Macchina segatrice a filo diamantato singolo/multiplo per l'elaborazione dei wafer a semiconduttore

La segatrice a filo diamantato mono/multifilo a doppia stazione è un'apparecchiatura di precisione di alto livello progettata per la lavorazione di materiali duri e fragili. Utilizza la tecnologia del filo diamantato galvanizzato e dispone di due postazioni di lavoro indipendenti, che consentono di passare in modo flessibile dalla modalità di precisione a filo singolo alla modalità di produzione in lotti a più fili.

La segatrice a filo diamantato mono/multifilo a doppia stazione è un'apparecchiatura di precisione di alto livello progettata per la lavorazione di materiali duri e fragili. Utilizza la tecnologia del filo diamantato galvanizzato e dispone di due postazioni di lavoro indipendenti, che consentono di passare in modo flessibile dalla modalità di precisione a filo singolo alla modalità di produzione in lotti a più fili.

Dotata di controllo del movimento ad alta precisione, sistemi di tensione intelligenti e tecnologia di raffreddamento adattiva, è ideale per il taglio di precisione di wafer di semiconduttori, wafer di silicio fotovoltaico e componenti ottici.

Specifiche tecniche

Parametro Specifiche
Progetto Sega a filo singolo/multiplo
Dimensione massima del pezzo da lavorare ø320×430 mm
Diametro del rivestimento del rullo principale ø210×450 mm (5 rulli principali)
Velocità di scorrimento del filo 1000 (MIX) m/min
Diametro del filo diamantato 0,2-0,37 mm
Capacità di stoccaggio della linea 20 km (diametro del filo 0,25 mm)
Gamma di spessore di taglio 1,5-80 mm
Precisione di taglio ±0,01 mm
Corsa di sollevamento verticale della stazione di lavoro 350 mm
Metodo di taglio Il banco da lavoro oscilla verso l'alto, il filo diamantato rimane fermo
Velocità di avanzamento del taglio 0,01-10 mm/min
Postazione di lavoro 2
Serbatoio dell'acqua 300L
Fluido da taglio Fluido da taglio antiruggine ad alta efficienza
Angolo di oscillazione ±8°
Velocità di oscillazione 0.83°/s
Tensione massima di taglio 100N (unità minima 0,1N)
Profondità di taglio 430 mm
Alimentazione Trifase a cinque fili AC380V/50Hz
Potenza totale ≤52kW
Motore principale 7,5×3kW
Cablaggio motore 0,75×2kW
Motore di oscillazione del banco da lavoro 1,3×2kW
Motore di controllo della tensione 4,4×2kW
Motore di sgancio e raccolta del filo 5,5×2kW
Dimensioni esterne 2310×2660×2893 mm
Peso della macchina 6000 kg

Principio di funzionamento

  1. Sistema di taglio

    • Il filo diamantato forma un movimento ad anello chiuso azionato da servomotori (regolabile 0,5-3 m/s)

    • Tensione del filo monitorata in tempo reale tramite sensori ad alta precisione (20-50N)

    • Il piano di lavoro con azionamento a motore lineare garantisce una precisione di posizionamento di ±1 μm

  2. Coordinamento a doppia stazione

    • Stazione A: Modalità a filo singolo (diametro minimo 0,1 mm) per una lavorazione di alta precisione

    • Stazione B: Modalità multi-filo (fino a 200 fili) per la produzione di massa

    • Entrambe le stazioni possono operare in sincronia con il trasferimento automatico dei pezzi tramite braccio robotico.

  3. Sistema di controllo

    • Architettura PLC + PC che supporta la programmazione in codice G

    • Sistema di posizionamento con visione artificiale con ripetibilità di 5 μm

    • Monitoraggio in tempo reale di oltre 20 parametri di processo, tra cui la forza di taglio e la temperatura

Caratteristiche principali

  1. Lavorazione ad alta precisione

    • Precisione inferiore al micron con mandrino a cuscinetto d'aria e azionamento a motore lineare

    • Controllo adattativo della tensione per un taglio stabile

    • Sistema di raffreddamento avanzato per controllare la temperatura di lavorazione

  2. Modalità di produzione flessibili

    • Modalità ad alta precisione a stazione singola per esigenze di R&S e piccoli lotti

    • Elaborazione parallela a più stazioni per un'elevata efficienza

    • Funzionalità di cambio rapido per diverse esigenze di produzione

  3. Sistema di controllo intelligente

    • HMI avanzato per un funzionamento semplice

    • Monitoraggio in tempo reale e ottimizzazione automatica dei parametri chiave

    • Funzionalità di diagnostica e manutenzione a distanza

  4. Design robusto e durevole

    • Materiali resistenti all'usura e ad alta resistenza per i componenti critici

    • La struttura modulare facilita la manutenzione

    • I sistemi di protezione completi prolungano la durata di vita delle apparecchiature

Applicazioni

  1. Produzione di wafer per semiconduttori

    • Taglio di wafer di dispositivi di potenza SiC/GaN per EV e 5G

    • Substrati in zaffiro per LED ed elettronica di consumo

    • Taglio a cubetti dei chip dei sensori MEMS

  2. Produzione fotovoltaica

    • Taglio di wafer di silicio monocristallino di grandi dimensioni

    • Lavorazione delle celle solari a etero-giunzione

    • Taglio di wafer di silicio ultrasottili (<120 μm)

  3. Elaborazione di componenti ottici

    • Elementi ottici in vetro di quarzo

    • Cristalli laser (YAG, zaffiro)

    • Finestre ottiche a infrarossi

  4. Trattamento di materiali speciali

    • Substrati ceramici in AlN / Al₂O₃

    • Compositi di carburo di silicio

    • Materiali ultra duri (diamante CVD)

  5. Ricerca e applicazioni speciali

    • Prototipazione di nuovi materiali semiconduttori

    • Sviluppo di microdispositivi

    • Preparazione del campione su misura

Vantaggi tecnici

  • Qualità di lavorazione stabile con resa >99,5%

  • Adattabile a diversi materiali duri e fragili

  • Produttività significativamente più elevata rispetto ai metodi convenzionali

  • Facilità di utilizzo e basso costo totale di proprietà (TCO)

  • Sono disponibili soluzioni personalizzate, comprese versioni per camere bianche e dimensioni speciali.

FAQ

D: Qual è il principale vantaggio di una sega a filo diamantato a doppia stazione?
A: Consente il taglio di precisione simultaneo a filo singolo e l'elaborazione di lotti a più fili, aumentando la produttività di 50% rispetto alle macchine monomodali.

D: Quali materiali possono essere tagliati con le seghe a doppia stazione a filo diamantato?
A: Materiali duri e fragili come silicio, SiC, GaN, zaffiro, quarzo e ceramica, con precisione fino a ±0,01 mm.

Recensioni

Ancora non ci sono recensioni.

Recensisci per primo “Diamond Wire Single / Multiple Wire Saw Machine for Semiconductor Wafer Processing”

Il tuo indirizzo email non sarà pubblicato. I campi obbligatori sono contrassegnati *