WGP-1271 Teljesen automatikus ostya vékonyító és polírozó integrált gép

A WGP-1271 teljesen automatikus ostyavékonyító és polírozó integrált gép átfogó megoldást kínál az ultravékony ostyák feldolgozásához. Fejlett automatizálásával, precíziós vezérlésével és integrált munkafolyamatával ideálisan alkalmas a csúcskategóriás félvezető alkalmazásokhoz, ahol a teljesítmény, a hozam és a hatékonyság kritikus fontosságú.

A WGP-1271 teljesen automatikus Wafer Thinning & Polishing Integrated Machine egy új generációs megoldás, amelyet a fejlett félvezető csomagolásokban használt ultravékony waferek feldolgozására terveztek. Azáltal, hogy a rendszer egyetlen automatizált platformba integrálja a csiszolást, polírozást, tisztítást és szalagkezelést, jelentősen csökkenti a folyamat idejét, miközben javítja a konzisztenciát és a hozamot.

A WGP-1271 akár 300 mm-es (12 hüvelyk) ostyákhoz tervezve lehetővé teszi az ostyák stabil, 50 μm alatti vékonyítását, így megfelel a fejlett csomagolási technológiák, például a 3D IC, a wafer-level packaging (WLP) és a tápegység-integráció szigorú követelményeinek.

A hagyományos többlépcsős rendszerekkel ellentétben ez a gép a hátsó csiszolást és a feszültségmentesítő polírozást egy egységes folyamatba egyesíti, minimalizálva az ostyák kezelését és csökkentve a sérülés kockázatát. Az eredmény jobb integritás, nagyobb teljesítmény és alacsonyabb teljes birtoklási költség (TCO).

Fő jellemzők

1. Integrált ritkítási és polírozási folyamat

A WGP-1271 egyetlen munkafolyamatban egyesíti a durvacsiszolást, a finomcsiszolást és a polírozást. Ez az integrált kialakítás kiküszöböli a közbenső átviteli lépéseket, jelentősen csökkentve a nem feldolgozási időt és javítva a termelés általános hatékonyságát.

2. Ultra-vékony szeletképesség (<50 μm)

A rendszert kifejezetten ultravékony ostyákhoz tervezték. Stabil feldolgozást és biztonságos kezelést biztosít az 50 mikron alatti ostyák számára, amelyek jellemzően törékenyek és hajlamosak az elhajlásra vagy repedésre.

3. Háromorsós, négyállomásos architektúra

Egy háromcsigás, négy tokmányos konfiguráció, a WGP-1271 párhuzamos feldolgozást és nagy áteresztőképességet tesz lehetővé. Mindegyik orsó a folyamat különböző szakaszaira van optimalizálva:

  • 1. orsó: durva köszörülés
  • Orsó 2: Finomcsiszolás
  • 3. orsó: Polírozás / ultraprecíziós vékonyítás (opcionális száraz polírozás)

Ez a moduláris megközelítés egyszerre biztosítja a rugalmasságot és a pontosságot.

4. Fejlett in-line vastagságmérés (NCG + Auto TTV)

A rendszer integrálja Swing NCG (érintésmentes mérőműszer) Auto TTV vezérléssel, amely lehetővé teszi a valós idejű, érintésmentes ostyavastagság mérést. Ez lehetővé teszi a vastagság egyenletességének folyamatos nyomon követését és automatikus beállítását a folyamat során.

5. Teljesen automatizált végponttól végpontig tartó feldolgozás

A WGP-1271 támogatja a teljes automatizált munkafolyamatot, beleértve:

  • Csiszolás
  • Polírozás
  • Wafer transzfer
  • Tisztítás
  • Szalag felszerelése és eltávolítása

Ez csökkenti a kézi beavatkozást, javítja az ismételhetőséget, és biztosítja a kompatibilitást a modern intelligens gyártási környezetekkel.

6. Opcionális száraz polírozás és ultraprecíziós csiszolás

A harmadik orsó (Z3 tengely) támogatja az X-tengelyes mozgást, és a következőkre konfigurálható száraz polírozás vagy ultraprecíziós csiszolás, lehetővé téve a különféle folyamatalkalmazásokat az ügyfél igényei szerint.

