Archives: Products
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Apparecchiature di rivestimento/deposizione
Macchina di rivestimento SiC per la deposizione adesiva di precisione nelle applicazioni dei semiconduttori
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno per la crescita di cristalli di SiC (PVT / LPE / HT-CVD) per la produzione di cristalli singoli di carburo di silicio di alta qualità
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno di crescita SiC (metodo PVT) per la produzione di cristalli di carburo di silicio da 6-12 pollici
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno per la crescita di cristalli singoli di SiC per cristalli da 6 e 8 pollici con metodi PVT, Lely e TSSG
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno di crescita a resistenza a cristallo singolo SiC per la produzione di wafer da 6, 8 e 12 pollici (metodo PVT)
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Apparecchiature per epitassia
Apparecchiatura per epitassia SiC a flusso d'aria verticale di tipo split per wafer Epi da 6”/8”.
