Tag: Semiconductor Equipment
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Linea di automazione per la lucidatura quadrupla di wafer di silicio e SiC da 6-8 pollici con ciclo di pulizia e rimontaggio
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Forno di ossidazione LPCVD da 6/8/12 pollici Deposizione a film sottile ad alta uniformità per la produzione avanzata di semiconduttori
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Forno per la crescita di cristalli di SiC (PVT / LPE / HT-CVD) per la produzione di cristalli singoli di carburo di silicio di alta qualità
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Forno di crescita SiC (metodo PVT) per la produzione di cristalli di carburo di silicio da 6-12 pollici
