Máquina de colagem de wafer semi-automática de temperatura ambiente para processamento de wafer de 2 a 12 polegadas

A máquina semi-automática de colagem de bolachas à temperatura ambiente é um sistema de alta precisão para a colagem de bolachas e chips. Ao combinar a pressão mecânica com a tecnologia de ativação de superfície in situ, permite a ligação permanente à temperatura ambiente (20-30°C) sem adesivos ou processamento a alta temperatura.

A máquina semi-automática de colagem de bolachas à temperatura ambiente é um sistema de alta precisão para a colagem de bolachas e chips. Ao combinar a pressão mecânica com a tecnologia de ativação de superfície in situ, permite a ligação permanente à temperatura ambiente (20-30°C) sem adesivos ou processamento a alta temperatura. Isto minimiza o stress térmico e a deformação do material, tornando-a ideal para materiais sensíveis ao calor e heterogéneos. A máquina suporta tamanhos de bolacha de 2 polegadas a 12 polegadas e é adequada para investigação, produção piloto e fabrico em pequena e média escala.

Caraterísticas principais

  1. Colagem à temperatura ambiente - Funciona a 25 ± 5°C para evitar incompatibilidade térmica e empenamento da bolacha.
  2. Ativação de superfície - A ativação química ou por plasma melhora a resistência da ligação; a pulverização catódica opcional melhora a qualidade da interface.
  3. Alinhamento de alta precisão - Sistema de alinhamento visual e plataforma de movimentos de precisão com uma exatidão de ±0,5 μm.
  4. Ampla compatibilidade de materiais - Suporta Si, SiC, GaAs, GaN, InP, safira, vidro, LiNbO₃, LiTaO₃, diamante e polímeros selecionados.
  5. Funcionamento semi-automático - Carregamento manual de bolacha com processo de colagem automatizado; receitas programáveis para resultados repetíveis.
  6. Ambiente limpo e estável - O sistema de limpeza Classe 100 incorporado garante uma baixa contaminação e uma taxa de vazios na interface <0,1%.

Especificações técnicas

Parâmetro Especificação
Tamanho da pastilha 2″ - 12″, compatível com amostras irregulares
Temperatura de ligação 20-30°C
Pressão máxima 80 kN
Controlo da pressão 0-5000 N ajustável, resolução ±1 N
Precisão do alinhamento ±0,5 μm
Resistência da ligação ≥2,0 J/m²
Tratamento de superfície Ativação in situ + deposição por pulverização catódica
Modo de alimentação Manual
Nível de limpeza Classe 100

Tecnologia de base

  1. Colagem direta à temperatura ambiente - As superfícies activadas entram em contacto sob pressão controlada, formando ligações estáveis sem recozimento térmico.
  2. Ativação de superfície - Aumenta a energia da superfície, remove contaminantes e melhora a uniformidade da ligação entre materiais.

Aplicações

  1. Embalagem avançada de semicondutores - Empilhamento de CI 3D, colagem de TSV, integração heterogénea de chips lógicos e de memória.
  2. Fabrico de MEMS - Embalagem em vácuo ao nível da bolacha para sensores como acelerómetros e giroscópios.
  3. Optoelectrónica e ecrãs - Colagem de LEDs, colagem de substratos de safira e vidro, montagem de módulos ópticos AR/VR.
  4. Microfluídica e Biochips - PDMS e vidro, preservando a atividade biológica.
  5. Investigação e dispositivos emergentes - Eletrónica flexível, dispositivos quânticos e integração de materiais heterogéneos.

Serviço e assistência

  1. Desenvolvimento de processos - Otimização dos parâmetros de ligação e soluções de ativação de superfície para diferentes materiais.
  2. Personalização do equipamento - Módulos de alinhamento de alta precisão, câmaras de vácuo ou de atmosfera controlada.
  3. Formação técnica - Orientação de operação no local e depuração de processos.
  4. Apoio pós-venda - Garantia de 12 meses, substituição rápida dos principais componentes, diagnóstico remoto e actualizações de software.

FAQ

P: Qual é a principal vantagem da colagem à temperatura ambiente?
R: Elimina o stress térmico e permite uma ligação fiável de materiais heterogéneos e sensíveis ao calor.

P: Que materiais podem ser colados?
A: Silício, carboneto de silício, nitreto de gálio, arsenieto de gálio, fosforeto de índio, safira, vidro, niobato de lítio, diamante e polímeros selecionados.

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