HP-8201 è una cubettatrice per wafer completamente automatica e ad alta efficienza, progettata per il taglio di precisione di semiconduttori e materiali cristallini. Progettato per accogliere wafer fino a 8 pollici di diametro, questo sistema di taglio avanzato supporta un'ampia gamma di materiali, tra cui silicio (Si), carburo di silicio (SiC), tantalato di litio (LT) e niobato di litio (LN). L'HP-8201 combina velocità, precisione e automazione in un'unica piattaforma, offrendo una soluzione completa per gli ambienti di produzione ad alto volume e per le esigenze di lavorazione di wafer specializzati.
La macchina integra tutte le fasi critiche in un unico flusso di lavoro automatizzato: carico e scarico dei wafer, allineamento preciso, taglio a cubetti, pulizia post-taglio ed essiccazione. Riducendo l'intervento manuale, garantisce un'elevata produttività mantenendo una qualità costante, rendendola ideale per settori come la produzione di semiconduttori, dispositivi MEMS, optoelettronica e sensori avanzati.
Caratteristiche e vantaggi principali
- Struttura a doppio mandrino contrapposto: L'HP-8201 adotta un design a doppio mandrino con una distanza ridotta tra i mandrini, consentendo operazioni di taglio simultanee. Questa configurazione migliora significativamente l'efficienza produttiva e la produttività, rendendola adatta ad ambienti di produzione ad alto volume.
- Flusso di lavoro completamente automatizzato: La macchina offre un'automazione end-to-end che comprende la manipolazione dei wafer, l'allineamento, il taglio a cubetti e la pulizia/asciugatura. Gli operatori possono ottenere una produzione continua con un coinvolgimento manuale minimo, riducendo i costi di manodopera e migliorando l'efficienza operativa complessiva.
- Sistema a doppio microscopio: Dotato di microscopi ad alto e basso ingrandimento, l'HP-8201 offre un preciso allineamento automatico dei wafer e un'accurata rilevazione dei segni delle lame. Inoltre, supporta la ravvivatura assistita Sub-C/T delle lame, che garantisce condizioni costanti delle lame e prestazioni di taglio ottimali, con conseguente miglioramento della resa e della qualità della superficie.
- Ugello doppio acqua-gas opzionale: Per i wafer che richiedono una pulizia superiore dopo il dicing, è possibile installare un doppio ugello acqua-gas opzionale. Questa funzione rimuove efficacemente detriti e particelle, riducendo il rischio di contaminazione e garantendo superfici di wafer di alta qualità per la lavorazione a valle.
- Capacità di taglio avanzate: Il sistema può essere configurato con opzioni di taglio ad anello e rifilatura dei bordi, offrendo flessibilità per geometrie di wafer speciali o applicazioni che richiedono una finitura di precisione dei bordi.
- Versatilità dei materiali: HP-8201 è compatibile con un'ampia gamma di materiali, compresi substrati fragili come Si, SiC, LT e LN. La sua adattabilità garantisce agli utenti la possibilità di lavorare diversi tipi di wafer senza dover cambiare macchina, il che è essenziale per le linee di produzione diversificate.
Specifiche tecniche
| Parametro | Specifiche |
|---|---|
| Potenza e velocità del mandrino | 1,8kW / 2,2kW (opzionale) / 6000-60000 giri/min. |
| Dimensione della flangia | 2″ |
| Dimensione massima del pezzo da lavorare | Circolare: ø200 mm |
| Configurazione dell'obiettivo | Ingrandimento alto: 7,5× / Basso ingrandimento: 0,75× (opzionale) |
| Dimensioni della macchina (L×P×H) | 1190 × 1150 × 1850 mm |
Applicazioni
L'HP-8201 è stato progettato per soddisfare le esigenze della moderna lavorazione dei semiconduttori e dei materiali cristallini. Le applicazioni tipiche includono:
- Taglio di wafer di semiconduttori: Taglio di wafer di silicio e SiC per circuiti integrati, dispositivi di potenza e componenti MEMS.
- Dispositivi optoelettronici: Taglio di precisione di wafer LT e LN utilizzati per modulatori ottici, dispositivi acustici e componenti piezoelettrici.
- Rifilatura dei bordi e taglio ad anello: Lavorazione specializzata per wafer che richiedono forme personalizzate o difetti ridotti dei bordi.
- Produzione di grandi volumi: Produzione automatizzata e continua con elevata ripetibilità e minimo intervento dell'operatore.
- Ricerca e sviluppo: Lavorazione flessibile per wafer sperimentali o applicazioni di alta precisione in volumi ridotti in laboratori avanzati.
Perché scegliere HP-8201?
- Efficienza migliorata: I doppi mandrini contrapposti e la distanza ridotta tra i mandrini consentono una produzione più rapida e tagli più precisi.
- Precisione superiore: Il sistema a doppio microscopio garantisce l'accuratezza dell'allineamento e il rilevamento preciso dei segni della lama per una qualità costante del wafer.
- Versatile e flessibile: Supporta un'ampia varietà di materiali e moduli opzionali per la rifilatura dei bordi e il taglio ad anello.
- Pulizia e asciugatura integrate: Riduce le fasi di post-elaborazione e garantisce superfici pulite dei wafer, fondamentali per una produzione ad alto rendimento.
- Automazione affidabile: Il caricamento, il taglio e la pulizia completamente automatizzati riducono al minimo gli errori umani e migliorano l'affidabilità generale della produzione.
L'HP-8201 è una soluzione completa per le operazioni di taglio dei wafer, che combina velocità, precisione e versatilità. È stata progettata per i produttori che desiderano ottimizzare l'efficienza produttiva mantenendo i più elevati standard di qualità dei wafer.
FAQ
1. Quali materiali può trattare l'HP-8201?
Supporta wafer fino a 8 pollici, inclusi Si, SiC, LT e LN, adatti a semiconduttori, MEMS e dispositivi optoelettronici.
2. Come si garantisce l'alta precisione?
Doppio mandrino, doppio microscopio e ravvivatura assistita delle lame Sub-C/T garantiscono un allineamento accurato, un taglio preciso e una qualità costante.
3. Quali funzioni di automazione e opzionali sono disponibili?
L'automazione completa comprende il caricamento, l'allineamento, la cubettatura, la pulizia e l'asciugatura. La rifilatura dei bordi, il taglio ad anello e la pulizia a doppio ugello, opzionali, aumentano la flessibilità e l'efficienza.
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