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Equipamento de implantação de iões
Sistema de implantação de iões Ai250 (feixe médio) à temperatura ambiente para processamento de bolachas de silício de 6-8 polegadas
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Equipamento de implantação de iões
Sistema de implantação de iões de alta temperatura Ai300 (feixe médio) para processamento de bolachas de 12 polegadas
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Máquina de perfuração a laser
Microperfuradora a laser compacta de alta precisão para furos ultrafinos e compatibilidade com vários materiais
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Máquina de perfuração a laser
Máquina de micro-perfuração a laser personalizável para materiais ultra-duros e de alta temperatura
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Consumíveis para semicondutores
Elétrodo de carboneto de silício (SiC) CVD para sistemas de plasma de semicondutores
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Consumíveis para semicondutores
Anel de SiC de carboneto de silício CVD para gravação a plasma de semicondutores








