Qu'est-ce que le TIR de plaquette et en quoi diffère-t-il du TTV ?

Table des matières

Dans fabrication de semi-conducteurs, la géométrie des plaquettes joue un rôle essentiel dans la stabilité des procédés, la précision de la lithographie, la qualité du collage et, en fin de compte, le rendement des dispositifs. À mesure que le diamètre des plaquettes ne cesse d’augmenter et que les technologies d’encapsulation avancées deviennent de plus en plus exigeantes, le besoin d’une métrologie précise des plaquettes n’a jamais été aussi grand.

Parmi les nombreux paramètres utilisés pour évaluer la qualité des plaquettes, Variation totale de l'épaisseur (TTV) et Lecture totale indiquée (TIR) sont fréquemment rencontrées. Bien que ces deux mesures soient liées à l'épaisseur et à la planéité de la plaquette, elles décrivent des caractéristiques physiques différentes et sont souvent mal comprises.

Cet article présente les définitions, les méthodes de mesure, les applications et les principales différences entre le TIR et le TTV, afin d'aider les ingénieurs à mieux comprendre les spécifications géométriques des plaquettes.

Comprendre les mesures d'épaisseur des plaquettes

Plaquette semi-conductrices doivent présenter une épaisseur très homogène sur toute leur surface. Même de légères variations peuvent avoir une incidence sur :

  • Précision de la mise au point en lithographie
  • Manipulation et transport des plaquettes
  • Procédés d'assemblage de plaquettes
  • Performances du CMP
  • Fiabilité et rendement des dispositifs

Pour évaluer l'uniformité de l'épaisseur, les fabricants ont recours à plusieurs paramètres géométriques, notamment :

  • Épaisseur
  • TTV (variation de l'épaisseur totale)
  • Arc
  • Distorsion
  • TIR (valeur totale indiquée)

Chaque paramètre fournit des informations spécifiques sur l'état physique de la plaquette.

Qu'est-ce que TTV (variation de l'épaisseur totale)?

Définition

Le TTV correspond à la différence entre l'épaisseur maximale et l'épaisseur minimale mesurées sur une plaquette.

Mathématiquement :

TTV = Épaisseur maximale − Épaisseur minimale

La méthode TTV se concentre exclusivement sur l'uniformité de l'épaisseur et ne tient pas compte de l'orientation ni du comportement en rotation de la plaquette.

Principe de mesure

Les mesures d'épaisseur sont effectuées en plusieurs points sur la surface de la plaquette à l'aide :

  • Capteurs capacitifs
  • Interféromètres optiques
  • Jauges d'épaisseur à contact
  • Systèmes de métrologie laser

Les valeurs d'épaisseur maximale et minimale sont déterminées, et leur différence correspond à la valeur TTV.

Exemple

Si l'épaisseur d'une plaquette est comprise entre :

  • Épaisseur maximale : 726 μm
  • Épaisseur minimale : 721 μm

Puis :

TTV = 726 − 721 = 5 μm

Un TTV plus faible indique une meilleure uniformité d'épaisseur.

Qu'est-ce que le TIR (Total Indicated Reading) ?

Définition

Le TIR mesure la variation totale observée lorsqu'une plaquette tourne autour de son axe central.

Contrairement au TTV, le TIR reflète l'influence combinée des éléments suivants :

  • Variation d'épaisseur
  • Irrégularités de surface
  • Excentricité de la plaquette
  • Erreurs d'alignement des éléments de fixation
  • Faux-rond de surface

La technologie TIR est couramment utilisée dans les applications de mécanique de précision et de métrologie.

Principe de mesure

La plaquette est fixée sur un axe et tourne de 360 degrés tandis qu'un capteur de déplacement enregistre en continu les mouvements de la surface.

La différence entre la valeur maximale et la valeur minimale relevées pendant la rotation est définie comme suit :

TIR = valeur maximale de l'indicateur − valeur minimale de l'indicateur

Exemple

Pendant la rotation :

  • Valeur maximale : +3 μm
  • Valeur minimale : −4 μm

Puis :

TIR = 3 − (−4) = 7 μm

TTV et TIR : principales différences

ParamètresTTVTIR
Nom completVariation de l'épaisseur totaleLecture totale indiquée
Objectif principalUniformité de l'épaisseurVariation de la surface de rotation
Mesure-t-il l'épaisseur ?OuiEn partie
Une influence de la forme de la surface ?NonOui
Est-ce dû à l'excentricité de la plaquette ?NonOui
Faut-il le tourner ?NonOui
Application typeQualification des plaquettes de semi-conducteursMétrologie de précision et alignement des équipements

La distinction la plus importante est la suivante :

La technique TTV mesure directement les variations d'épaisseur, tandis que la technique TIR mesure les variations globales de position lors de la rotation.

