12-дюймовая сапфировая пластина - это высокопроизводительная монокристаллическая подложка из оксида алюминия (Al₂O₃), разработанная для передовых полупроводниковых, оптоэлектронных и высокотемпературных приложений. Она изготавливается из кристалла сапфира сверхвысокой чистоты с уровнем чистоты ≥99,99%, что обеспечивает превосходную структурную однородность и низкую плотность дефектов.
Сапфир широко известен своей исключительной механической твердостью, химической стабильностью и оптической прозрачностью, что делает его одним из самых надежных материалов для подложек в экстремальных условиях. 12-дюймовый формат представляет собой высококлассный размер промышленных пластин, предназначенных для массового производства эпитаксиальных слоев светодиодов и передовых электронных устройств.
В отличие от кремния, сапфир является электроизолятором, что делает его особенно подходящим для приложений, требующих высокочастотной изоляции, термической стабильности и оптической прозрачности.
Характеристики материала
Сапфир (α-Al₂O₃) - монокристаллический материал, обладающий уникальным сочетанием физических свойств:
- Чрезвычайно высокая твердость (Мооса 9)
- Отличная устойчивость к термоударам и высокотемпературным средам
- Выдающаяся химическая инертность к кислотам и щелочам
- Широкий диапазон оптического пропускания (от ультрафиолетового до среднего инфракрасного после полировки)
- Высокая диэлектрическая прочность и электроизоляция
Эти свойства делают сапфировые пластины предпочтительным выбором при производстве светодиодов, радиочастотных устройств, лазерных систем и электроники аэрокосмического класса.
Полировка и качество поверхности
Этот продукт поддерживает как процессы DSP (двухсторонняя полировка), так и SSP (односторонняя полировка), обеспечивая гибкость для различных производственных требований.
- Передняя поверхность: Полировка с эпи-готовностью (Ra < 0,3 нм)
- Задняя поверхность: Притертая или полуполированная в зависимости от спецификации
- Чистота поверхности: Обработка в чистом помещении класса 100
- Контроль загрязнения: сверхнизкий уровень содержания частиц и остатков металлов
Эти качества поверхности критически важны для процессов эпитаксиального роста, таких как MOCVD, MBE и PECVD, где однородность поверхности на атомном уровне напрямую влияет на производительность устройства.
Технические характеристики
| Параметр | Технические характеристики |
|---|---|
| Материал | Монокристаллический сапфир (Al₂O₃ ≥ 99,99%) |
| Диаметр | 2” - 12” (настраивается) |
| Толщина 12 дюймов | 3000 ± 20 мкм |
| Ориентация | С-плоскость (0001), А-плоскость, М-плоскость, R-плоскость |
| DSP / SSP | Доступно |
| ОФ Ориентация | a-плоскость 0 ± 0,3° |
| TTV | ≤ 15 мкм (12 дюймов) |
| BOW | -25 ~ 0 мкм (12 дюймов) |
| Warp | ≤ 30 мкм |
| Передняя поверхность | Эпиготовность (Ra < 0,3 нм) |
| Задняя поверхность | Притирка (Ra 0,6-1,2 мкм) |
| Упаковка | Вакуумная упаковка для чистых помещений |
Основные характеристики
- Сверхбольшая 12-дюймовая сапфировая подложка полупроводникового класса
- Высокочистый монокристалл Al₂O₃ (≥99.99%)
- Поддерживает варианты полировки DSP и SSP
- Доступно несколько кристаллографических ориентаций
- Отличная термическая стабильность и механическая прочность
- Обработка в чистых помещениях со сверхнизким уровнем загрязнения
- Подходит для высокотехнологичного эпитаксиального роста и исследовательских задач
Приложения
Производство светодиодов и оптоэлектроники
Сапфировые пластины с C-плоскостью широко используются в качестве подложек для производства светодиодов на основе GaN, включая синие, белые, ультрафиолетовые и глубоко ультрафиолетовые устройства.
Эпитаксиальный рост полупроводников
Поддерживает передовые эпитаксиальные процессы, такие как:
- MOCVD (металлоорганическое химическое осаждение из паровой фазы)
- MBE (молекулярно-лучевая эпитаксия)
- PECVD (плазменно-усиленный CVD)
Радиочастотные и высокочастотные устройства
Используется в гетеропереходных биполярных транзисторах (HBT), лазерных диодах (LD) и компонентах высокочастотной связи.
Ультрафиолетовое и лазерное излучение
Сапфировые подложки подходят для УФ-детекторов, лазерных окон и систем фотонной интеграции.
Высокотемпературная электроника
Используются в качестве термостойких изоляционных подложек в мощных и высокочастотных средах.
Параметры настройки
Мы предоставляем услуги по гибкой настройке для научных исследований и промышленного производства:
- Диаметр: 1”, 2”, 3”, 4”, 6”, 8”, 12”
- Ориентация кристаллов: C-плоскость / A-плоскость / M-плоскость / R-плоскость
- Возможность регулировки угла наклона
- Варианты обработки поверхности DSP / SSP
- Оптимизация толщины и TTV
- Обработка кромок и снятие фасок
- Индивидуальная упаковка (отдельные пластины / кассеты)
Каждая пластина отслеживается по уникальному серийному номеру, что обеспечивает контроль качества и прослеживаемость производства.
ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Вопрос 1: В чем основное преимущество сапфировых пластин перед кремниевыми?
Сапфир прозрачен и электроизолирован, что делает его идеальным для светодиодов и оптических приборов, в то время как кремний используется в основном для электронных схем.
Вопрос 2: Почему важна 12-дюймовая сапфировая пластина?
Он поддерживает крупномасштабное промышленное производство светодиодов и полупроводников, повышая эффективность и снижая стоимость единицы продукции при массовом производстве.
Вопрос 3: Что означают термины DSP и SSP?
DSP означает двухстороннюю полировку, а SSP - одностороннюю полировку. Они влияют на качество поверхности и пригодность к применению.
Вопрос 4: Можно ли использовать сапфировые пластины непосредственно для производства устройств?
Они используются в качестве подложек и требуют эпитаксиального роста или дополнительной обработки перед изготовлением конечного устройства.
Вопрос 5: Почему сапфир используется в светодиодах?
Потому что он обеспечивает стабильную структуру решетки для роста GaN и отличные тепловые и оптические характеристики.
Отзывы
Отзывов пока нет.