SiC egykristályos ellenállásfűtéses növesztő kemence 6 hüvelykes, 8 hüvelykes és 12 hüvelykes ostyagyártáshoz (PVT módszer)

Magas hőmérsékletű SiC egykristályos ellenállásfűtéses növesztő kemence 6 hüvelykes, 8 hüvelykes és 12 hüvelykes ostyák gyártásához. Stabil PVT kristálynövesztéshez és ipari gyártáshoz tervezték.

Termék áttekintés

 

A ZMSH SiC egykristályos ellenállásfűtéses növesztő kemence egy magas hőmérsékletű kristálynövesztő rendszer, amelyet kifejezetten nagy átmérőjű szilíciumkarbid egykristályok gyártására terveztek, és amely támogatja a 6, 8 és 12 hüvelykes SiC ostyák gyártását.

uring.

A kemencét a fizikai gőztranszport (PVT) kristálynövesztés elve alapján tervezték, amely integrálja a pontos ellenállásfűtés-szabályozást, a stabil hőmező-eloszlást, a nagyvákuumú környezet kezelését és a pontos nyomásszabályozást.
Ez a konfiguráció lehetővé teszi a nagy tisztaságú, alacsony hibasűrűségű SiC egykristályok növesztését, amelyek alkalmasak a fejlett teljesítmény-félvezető és elektronikus eszköz alkalmazásokhoz.

A rendszert úgy fejlesztették ki, hogy megfeleljen az ipari termelés követelményeinek, biztosítva a folyamat stabilitását, megismételhetőségét és hosszú távú működési megbízhatóságát a nagyszabású SiC-kristályok növekedési környezetében.

Alapvető műszaki képességek

 

Nagy stabilitású ellenállásfűtési rendszer

A kemence többzónás ellenállásfűtési szerkezetet alkalmaz az egyenletes axiális és radiális hőmérsékleteloszlás elérése érdekében. Ez minimalizálja a hőgradienseket, csökkenti a belső feszültséget, és javítja a kristályszerkezet integritását a növekedési folyamat során.

Precíziós hő- és nyomásszabályozás

  • Maximális üzemi hőmérséklet 2500°C-ig

  • Hőmérséklet-szabályozási pontosság: ±1°C

  • Széles nyomásszabályozási tartomány: mbar

Ezek a paraméterek stabil termodinamikai környezetet biztosítanak, amely elengedhetetlen a SiC növekedése során a szabályozott szublimációhoz, a gőztranszporthoz és a kristályok átkristályosodásához.

Nagy átmérőjű kristálynövesztési kapacitás

A 900 mm-es tégelyátmérővel a rendszer támogatja a következő generációs 8 és 12 hüvelykes SiC-ingotok növekedését, lehetővé téve a gyártók számára a termelés skálázását, miközben javítja a hozamot és a szeletek konzisztenciáját.

Nagy vákuumú növekedési környezet

A kemence alacsony szivárgású, nagy vákuumú növekedési kamrát tart fenn, amely biztosítja a szennyezés kockázatának csökkentését, a kristályok tisztaságának javítását és a stabil, hosszú ideig tartó működést.

Ipari alkalmazások

 

  • Teljesítmény félvezető szubsztrátumok

  • Elektromos járművek teljesítménymoduljai

  • Nagyfeszültségű MOSFET és diódás eszközök

  • Megújuló energiát hasznosító energiaátalakító rendszerek

  • Nagyfrekvenciás és RF elektronikai alkatrészek

  • Ipari teljesítményelektronika

 

Műszaki specifikációk

 

Nem. Specifikáció Részletek
1 Modell PVT-RS-40
2 A kemence méretei (L × Sz × H) 2500 × 2400 × 3456 mm
3 Tégely átmérője 900 mm
4 Végső vákuumnyomás 6 × 10-⁴ Pa (1,5 óra vákuum után)
5 Szivárgás mértéke ≤5 Pa / 12 óra (sütés)
6 Forgatás tengely átmérője 50 mm
7 Forgási sebesség 0,5-5 fordulat/perc
8 Fűtési módszer Elektromos ellenállásfűtés
9 Maximális kemence-hőmérséklet 2500°C
10 Fűtési teljesítmény 40 kW × 2 + 20 kW
11 Hőmérséklet mérés Kétszínű infravörös pirométer
12 Hőmérséklet tartomány 900-3000°C
13 Hőmérséklet pontosság ±1°C
14 Nyomás tartomány 1-700 mbar
15 Nyomásszabályozás pontossága ±0,5% teljes skála
16 Művelet típusa Alsó betöltés, kézi vagy automatikus biztonsági üzemmód
17 Választható konfigurációk Többzónás fűtés, kettős hőmérséklet-ellenőrzés

Kristálynövekedési teljesítmény

 

A rendszer lehetővé teszi kiváló minőségű SiC egykristályok előállítását:

  • Alacsony diszlokációs sűrűség

  • Nagy szerkezeti egységesség

  • Stabil elektromos tulajdonságok

  • Kiváló termikus és mechanikai teljesítmény

Ezek a jellemzők kritikusak a nagy teljesítményű, nagyfeszültségű és nagyfrekvenciás eszközök gyártásában használt félvezető minőségű ostyák esetében.

ZMSH mérnöki szolgáltatások

 

Egyedi rendszerkonfiguráció

A kemence szerkezete, a fűtési zónák, a vezérlőrendszerek és a kamra méretei testre szabhatók a gyártási léptéknek és az ostyaméretnek megfelelően.

Telepítés és üzembe helyezés

A rendszer helyszíni telepítését, kalibrálását és működési ellenőrzését professzionális mérnöki csapatok végzik.

Műszaki képzés

A kezelői képzési programok a berendezések üzemeltetését, a folyamatszabályozást, a karbantartást és a hibadiagnosztikát foglalják magukban.

Hosszú távú támogatás

Az egész életcikluson át tartó műszaki támogatás, karbantartási szolgáltatások és pótalkatrész-ellátás biztosítja a hosszú távú stabil működést.

GYIK

 

1. kérdés: Milyen kristálynövesztési módszert használ ez a kemence?
V: A kemence a fizikai gőztranszport (PVT) módszer alapján működik, amely lehetővé teszi a szilícium-karbid ellenőrzött szublimációját és átkristályosítását magas hőmérsékleten, így alkalmas a kiváló minőségű egykristályok növesztésére.

2. kérdés: Milyen ostyaméreteket támogat a kemence?
V: A rendszert 6 hüvelykes, 8 hüvelykes és 12 hüvelykes szilíciumkarbid egykristályok növesztésére tervezték, támogatva a jelenlegi és a következő generációs ostyagyártási követelményeket.

3. kérdés: Alkalmas-e a kemence ipari méretű termelésre?
V: Igen. A rendszert folyamatos ipari működésre tervezték, nagy termikus stabilitást, a folyamatok megismételhetőségét és hosszú távú megbízhatóságot kínálva a nagyszabású SiC-kristály gyártósorok számára.

Értékelések

Még nincsenek értékelések.

„SiC Single Crystal Resistance Heating Growth Furnace for 6-Inch, 8-Inch and 12-Inch Wafer Production (PVT Method)” értékelése elsőként

Az e-mail címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöltük