Сухой полировальный станок серии WDP-1240 для снятия напряжения с 300-мм пластин и обработки обратной стороны

Станок для сухой полировки серии WDP-1240 - это современная прецизионная система, разработанная для снятия напряжения с обратной стороны пластин и удаления поврежденного слоя при производстве полупроводников. Специально разработанное для обработки 300-миллиметровых пластин, это оборудование использует процесс сухой полировки для достижения высококачественной обработки поверхности при минимальном воздействии на окружающую среду.

Сухой полировальный станок серии WDP-1240 для снятия напряжения с 300-мм пластин и обработки обратной стороныСтанок для сухой полировки серии WDP-1240 - это современная прецизионная система, разработанная для снятия напряжения с обратной стороны пластин и удаления поврежденного слоя при производстве полупроводников. Специально разработанное для обработки 300-миллиметровых пластин, это оборудование использует процесс сухой полировки для достижения высококачественной обработки поверхности при минимальном воздействии на окружающую среду.

Эта система особенно подходит для передовых упаковочных приложений, где тонкость пластин и контроль напряжений имеют решающее значение. Эффективно удаляя подповерхностные слои повреждений, вызванных процессами шлифования, WDP-1240 помогает улучшить целостность пластин, уменьшить коробление и повысить механическую прочность.

По сравнению с традиционными системами мокрой полировки, сухой процесс устраняет загрязнения, связанные со шламом, и снижает требования к переработке отходов, что делает его более экологичным и экономически эффективным решением.


Ключевые особенности и технические преимущества

Технология сухой полировки для снижения воздействия на окружающую среду

В WDP-1240 используется полностью сухой процесс полировки, исключающий необходимость использования химической суспензии. Это значительно снижает нагрузку на окружающую среду, упрощает обслуживание и сокращает эксплуатационные расходы.

Эффективное снятие стресса и устранение повреждений

Разработанная для удаления поврежденного слоя с обратной стороны после шлифовки пластин, система эффективно снимает внутреннее напряжение, обеспечивая повышенную плоскостность пластин и стабильность структуры.

Повышенная производительность тонких пластин

Минимизируя концентрацию напряжений, машина помогает предотвратить их появление:

  • Растрескивание пластин
  • Скол края
  • Деформация

Это позволяет повысить выход продукции, особенно для крупногабаритных и ультратонких пластин.

Бесшовная интеграция с системами прореживания

WDP-1240 может быть интегрирован с таким оборудованием, как WG1251 Automatic Wafer Grinder, обеспечивая полностью автоматизированные производственные линии с безопасной и стабильной передачей пластин между процессами.

Стабильная и прочная механическая конструкция

Оборудование имеет конфигурацию с одним шпинделем, одним патроном и устройством правки, что обеспечивает постоянную производительность полировки и долгосрочную стабильность работы.


 Технические характеристики

Артикул Технические характеристики
Структура Шпиндель ×1 / Стол патрона ×1 / Приспособление для правки ×1
Мощность шпинделя 7,5 кВт / 11 кВт
Размер пластины До 12 дюймов (300 мм)
Тип процесса Сухая полировка
Размеры машины 1450 × 3380 × 1900 мм

Принцип работы

WDP-1240 работает, применяя контролируемую механическую полировку обратной стороны пластины с помощью высокоскоростного шпинделя и системы прецизионных патронов.

После истончения пластины под поверхностью часто остается поврежденный слой, создающий внутреннее напряжение. Процесс сухой полировки удаляет этот слой при строгом контроле давления и скорости удаления материала. В результате:

  • Равномерное качество поверхности
  • Снижение остаточного напряжения
  • Улучшенная плоскостность пластин

Встроенный блок правки обеспечивает постоянную производительность полировальных инструментов на протяжении всего процесса.


Диапазон применения

Серия WDP-1240 широко используется в:

  • Обработка обратной стороны полупроводниковых пластин
  • Усовершенствованная упаковка (WLCSP, упаковка с выступом)
  • Полировка кремниевых (Si) пластин
  • Обработка пластин из карбида кремния (SiC)
  • Применение для снятия напряжения с тонких пластин

Он поддерживает пластины размером 12 дюймов и ниже, что делает его подходящим как для основного производства полупроводников, так и для новых передовых технологий упаковки.


Основные преимущества

  • Низкое воздействие на окружающую среду
    Сухой процесс исключает образование шлама и сокращает количество отходов
  • Повышение урожайности
    Минимизирует растрескивание и коробление тонких пластин
  • Высокая стабильность процесса
    Надежная структура обеспечивает стабильные результаты
  • Интеграция производственных линий
    Совместимость с автоматизированными системами утонения пластин
  • Оптимизированы для усовершенствованной упаковки
    Разработан для полупроводниковых процессов нового поколения

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

Q1: В чем основное преимущество сухой полировки по сравнению с влажной?
О: Сухая полировка исключает использование шлама, что снижает воздействие на окружающую среду, упрощает обслуживание и снижает эксплуатационные расходы при сохранении высокого качества поверхности.

Вопрос 2: Какие размеры пластин поддерживаются?
О: WDP-1240 поддерживает пластины размером до 12 дюймов (300 мм), включая материалы Si и SiC.

Q3: Может ли эта машина быть интегрирована в производственную линию?
О: Да. Он может быть легко соединен с оборудованием для утонения пластин, таким как WG1251, обеспечивая автоматизированную передачу пластин и непрерывную обработку.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “WDP-1240 Series Dry Polishing Machine for 300mm Wafer Stress Relief and Backside Processing”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *