Archives: Products
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Apparecchiature per epitassia
Apparecchiatura di epitassia SiC a flusso d'aria verticale integrato per wafer Epi da 6”/8
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Apparecchiature di rivestimento/deposizione
Macchina per l'incisione a fascio ionico di Si SiO2 e materiali metallici nella fabbricazione di semiconduttori
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Macchina per la foratura laser
Microforatrice laser per fori ultra piccoli e geometrie complesse in materiali ultra duri
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Macchina per la foratura laser
Microforatrice laser di precisione a picosecondi con controllo a quattro assi per materiali ultra duri e ad alta temperatura
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Materiali di consumo per semiconduttori
Anello di precisione in silicio (cristallo singolo/policristallino) per l'incisione al plasma di semiconduttori
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno per la crescita di cristalli di zaffiro da 80-400 kg con il metodo Kyropoulos (KY)
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Apparecchiature di rivestimento/deposizione
Macchina di rivestimento SiC per la deposizione adesiva di precisione nelle applicazioni dei semiconduttori
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno per la crescita di cristalli di SiC (PVT / LPE / HT-CVD) per la produzione di cristalli singoli di carburo di silicio di alta qualità
