SiC növekedési kemence (PVT módszer) 6-12 hüvelykes szilíciumkarbid kristályok előállításához

A SiC-növesztő kemence (PVT-módszer) egy nagy teljesítményű rendszer, amelyet 6, 8 és 12 hüvelykes szilíciumkarbid (SiC) egykristályok előállítására terveztek.

A fejlett indukciós fűtési technológiát alkalmazó kemence gyors fűtést, pontos hőmérséklet-szabályozást és alacsony energiafogyasztást biztosít, így ideális megoldás az ipari méretű SiC-kristályok növesztéséhez.

Széles körben használják a SiC szubsztrátumok gyártásához a teljesítményelektronika, az RF-eszközök és a következő generációs félvezető alkalmazások számára.

A SiC-növesztő kemence (PVT-módszer) egy nagy teljesítményű rendszer, amelyet 6, 8 és 12 hüvelykes szilíciumkarbid (SiC) egykristályok előállítására terveztek.

A fejlett indukciós fűtési technológiát alkalmazó kemence gyors fűtést, pontos hőmérséklet-szabályozást és alacsony energiafogyasztást biztosít, így ideális megoldás az ipari méretű SiC-kristályok növesztéséhez.

Széles körben használják a SiC szubsztrátumok gyártásához a teljesítményelektronika, az RF-eszközök és a következő generációs félvezető alkalmazások számára.

Fő jellemzők

  • Indukciós fűtési rendszer
    A grafittégely közvetlen elektromágneses fűtése nagy hatékonyságot és gyors hőreakciót biztosít

  • Ultrapontos hőmérséklet-szabályozás
    ±1°C-os pontosság, stabil kristálynövekedési feltételek biztosítása

  • Alacsony energiafogyasztás
    Az optimalizált hőtechnikai kialakítás jelentősen csökkenti az üzemeltetési költségeket

  • Nagy stabilitás és alacsony szennyezettség
    Érintésmentes fűtés + inert gázos környezet minimalizálja a szennyeződéseket

  • Skálázható nagy átmérőjű kristályokhoz
    Támogatja a 6″, 8″ és 12″ SiC kristályok növekedését

Műszaki specifikációk

Paraméter Specifikáció
Méretek (L×Ny×H) 3200 × 1150 × 3600 mm (testre szabható)
Kemencekamra átmérője 400 mm
Maximális hőmérséklet 2400°C
Hőmérséklet tartomány 900-3000°C
Hőmérséklet pontosság ±1°C
Fűtési módszer Indukciós fűtés
Tápegység 40 kW, 8-12 kHz
Vákuumszint 5 × 10-⁴ Pa
Nyomás tartomány 1-700 mbar
Hőmérséklet mérés Kétszínű infravörös
Betöltési módszer Alsó betöltés

Tervezési előnyök

  • Kompatibilis a félig szigetelő és vezető SiC kristálynövekedéssel

  • A tégelyforgató rendszer javítja a hőmérséklet egyenletességét

  • A szabályozható indukciós tekercs emelése csökkenti a termikus zavarokat

  • A kétrétegű vízhűtéses kvarckamra meghosszabbítja a berendezés élettartamát

  • Valós idejű kétpontos hőmérséklet-ellenőrzés

  • Többféle vezérlési mód: állandó teljesítmény / áram / hőmérséklet

  • Egy kattintással történő intelligens indítás az automatizált működéshez

  • Kompakt felépítés a hatékony gyári elrendezéshez

  • Nagy pontosságú nyomásszabályozás (±1 Pa-ig)

Teljesítmény és alkalmazások

A kemence lehetővé teszi a nagy tisztaságú (≥99,999%) és alacsony hibájú SiC egykristályok növesztését, amelyek kritikusak a következőkhöz:

  • SiC MOSFET-ek

  • Schottky diódák

  • RF eszközök

  • Elektromos járművek (EV tápegységek)

  • Napelemes inverterek

  • 5G kommunikációs rendszerek

A stabil hőszabályozással és az optimalizált növekedési körülményekkel a rendszer nagy hozamot, konzisztenciát és méretezhetőséget biztosít az ipari termeléshez.

Képességeink (ZMSH)

1. Berendezés gyártása

  • Egyedi SiC növesztő kemence kialakítása

  • Különböző kristályméretek és technológiai követelmények támogatása

2. Folyamatoptimalizálás

  • PVT növekedési paraméterek hangolása

  • A hozam és a hibasűrűség javítása

3. Telepítés és képzés

  • Helyszíni üzembe helyezés

  • Üzemeltetési és karbantartási képzés

4. Értékesítés utáni támogatás

  • 24/7 technikai segítségnyújtás

  • Gyors reagálású mérnöki támogatás

GYIK

1. kérdés: Mi a PVT módszer a SiC kristályok növekedése során?
V: A fizikai gőztranszport (PVT) egy olyan folyamat, amelyben a SiC port magas hőmérsékleten szublimálják és átkristályosítják egy magkristályon, hogy ömlesztett egykristályokat képezzenek.

2. kérdés: Miért válassza az indukciós fűtést a SiC növesztéséhez?
V: Az indukciós fűtés gyors reakciót, nagy hatékonyságot és pontos szabályozást biztosít, ami elengedhetetlen az alacsony hibájú SiC-kristályok stabil növekedéséhez.

Értékelések

Még nincsenek értékelések.

„SiC Growth Furnace (PVT Method) for 6–12 Inch Silicon Carbide Crystal Production” értékelése elsőként

Az e-mail címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöltük