadas é um substrato de quartzo sintético de alta pureza premium (SiO₂ ≥99,99%) projetado para aplicações de alta precisão em sistemas de semicondutores, MEMS, ópticos e laser. A sua expansão térmica ultra baixa, a excecional transmitância UV-IR e a excelente resistência química tornam-no ideal para ambientes exigentes como a fotolitografia, a gravação, a deposição de película fina e o fabrico de sensores de alta precisão.

A pastilha de quartzo fundido de 8 polegadas é um substrato de quartzo sintético de alta pureza premium (SiO₂ ≥99,99%) projetado para aplicações de alta precisão em sistemas de semicondutores, MEMS, ópticos e laser. A sua expansão térmica ultra baixa, a excecional transmitância UV-IR e a excelente resistência química tornam-no ideal para ambientes exigentes como a fotolitografia, a gravação, a deposição de película fina e o fabrico de sensores de alta precisão.

Cada bolacha é cuidadosamente produzida sob um rigoroso controlo de qualidade num ambiente de sala limpa para garantir uma planicidade, um acabamento de superfície e uma pureza superiores. Isto garante um desempenho fiável para aplicações industriais, de investigação e aeroespaciais críticas.

Principais caraterísticas e vantagens

  • Pureza ultra-elevada (≥99,99%): Minimiza a contaminação em processos de semicondutores e ópticos.

  • Estabilidade térmica excecional: Ponto de amolecimento ~1683°C, tolerância a curto prazo até 1450°C para processos a alta temperatura.

  • Expansão térmica ultra-baixa (0,55 × 10-⁶/K): Assegura a estabilidade dimensional sob tensão térmica.

  • Transmissão ótica superior: Gama UV-IR 185 nm-2,5 µm, ideal para fotolitografia, ótica laser e sensores UV.

  • Elevada qualidade da superfície: Ra ≤1,0 nm e TTV ≤10 µm para uma deposição uniforme de película fina e uma integração precisa do sensor.

  • Resistência química: Resistente à maioria dos ácidos (exceto HF) e álcalis, adequado para gravação húmida e ambientes agressivos.

  • Resistência à radiação e estabilidade dieléctrica: Suporta aplicações aeroespaciais e de física de alta energia.

  • Formas e tamanhos personalizáveis: Bolachas redondas, quadradas, anulares ou em forma de sector com polimento opcional, revestimentos AR/IR/DLC e microfabricação.

Aplicações

Indústria Aplicação Benefício
Semicondutores Substratos de fotomáscaras, suportes de gravação, almofadas de polimento CMP Estabilidade a altas temperaturas, defeitos ultra-baixos, garante a precisão do fabrico de chips
Fotovoltaica Bolachas de processo PECVD, substratos de deposição de película fina Resistência ao choque térmico, melhora a eficiência das células solares
Optoelectrónica Substratos LED/LD, janelas laser, sensores ópticos Elevada transmissão UV-IR, baixa autofluorescência, melhora o desempenho do dispositivo
Ótica de precisão Substratos de lentes, prismas, divisores de feixe, janelas IR Baixa expansão térmica, elevada homogeneidade, garante estabilidade ótica
Investigação e laboratório Radiação sincrotrónica, experiências VUV, detectores de alta energia Resistente à radiação, resiste a condições extremas
Aeroespacial Janelas ópticas de satélite, painéis de observação de alta temperatura Resistência a choques térmicos, fiabilidade de nível espacial

Especificações técnicas

Parâmetro Especificação
Material Quartzo sintético fundido (SiO₂ ≥99,99%)
Diâmetro 200 mm (8 polegadas)
Gama de espessuras 100 µm - 3000 µm (personalizável)
Variação da espessura total (TTV) ≤10 µm
Rugosidade da superfície (Ra) ≤1,0 nm
Teor total de impurezas ≤2,0 µg/g
Coeficiente de expansão térmica 0,55 × 10-⁶/K (20-300°C)
Resistência à temperatura Ponto de amolecimento 1683°C, curto prazo até 1450°C
Transmitância UV >90% (200-260 nm)
Nivelamento da superfície Alta precisão, TTV ≤10 µm
Opções de forma Redondo (padrão), formas personalizadas disponíveis
Certificações RoHS, ISO9001

FAQ

  1. P: Qual é a espessura padrão de uma pastilha de quartzo de 8 polegadas?
    A: A espessura padrão é de 0,5-1,0 mm, com opções personalizadas até 10 mm para aplicações especializadas de semicondutores e ópticas.

  2. P: Porquê escolher bolachas de quartzo fundido em vez de bolachas de silício?
    A: As bolachas de quartzo fundido proporcionam uma transparência UV superior, uma maior estabilidade térmica (até 1730°C), resistência química e estabilidade dimensional, tornando-as ideais para litografia de alta precisão e processos exigentes.

  3. P: A FUYAO pode fornecer formas de bolacha e tratamentos de superfície personalizados?
    A: Sim. As opções incluem bolachas redondas, quadradas, anulares e sectoriais, com tratamentos de superfície como polimento ótico, revestimentos AR/IR/DLC, perfuração e ranhuras.

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