Tag: Semiconductor Fabrication Equipment
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem op kamertemperatuur voor verwerking van 6-8 inch siliciumwafers
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Ai300 (Medium Beam) Ionenimplantatiesysteem op hoge temperatuur voor 12-inch waferverwerking
-
Apparatuur voor ionenimplantatie
Hoog rendement Ai80HC (High Beam) Ion implantatie-apparatuur voor geavanceerde silicium wafer doping
