Archives: Products
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Apparecchiature per l'impianto di ioni
Sistema di impiantazione ionica ad alto raggio Ai200HC.D per la lavorazione di wafer di silicio da 6/8 di pollice e applicazioni di taglio intelligente
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Apparecchiature per l'impianto di ioni
Sistema di impianto ionico a temperatura ambiente Ai250 (fascio medio) per la lavorazione di wafer di silicio da 6-8 pollici
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Apparecchiature per l'impianto di ioni
Sistema di impianto ionico ad alta temperatura Ai300 (fascio medio) per la lavorazione di wafer da 12 pollici
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Apparecchiature per l'impianto di ioni
Sistema di impiantazione ionica ad alta temperatura a fascio medio Ai350HT per la lavorazione di wafer di silicio e SiC da 6/8 di pollice
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Macchina per la pulizia dei wafer
Macchina integrata per la pulizia e la ceratura dei dischi in ceramica per il montaggio e la prelavorazione dei wafer a semiconduttore
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Macchina per la foratura laser
Microforatrice laser compatta ad alta precisione per fori finissimi e compatibilità multimateriale
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Macchina per la foratura laser
Microforatrice laser personalizzabile per materiali ultra duri e ad alta temperatura
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Materiali di consumo per semiconduttori
Elettrodo in carburo di silicio (SiC) CVD per sistemi al plasma per semiconduttori
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Materiali di consumo per semiconduttori
Anello in carburo di silicio SiC CVD per l'incisione al plasma di semiconduttori
