Tag: 12 inch SiC growth furnace
Categorie prodotto
- Macchina incollatrice
- Apparecchiature di rivestimento/deposizione
- Forno per la crescita dei cristalli
- Apparecchiature per la cubettatura
- Apparecchiature per epitassia
- Rettificatrice
- Apparecchiature di ispezione
- Macchina da taglio laser
- Macchina per la foratura laser
- Macchina per la lucidatura
- Wafer
- Macchina per la pulizia dei wafer
- Macchina per sega a filo
Visualizzazione del risultato
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Forno per la crescita dei cristalli
Forno di crescita a resistenza a cristallo singolo SiC per la produzione di wafer da 6, 8 e 12 pollici (metodo PVT)

