Entegre Fotonik Uygulamalar için Yalıtkan LNOI Yonga Plakaları Üzerinde İnce Film Lityum Niyobat

Yalıtkan Üzerine İnce Film Lityum Niyobat (LNOI) yonga plakaları, entegre optik, mikrodalga fotonik ve kuantum sistemlerinde kullanılan gelişmiş fotonik alt tabakalardır.

Yapı, bir SiO₂ yalıtım tabakasına yapıştırılmış ve bir silikon alt tabaka üzerinde desteklenen tek kristal lityum niyobat ince tabakasından oluşmaktadır.

Bu yapı, güçlü optik sınırlama, son derece düşük iletim kaybı ve yüksek elektro-optik verimlilik sunarak entegre fotonik için önemli bir platform oluşturmaktadır.

Entegre Fotonik Uygulamalar için Yalıtkan LNOI Yonga Plakaları Üzerinde İnce Film Lityum NiyobatYalıtkan Üzerine İnce Film Lityum Niyobat (LNOI) yonga plakaları, entegre optik, mikrodalga fotonik ve kuantum sistemlerinde kullanılan gelişmiş fotonik alt tabakalardır.

Yapı, bir SiO₂ yalıtım tabakasına yapıştırılmış ve bir silikon alt tabaka üzerinde desteklenen tek kristal lityum niyobat ince tabakasından oluşmaktadır.

Bu yapı, güçlü optik sınırlama, son derece düşük iletim kaybı ve yüksek elektro-optik verimlilik sunarak entegre fotonik için önemli bir platform oluşturmaktadır.


İnce Film Lityum Niyobat (TFLN) nedir?

İnce Film Lityum Niyobat (TFLN), optik dalga kılavuzu ve elektro-optik uygulamalar için tasarlanmış, mikron altı boyutlarda bir kristal LiNbO₃ tabakasını ifade eder.

Toplu lityum niyobat ile karşılaştırıldığında, TFLN daha sıkı optik sınırlama, daha küçük cihaz boyutları ve daha yüksek entegrasyon yoğunluğu sağlar.

TFLN, genellikle eksiksiz bir entegre fotonik platform oluşturmak üzere LNOI yongaları üzerine uygulanır.


Entegre Fotonik Uygulamalar için Yalıtkan LNOI Yonga Plakaları Üzerinde İnce Film Lityum NiyobatTemel Özellikler

  • 1550 nm'de < 0,05 dB/cm'lik ultra düşük optik kayıp
  • Yüksek elektro-optik katsayı (r₃₃ 90 pm/V'ye kadar)
  • Mikron altı dalga kılavuzu uyumluluğu (<1 μm)
  • Si / SiN platformlarıyla CMOS uyumlu entegrasyon
  • Yüksek termal kararlılık (~1140 °C Curie sıcaklığı)
  • Çeşitli kristal kesimleri: X kesimi / Y kesimi / Z kesimi
  • Yonga boyutları: 3 inç / 4 inç / 6 inç / 8 inç

Yonga Yapısı

Katman Malzeme İşlev
Üst Katman LiNbO₃ İnce Film (TFLN) Elektro-optik ve doğrusal olmayan optik işlevsellik
Orta Katman SiO₂ (Gömülü Oksit) Optik izolasyon ve sınırlama
Alt Katman Silikon / Kuvars / Safir Mekanik destek ve CMOS uyumluluğu

Teknik Özellikler

Yonga Özellikleri

Parametre Değer
Yonga Çapı 3 inç, 4 inç, 6 inç, 8 inç
Toplam Kalınlık 525 ± 25 μm
Yay ±50 μm
Çözgü <50 μm
LTV <1,5 μm (5×5 mm², 95%)

İnce Film Lityum Niyobat Katmanı

Parametre Değer
Malzeme Tek kristal LiNbO₃
Kalınlık 300 nm – 1000 nm
Yön Doğruluğu ±0,5°
Yüzey Pürüzlülüğü Ra < 1 nm
Yapışma Kusurları 1 mm'den büyük kusur yok

Gömülü Oksit Katmanı (SiO₂)

Parametre Değer
Malzeme SiO₂
Kalınlık 100 nm – 2 μm (isteğe göre ayarlanabilir)
Tekdüzelik ±5%

Entegre Fotonik Uygulamalar için Yalıtkan LNOI Yonga Plakaları Üzerinde İnce Film Lityum NiyobatÜretim Süreci

LNOI yonga plakaları, yarı iletken sınıfı üretim süreçleri kullanılarak üretilmektedir:

  • Kontrollü tabaka ayrıştırma için iyon implantasyonu
  • Yalıtkan alt tabakalara yonga yapıştırma
  • Kristal stabilizasyonu için yüksek sıcaklıkta tavlama
  • Yüzey düzleştirme için kimyasal-mekanik parlatma (CMP)
  • Son optik ve yapısal kalite kontrolü

Başlıca Uygulamalar

  • Yüksek hızlı optik iletişim (100G–800G modülatörler)
  • Kuantum fotonik (dolaşık foton üretimi, QKD sistemleri)
  • Mikrodalga fotoniği (RF sinyal işleme, mmWave sistemleri)
  • Doğrusal olmayan optik (frekans dönüştürme, optik taraklar)
  • Entegre algılama sistemleri (biyokimyasal ve optik rezonatörler)

Performans Avantajı ve Toplu LiNbO₃ Karşılaştırması

Mülkiyet Toplu LiNbO₃ LNOI İnce Film
Optik Kayıp Daha yüksek <0,05 dB/cm
Entegrasyon Düşük Yüksek yoğunluklu fotonik
Cihaz Boyutu Büyük Mikron altı ölçek
CMOS Uyumluluğu Hayır Evet
Modülasyon Verimliliği Orta düzeyde Yüksek (Vπ ~1 V'ye ulaşılabilir)

Özelleştirme Seçenekleri

Seçenek Açıklama
Kristal Kesim X kesimi / Y kesimi / Z kesimi
Film Kalınlığı 300 nm – 1000 nm
Alt tabaka Silikon / Kuvars / Safir
Oksit Tabakası 100 nm – 2 μm (isteğe göre)
Doping MgO katkılı LiNbO₃ mevcuttur

Kalite Kontrol

Test Sorusu Yöntem
Optik Kayıp Dalga kılavuzu yayılım testi
Yüzey Pürüzlülüğü AFM ölçümü
Kalınlık Tekdüzeliği Haritalama sistemi
Yapışma Kalitesi IR denetimi
Düzlük Yonga metrologisi

Mühendislik Yetkinliği

ZMSH LNOI yonga plakası geliştirme sürecinin tamamı boyunca destek sağlar:

  • İnce film tasarım optimizasyonu
  • Yonga birleştirme proses mühendisliği
  • Fotonik cihaz üretimi desteği
  • Nanofabrikasyon (EBL / IBE)
  • Optik performans testi ve doğrulama

Hem Ar-Ge prototip üretimini hem de 8 inçlik yongalara kadar ölçeklenebilir küçük seri üretimi destekler.


SSS

LNOI ne için kullanılır?
LNOI yonga plakaları, optik iletişim, kuantum fotonik, doğrusal olmayan optik ve entegre fotonik devrelerde yaygın olarak kullanılmaktadır.

Tipik ince film kalınlığı nedir?
Tipik lityum niyobat ince film kalınlığı 300 nm ile 1000 nm arasında değişmektedir.

Neden toplu lityum niyobat yerine LNOI kullanılmalı?
LNOI, daha düşük optik kayıp, daha yüksek entegrasyon yoğunluğu ve CMOS ile uyumlu fotonik entegrasyon sunar.

LNOI, silikon fotonik ile entegre edilebilir mi?
Evet, LNOI silikon ve silikon nitrür fotonik platformlarla tam uyumludur.

Değerlendirmeler

Henüz değerlendirme yapılmadı.

“Thin-Film Lithium Niobate on Insulator LNOI Wafers for Integrated Photonic Applications” için yorum yapan ilk kişi siz olun

E-posta adresiniz yayınlanmayacak. Gerekli alanlar * ile işaretlenmişlerdir