De ce fait, les valeurs TIR sont souvent supérieures aux valeurs TTV, car elles intègrent des erreurs géométriques supplémentaires.

Lien entre le TIR et le TTV

Bien qu'ils soient liés, les termes « TIR » et « TTV » ne sont pas interchangeables.

Dans une plaquette idéale :

  • Centrage parfait
  • Alignement parfait de la broche
  • Aucune irrégularité de surface

La valeur TIR peut se rapprocher de la valeur TTV.

Cependant, dans les environnements de production réels, le TIR est généralement influencé par d'autres facteurs :

Faux-rond de surface

Des ondulations microscopiques ou des défauts locaux peuvent entraîner une augmentation des valeurs indiquées par l'indicateur.

Excentricité de la plaquette

Si le centre de la plaquette n'est pas parfaitement aligné avec l'axe de la broche, la TIR augmente.

Erreurs de calendrier

La planéité du mandrin et la précision du montage peuvent être à l'origine de variations dans les mesures.

Vibrations mécaniques

L'instabilité de l'équipement peut être à l'origine d'un bruit de mesure.

Par conséquent :

Dans la plupart des cas concrets, TIR est supérieur ou égal à TTV.

Pourquoi le TIR est-il important dans la fabrication de semi-conducteurs ?

À mesure que le diamètre des plaquettes passe de 150 mm et 200 mm à 300 mm et au-delà, la précision géométrique revêt une importance croissante.

Les mesures TIR sont couramment utilisées dans :

Meulage de plaquettes

Contrôle de la précision de la broche pendant les opérations de rectification arrière.

Polissage des plaquettes

Évaluation de la stabilité en rotation lors des opérations de CMP.

Systèmes d'inspection de plaquettes

Garantir un positionnement et une mise au point précis.

Assemblage de plaquettes

Réduire les erreurs d'alignement dans les applications d'encapsulation de pointe.

Fabrication de MEMS

Respecter des exigences strictes en matière de planéité pour les structures microélectromécaniques.

Exigences typiques du secteur

Les valeurs admissibles de TTV et de TIR dépendent du type de plaquette et de l'application.

Plaquettes de silicium

DiamètreTTV typique
150 mm< 5 μm
200 mm< 3 μm
300 mm< 1 μm

Plaquettes de SiC de pointe

DiamètreTTV typique
6 pouces< 10 μm
8 pouces< 5 μm

Les spécifications TIR sont généralement déterminées par les fabricants d'équipements et les exigences du procédé, plutôt que par les seules normes relatives aux substrats.

TIR, TTV, courbure et déformation : une vue d'ensemble

Aucun paramètre ne permet à lui seul de décrire entièrement la géométrie d'une plaquette.

Les ingénieurs évaluent généralement :

ParamètresDescription
ÉpaisseurÉpaisseur moyenne de la plaquette
TTVUniformité de l'épaisseur
TIRVariation de rotation
ArcDécalage du centre par rapport au plan de référence
DistorsionDéformation globale de la plaquette

Ensemble, ces mesures permettent d'avoir une vision globale de la qualité des plaquettes et de la compatibilité des procédés.

Conclusion

Le TTV et le TIR sont tous deux des paramètres de métrologie des plaquettes essentiels, mais ils ont des fonctions différentes.

Le TTV permet de quantifier l'uniformité de l'épaisseur sur toute la surface de la plaquette, ce qui en fait une spécification essentielle pour les fabricants de substrats et les usines de semi-conducteurs. Le TIR, quant à lui, mesure la variation positionnelle totale lors de la rotation et reflète les effets combinés des variations d'épaisseur, des irrégularités de surface et de l'alignement mécanique.

Alors que la fabrication de semi-conducteurs continue d'évoluer vers des diamètres de plaquettes plus grands, des techniques d'encapsulation avancées et des tolérances de processus plus strictes, il devient de plus en plus important pour les ingénieurs impliqués dans la production de plaquettes, leur inspection et la fabrication de dispositifs de bien comprendre la distinction entre le TTV et le TIR.

En évaluant avec précision ces deux paramètres, les fabricants peuvent améliorer la stabilité des processus, les performances des équipements et le rendement global des dispositifs.