Archives: Products
-
อุปกรณ์เคลือบผิว / อุปกรณ์การสะสม
เครื่องแกะสลักด้วยลำแสงไอออนสำหรับซิลิคอน ซิลิคอนไดออกไซด์ และวัสดุโลหะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์
-
วัสดุสิ้นเปลืองสำหรับเซมิคอนดักเตอร์
แหวนซิลิคอนความแม่นยำสูง (ผลึกเดี่ยว / พอลิคริสตัลไลน์) สำหรับการกัดเซาะด้วยพลาสมาในเซมิคอนดักเตอร์
-
เตาหลอมการเติบโตของผลึก
เตาหลอมการเจริญเติบโตของผลึกแซฟไฟร์สำหรับผลึกขนาด 80–400 กิโลกรัม โดยใช้วิธีของ Kyropoulos (KY)
-
อุปกรณ์เคลือบผิว / อุปกรณ์การสะสม
เครื่องเคลือบ SiC สำหรับการเคลือบกาวอย่างแม่นยำในงานเซมิคอนดักเตอร์
-
เตาหลอมการเติบโตของผลึก
เตาหลอมผลึก SiC (PVT / LPE / HT-CVD) สำหรับการผลิตผลึกซิลิคอนคาร์ไบด์เดี่ยวคุณภาพสูง
