6-12인치 실리콘 카바이드 결정 생산을 위한 SiC 성장로(PVT 방식)

SiC 성장로(PVT 방식)는 6인치, 8인치, 12인치 실리콘 카바이드(SiC) 단결정 생산을 위해 설계된 고성능 시스템입니다.

고급 유도 가열 기술을 사용하는 이 퍼니스는 빠른 가열, 정밀한 온도 제어, 낮은 에너지 소비를 제공하여 산업 규모의 SiC 결정 성장에 이상적인 솔루션입니다.

전력 전자, RF 장치 및 차세대 반도체 애플리케이션을 위한 SiC 기판 제조에 널리 사용됩니다.

SiC 성장로(PVT 방식)는 6인치, 8인치, 12인치 실리콘 카바이드(SiC) 단결정 생산을 위해 설계된 고성능 시스템입니다.

고급 유도 가열 기술을 사용하는 이 퍼니스는 빠른 가열, 정밀한 온도 제어, 낮은 에너지 소비를 제공하여 산업 규모의 SiC 결정 성장에 이상적인 솔루션입니다.

전력 전자, RF 장치 및 차세대 반도체 애플리케이션을 위한 SiC 기판 제조에 널리 사용됩니다.

주요 기능

  • 인덕션 히팅 시스템
    흑연 도가니의 직접 전자기 가열로 높은 효율과 빠른 열 반응 보장

  • 초정밀 온도 제어
    최대 ±1°C의 정확도로 안정적인 결정 성장 조건 보장

  • 낮은 에너지 소비
    최적화된 열 설계로 운영 비용 대폭 절감

  • 높은 안정성 및 낮은 오염도
    비접촉식 가열 + 불활성 가스 환경으로 불순물 최소화

  • 대구경 크리스털을 위한 확장성
    6인치, 8인치 및 12인치 SiC 결정 성장 지원

기술 사양

매개변수 사양
치수(L×W×H) 3200 × 1150 × 3600mm(사용자 지정 가능)
퍼니스 챔버 직경 400mm
최대 온도 2400°C
온도 범위 900-3000°C
온도 정확도 ±1°C
가열 방법 인덕션 히팅
전원 공급 장치 40kW, 8-12kHz
진공 레벨 5 × 10-⁴ Pa
압력 범위 1-700 기압
온도 측정 듀얼 컬러 적외선
로드 방법 하단 로딩

디자인 이점

  • 반절연 및 전도성 SiC 결정 성장과 호환 가능

  • 도가니 회전 시스템으로 온도 균일성 향상

  • 조절 가능한 인덕션 코일 리프팅으로 열 방해 감소

  • 이중층 수냉식 쿼츠 챔버로 장비 수명 연장

  • 실시간 듀얼 포인트 온도 모니터링

  • 다양한 제어 모드: 정전력/전류/온도 유지

  • 자동화된 운영을 위한 원클릭 인텔리전트 시작

  • 효율적인 공장 레이아웃을 위한 컴팩트한 구조

  • 고정밀 압력 제어(최대 ±1 Pa)

성능 및 애플리케이션

이 퍼니스는 고순도(≥99.999%) 및 저결함 SiC 단결정을 성장시키는 데 중요한 역할을 합니다:

  • SiC MOSFET

  • 쇼트키 다이오드

  • RF 장치

  • 전기 자동차(EV 파워 모듈)

  • 태양광 인버터

  • 5G 통신 시스템

안정적인 열 제어와 최적화된 성장 조건을 갖춘 이 시스템은 산업 생산을 위한 높은 수율, 일관성 및 확장성을 보장합니다.

당사의 역량(ZMSH)

1. 장비 제조

  • 맞춤형 SiC 성장로 설계

  • 다양한 크리스탈 크기 및 공정 요구 사항 지원

2. 프로세스 최적화

  • PVT 성장 매개변수 조정

  • 수율 및 결함 밀도 개선

3. 설치 및 교육

  • 현장 시운전

  • 운영 및 유지보수 교육

4. 판매 후 지원

  • 연중무휴 기술 지원

  • 빠른 응답 엔지니어링 지원

자주 묻는 질문

Q1: SiC 결정 성장에서 PVT 방식이란 무엇인가요?
A: 물리적 증기 수송(PVT)은 SiC 분말을 고온에서 승화시키고 시드 결정에 재결정하여 벌크 단결정을 형성하는 공정입니다.

Q2: SiC 성장에 유도 가열을 선택하는 이유는 무엇인가요?
A: 유도 가열은 빠른 응답, 고효율 및 정밀한 제어를 제공하며, 이는 결함이 적은 SiC 결정의 안정적인 성장에 필수적입니다.

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