8-inch hoogzuiver gesmolten kwartswafer (200 mm) voor precisiesensoren en optische toepassingen

De 8-inch gesmolten kwartswafer is een eersteklas hoogzuiver synthetisch kwarts (SiO₂ ≥99,99%) substraat dat is ontwikkeld voor zeer nauwkeurige toepassingen in halfgeleiders, MEMS, optische en lasersystemen. De ultralage thermische uitzetting, uitzonderlijke UV-IR transmissie en uitstekende chemische weerstand maken het ideaal voor veeleisende omgevingen zoals fotolithografie, etsen, dunne-film depositie en hoge-precisie sensor fabricage.

De 8-inch gesmolten kwartswafer is een eersteklas hoogzuiver synthetisch kwarts (SiO₂ ≥99,99%) substraat dat is ontwikkeld voor zeer nauwkeurige toepassingen in halfgeleiders, MEMS, optische en lasersystemen. De ultralage thermische uitzetting, uitzonderlijke UV-IR transmissie en uitstekende chemische weerstand maken het ideaal voor veeleisende omgevingen zoals fotolithografie, etsen, dunne-film depositie en hoge-precisie sensor fabricage.

Elke wafer wordt zorgvuldig geproduceerd onder strenge kwaliteitscontrole in een cleanroomomgeving om superieure vlakheid, oppervlakteafwerking en zuiverheid te garanderen. Dit garandeert betrouwbare prestaties voor kritieke industriële, onderzoeks- en ruimtevaarttoepassingen.

Belangrijkste functies en voordelen

  • Ultrahoge zuiverheid (≥99,99%): Minimaliseert vervuiling in halfgeleider- en optische processen.

  • Uitzonderlijke thermische stabiliteit: Verwekingspunt ~1683°C, kortstondige tolerantie tot 1450°C voor processen bij hoge temperaturen.

  • Ultralage thermische uitzetting (0,55 × 10-⁶/K): Zorgt voor maatvastheid onder thermische belasting.

  • Superieure optische transmissie: UV-IR-bereik 185 nm-2,5 µm, ideaal voor fotolithografie, laseroptiek en UV-sensoren.

  • Hoge oppervlaktekwaliteit: Ra ≤1,0 nm en TTV ≤10 µm voor uniforme dunne-filmdepositie en nauwkeurige sensorintegratie.

  • Chemische weerstand: Bestand tegen de meeste zuren (behalve HF) en alkaliën, geschikt voor nat etsen en ruwe omgevingen.

  • Stralingsweerstand en diëlektrische stabiliteit: Ondersteunt toepassingen in de ruimtevaart en hoge-energiefysica.

  • Aanpasbare vormen en maten: Ronde, vierkante, ringvormige of sectorvormige wafers met optioneel polijsten, AR/IR/DLC-coatings en microfabricage.

Toepassingen

Industrie Toepassing Voordeel
Halfgeleider Fotomasker substraten, etsdragers, CMP polijstpads Stabiliteit bij hoge temperatuur, ultralage defecten, garandeert precisie bij chipfabricage
Fotovoltaïsche energie PECVD-proces wafers, substraten voor dunne-filmafzetting Weerstand tegen thermische schokken, verbetert de efficiëntie van zonnecellen
Opto-elektronica LED/LD-substraten, laservensters, optische sensoren Hoge UV-IR-transmissie, lage autofluorescentie, verbetert de prestaties van het apparaat
Precisie Optiek Lenssubstraten, prisma's, bundelsplitsers, IR-vensters Lage thermische uitzetting, hoge homogeniteit, zorgt voor optische stabiliteit
Onderzoek & Lab Synchrotronstraling, VUV-experimenten, hoogenergetische detectoren Stralingsbestendig, bestand tegen extreme omstandigheden
Ruimtevaart Optische vensters voor satellieten, observatiepanelen voor hoge temperaturen Duurzaamheid bij thermische schokken, betrouwbaarheid op ruimtevaartniveau

Technische specificaties

Parameter Specificatie
Materiaal Synthetisch gesmolten kwarts (SiO₂ ≥99,99%)
Diameter 200 mm (8-inch)
Diktebereik 100 µm - 3000 µm (aanpasbaar)
Totale diktevariatie (TTV) ≤10 µm
Oppervlakteruwheid (Ra) ≤1,0 nm
Totaal gehalte aan onzuiverheden ≤2,0 µg/g
Thermische uitzettingscoëfficiënt 0,55 × 10-⁶/K (20-300°C)
Temperatuurbestendigheid Verwekingspunt 1683°C, kortstondig tot 1450°C
UV-overbrenging >90% (200-260 nm)
Vlakheid oppervlak Hoge precisie, TTV ≤10 µm
Vorm Opties Rond (standaard), aangepaste vormen beschikbaar
Certificeringen RoHS, ISO9001

FAQ

  1. V: Wat is de standaarddikte van een kwartswafer van 8 inch?
    A: De standaarddikte is 0,5-1,0 mm, met aangepaste opties tot 10 mm voor gespecialiseerde halfgeleider- en optische toepassingen.

  2. V: Waarom zou je kiezen voor gesmolten kwartswafers in plaats van siliciumwafers?
    A: Gesmolten kwartswafers bieden superieure UV-transparantie, hogere thermische stabiliteit (tot 1730°C), chemische weerstand en maatvastheid, waardoor ze ideaal zijn voor hoge-precisielithografie en ruwe processen.

  3. V: Kan FUYAO wafervormen en oppervlaktebehandelingen op maat leveren?
    A: Ja. De opties omvatten ronde, vierkante, ringvormige en sectorvormige wafers, met oppervlaktebehandelingen zoals optisch polijsten, AR/IR/DLC-coatings, boren en groeven.

Beoordelingen

Er zijn nog geen beoordelingen.

Wees de eerste om “8-Inch High-Purity Fused Quartz Wafer (200mm) for Precision Sensors and Optical Applications” te beoordelen

Uw e-mailadres wordt niet gepubliceerd. Vereiste velden zijn gemarkeerd met *