8インチ石英ウェーハは、半導体、MEMS、光学、レーザーシステムの高精度アプリケーション向けに設計されたプレミアム高純度合成石英（SiO₂ ≥99.99%）基板です。超低熱膨張、卓越したUV-IR透過率、優れた耐薬品性により、フォトリソグラフィー、エッチング、薄膜蒸着、高精度センサー製造などの厳しい環境に最適です。.
各ウエハーは、優れた平坦度、表面仕上げ、純度を保証するため、クリーンルーム環境で厳しい品質管理のもと慎重に製造されています。これにより、重要な産業、研究、航空宇宙用途において信頼性の高い性能を保証します。.
主な特徴と利点
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超高純度 (≥99.99%):半導体および光学プロセスにおけるコンタミネーションを最小限に抑えます。.
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卓越した熱安定性:軟化点～1683℃、高温プロセス用の短期許容温度は1450℃まで。.
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超低熱膨張 (0.55 × 10-⁶/K):熱応力下での寸法安定性を確保。.
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優れた光伝送:UV-IR レンジ 185 nm-2.5 µm、フォトリソグラフィー、レーザー光学、UV センサーに最適。.
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高い表面品質:Ra ≤1.0 nm、TTV ≤10 µmで、均一な薄膜蒸着と精密なセンサー統合を実現。.
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耐薬品性:ほとんどの酸（HFを除く）とアルカリに耐性があり、ウェットエッチングや過酷な環境に適している。.
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耐放射線性と誘電安定性:航空宇宙と高エネルギー物理学アプリケーションをサポートします。.
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カスタマイズ可能な形状とサイズ:研磨、AR/IR/DLCコーティング、微細加工をオプションで提供。.
アプリケーション
| 産業 | 申し込み | ベネフィット |
|---|---|---|
| 半導体 | フォトマスク基板、エッチングキャリア、CMP研磨パッド | 高温安定性、超低欠陥、チップ製造精度を確保 |
| 太陽光発電 | PECVDプロセスウェハー、薄膜蒸着基板 | 耐熱衝撃性、太陽電池効率向上 |
| オプトエレクトロニクス | LED/LD基板、レーザーウィンドウ、光センサー | UV-IR透過率が高く、自家蛍光が少ないため、デバイス性能が向上する。 |
| 精密光学 | レンズ基板、プリズム、ビームスプリッター、IRウィンドウ | 低熱膨張、高い均質性、光学的安定性 |
| リサーチ＆ラボ | 放射光、VUV実験、高エネルギー検出器 | 耐放射線性、過酷な条件にも耐える |
| 航空宇宙 | 衛星光学窓、高温観測パネル | 熱衝撃耐久性、宇宙仕様の信頼性 |
技術仕様
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 素材 | 合成石英（SiO₂ ≥99.99%） |
| 直径 | 200mm（8インチ） |
| 厚さ範囲 | 100 µm - 3000 µm（カスタマイズ可能） |
| 総厚み変動（TTV） | ≤10 µm |
| 表面粗さ（Ra） | ≤1.0 nm |
| 総不純物含有量 | ≤2.0 µg/g |
| 熱膨張係数 | 0.55 × 10-⁶/k (20-300°c) |
| 耐熱温度 | 軟化点1683℃、短期は1450℃まで |
| 紫外線透過率 | >90% (200-260 nm) |
| 表面の平坦度 | 高精度、TTV ≤10 µm |
| 形状オプション | 丸型（標準）、カスタム形状も可能 |
| 認証 | RoHS、ISO9001 |
よくあるご質問
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Q: 8インチの石英ウェーハの標準的な厚さはどのくらいですか？
A: 標準的な厚さは0.5～1.0mmで、特殊な半導体や光学用途には10mmまでのカスタムオプションがある。. -
Q: シリコンウェーハではなく石英ウェーハを選ぶ理由は何ですか？
A: 溶融石英ウェーハは、優れた紫外線透過性、高い熱安定性（1730℃まで）、耐薬品性、寸法安定性を備えており、高精度リソグラフィーや過酷なプロセスに最適です。. -
Q: 特注のウェーハ形状や表面処理は可能ですか？
A: はい。光学研磨、AR/IR/DLCコーティング、穴あけ、溝加工などの表面処理を施した丸型、角型、環状、セクター型ウェーハなどのオプションがあります。.
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