Alkalmazások

A WGP-1271 ideális a fejlett félvezetőgyártási folyamatokhoz, többek között:

  • Ultravékony ostyafeldolgozás (≤ 12 hüvelyk)
  • Fejlett csomagolás (WLP, Fan-out, 3D IC)
  • IGBT és teljesítmény félvezető eszközök
  • Szilícium (Si) ostyák vékonyítása
  • Szilícium-karbid (SiC) ostya feldolgozása
  • Nagy sűrűségű integrált áramkörök gyártása

Az ultravékony ostyák kezelésére való képessége különösen alkalmassá teszi a kompakt méretet és nagy teljesítményt igénylő, következő generációs elektronikus eszközökhöz.

Műszaki specifikációk

Paraméter Specifikáció
Szerkezet 3 orsó / 4 tokmány / 1 munkaállomás / Automatikus átviteli és tisztító rendszer / Szalag rögzítő és eltávolító rendszer
Wafer méret 8 hüvelyk / 12 hüvelyk (300 mm-ig)
Orsó teljesítmény 7,5 kW / 11 kW (opcionális)
Különleges funkció Z3 tengely X-tengelyes mozgással
Feldolgozási képesség Csiszolás + polírozás + tisztítás + szalagkezelés
Minimális vastagság < 50 μm
Méretek (W×D×H) 4050 × 3530 × 1900 mm

Teljesítmény Előnyök

Nagyobb hatékonyság

Az integrált kialakítás csökkenti a folyamat lépéseit és a kezelési időt, ami a hagyományos, különálló rendszerekhez képest jelentősen nagyobb áteresztőképességet eredményez.

Javított hozam

Az érintésmentes mérés és az alacsony igénybevételű feldolgozás minimalizálja a szilánkok sérülését, ami nagyobb hozamot és jobb eszközmegbízhatóságot eredményez.

Kiváló vastagságszabályozás

A valós idejű TTV-beállítás kiváló vastagságegyenletességet biztosít, ami kritikus fontosságú a fejlett csomagolási alkalmazásoknál.

Csökkentett szennyeződési kockázat

A kevesebb transzferlépés és az ellenőrzött technológiai környezet segít fenntartani a szeletek tisztaságát és csökkenteni a hibaarányt.

Fokozott folyamatbeli rugalmasság

Az opcionális száraz polírozás és az ultraprecíziós csiszolás lehetővé teszi a különböző anyagokhoz és alkalmazásokhoz való testreszabást.

Mérnöki érték és ipari jelentőség

Mivel a félvezető eszközök egyre nagyobb teljesítményűek és kisebb formátumúak lesznek, az ultravékony ostyák kritikus követelménnyé váltak. Az 50 μm alatti ostyák vékonyítása azonban jelentős kihívásokat jelent a kezelés, a feszültségszabályozás és a hibák megelőzése terén.

A WGP-1271 ezeket a kihívásokat integrált mérnöki tervezéssel oldja meg, több folyamatlépést egyetlen automatizált rendszerben egyesítve. Ez nemcsak a termelés hatékonyságát javítja, hanem a folyamat megbízhatóságát is növeli, így értékes eszköz a fejlett csomagolási technológiákra áttérő félvezetőgyártók számára.

GYIK

1. Mi az integrált ritkító és polírozó rendszer fő előnye?

Csökkenti az ostyakezelési lépéseket, lerövidíti a feldolgozási időt és minimalizálja az ostyasérülés kockázatát, ami nagyobb hatékonyságot és hozamot eredményez.

2. Képes-e a WGP-1271 az 50 μm alatti, ultravékony ostyákat feldolgozni?

Igen, a rendszert kifejezetten 50 μm-nél vékonyabb ostyák kezelésére és feldolgozására tervezték, nagy stabilitással és pontossággal.

3. Milyen típusú ostyák támogatottak?

A gép a szilícium (Si), szilícium-karbid (SiC) és egyéb félvezető ostyákat támogatja 300 mm-es méretig.

4. Hogyan szabályozzák a vastagság egyenletességét?

Integrált érintésmentes mérőrendszer (NCG) és automatikus TTV-beállítás a valós idejű vezérléshez.

5. Támogatja a gép a teljesen automatizált gyártást?

Igen, automatikus átviteli, tisztító és szalagkezelő rendszereket tartalmaz, így alkalmas nagy volumenű automatizált gyártás számára.

Értékelések

Még nincsenek értékelések.

„WGP-1271 Fully Automatic Wafer Thinning & Polishing Integrated Machine” értékelése elsőként

Az e-mail címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöltük