{"id":2342,"date":"2026-04-22T05:35:46","date_gmt":"2026-04-22T05:35:46","guid":{"rendered":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/?post_type=product&#038;p=2342"},"modified":"2026-04-22T07:27:32","modified_gmt":"2026-04-22T07:27:32","slug":"high-efficiency-ai80hchigh-beam-ion-implantation-equipment-for-advanced-silicon-wafer-doping","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/product\/high-efficiency-ai80hchigh-beam-ion-implantation-equipment-for-advanced-silicon-wafer-doping\/","title":{"rendered":"Equipamento de implanta\u00e7\u00e3o de i\u00f5es Ai80HC (feixe elevado) de elevada efici\u00eancia para dopagem avan\u00e7ada de bolachas de sil\u00edcio"},"content":{"rendered":"<p data-start=\"153\" data-end=\"528\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"alignright wp-image-2343 size-medium\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-300x300.png\" alt=\"Equipamento de implanta\u00e7\u00e3o de i\u00f5es Ai80HC (feixe elevado) de elevada efici\u00eancia para dopagem avan\u00e7ada de bolachas de sil\u00edcio\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-300x300.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-150x150.png 150w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-768x768.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-12x12.png 12w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-600x600.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC-100x100.png 100w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/AI80HC.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>O equipamento de implanta\u00e7\u00e3o de i\u00f5es Ai80HC (feixe elevado) \u00e9 um implantador de i\u00f5es de alta corrente especificamente concebido para linhas de produ\u00e7\u00e3o de semicondutores de bolachas de sil\u00edcio de 12 polegadas. Foi concebido para processos avan\u00e7ados de dopagem de precis\u00e3o no fabrico de circuitos integrados modernos, proporcionando um desempenho est\u00e1vel do feixe, uma elevada repetibilidade do processo e uma excelente precis\u00e3o do controlo da dose.<\/p>\n<p data-start=\"530\" data-end=\"891\">O sistema opera dentro de uma ampla faixa de energia de 0,5 keV a 80 keV, permitindo condi\u00e7\u00f5es flex\u00edveis de implanta\u00e7\u00e3o para engenharia de jun\u00e7\u00e3o de profundidade rasa e m\u00e9dia. Ele suporta m\u00faltiplas esp\u00e9cies de implanta\u00e7\u00e3o, incluindo \u00b9\u00b9B\u207a, \u2074\u2079BF\u2082\u207a, \u00b3\u00b9P\u207a, \u2077\u2075As\u207a, \u00b9\u2074N\u207a e \u00b9H\u207a, tornando-o adequado para uma ampla gama de processos de fabrica\u00e7\u00e3o de dispositivos l\u00f3gicos avan\u00e7ados e CMOS.<\/p>\n<p data-start=\"893\" data-end=\"1243\">Com uma gama de \u00e2ngulos de implanta\u00e7\u00e3o de 0\u00b0 a 45\u00b0 e uma elevada precis\u00e3o angular de \u2264 0,1\u00b0, o sistema assegura um controlo preciso da distribui\u00e7\u00e3o de dopantes e da engenharia do perfil da jun\u00e7\u00e3o. Combinado com o paralelismo do feixe de \u2264 0,3\u00b0 e a uniformidade de \u2264 1% (1\u03c3), o Ai80HC (High Beam) proporciona uma estabilidade consistente do processo wafer-to-wafer e dentro do wafer.<\/p>\n<p data-start=\"1245\" data-end=\"1496\">Concebido para ambientes de produ\u00e7\u00e3o de elevada efici\u00eancia, o sistema atinge um rendimento de \u2265 200 bolachas por hora (WPH), mantendo uma rigorosa estabilidade do processo, o que o torna adequado para linhas de fabrico de semicondutores avan\u00e7ados compat\u00edveis com LSI.<\/p>\n<h2 data-section-id=\"12rj9ab\" data-start=\"1101\" data-end=\"1126\">Arquitetura do sistema<\/h2>\n<p data-start=\"1128\" data-end=\"1199\">O Ai80HC adopta uma conce\u00e7\u00e3o de linha de luz madura e fi\u00e1vel, constitu\u00edda por<\/p>\n<ul data-start=\"1201\" data-end=\"1436\">\n<li data-section-id=\"1kfcth9\" data-start=\"1201\" data-end=\"1215\">Fonte de i\u00f5es<\/li>\n<li data-section-id=\"1r1hm7c\" data-start=\"1216\" data-end=\"1237\">Sistema de extra\u00e7\u00e3o<\/li>\n<li data-section-id=\"1twz66q\" data-start=\"1238\" data-end=\"1255\">Analisador de massa<\/li>\n<li data-section-id=\"ywuuxz\" data-start=\"1256\" data-end=\"1280\">Sistema de lentes magn\u00e9ticas<\/li>\n<li data-section-id=\"1s57tik\" data-start=\"1281\" data-end=\"1302\">Tubo de acelera\u00e7\u00e3o<\/li>\n<li data-section-id=\"pg1cgy\" data-start=\"1303\" data-end=\"1336\">Sistema de varrimento eletrost\u00e1tico<\/li>\n<li data-section-id=\"1iwk7km\" data-start=\"1337\" data-end=\"1367\">Lente de forma\u00e7\u00e3o de feixe paralelo<\/li>\n<li data-section-id=\"1cur4hx\" data-start=\"1368\" data-end=\"1401\">C\u00e2mara de processamento (esta\u00e7\u00e3o final)<\/li>\n<li data-section-id=\"qtlnqu\" data-start=\"1402\" data-end=\"1436\">Sistema de Cassete \/ Carregador de Wafer<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"1438\" data-end=\"1458\">Est\u00e1 equipado com:<\/p>\n<ul data-start=\"1459\" data-end=\"1572\">\n<li data-section-id=\"1jzaueb\" data-start=\"1459\" data-end=\"1494\">Est\u00e1gio de mandril de wafer eletrost\u00e1tico<\/li>\n<li data-section-id=\"1s8wavu\" data-start=\"1495\" data-end=\"1530\">Tecnologia de fonte de i\u00f5es de longa dura\u00e7\u00e3o<\/li>\n<li data-section-id=\"6mih95\" data-start=\"1531\" data-end=\"1572\">Sistema de manuseamento de bolachas totalmente automatizado<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"1574\" data-end=\"1686\">Esta arquitetura assegura uma elevada estabilidade do feixe, reduz o tempo de paragem para manuten\u00e7\u00e3o e melhora a repetibilidade do processo.<\/p>\n<p data-start=\"1574\" data-end=\"1686\"><img decoding=\"async\" class=\"aligncenter wp-image-2371 size-large\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-1024x388.png\" alt=\"\" width=\"1024\" height=\"388\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-1024x388.png 1024w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-300x114.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-768x291.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-18x7.png 18w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs-600x227.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/rs.png 1216w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/p>\n<h2 data-section-id=\"106914\" data-start=\"1693\" data-end=\"1727\">Principais especifica\u00e7\u00f5es t\u00e9cnicas<\/h2>\n<table>\n<thead>\n<tr>\n<th>Item<\/th>\n<th>Especifica\u00e7\u00e3o<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Tamanho da pastilha<\/td>\n<td>12 polegadas<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Gama de energia<\/td>\n<td>0,5 - 80 keV<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Elementos Implantados<\/td>\n<td>\u00b9\u00b9B\u207a, \u2074\u2079BF\u2082\u207a, \u00b3\u00b9P\u207a, \u2077\u2075As\u207a, \u00b9\u2074N\u207a, \u00b9H\u207a<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>\u00c2ngulo do implante<\/td>\n<td>0\u00b0 - 45\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Precis\u00e3o do \u00e2ngulo<\/td>\n<td>\u2264 0.1\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Intervalo de dose<\/td>\n<td>5E11 - 1E17 i\u00f5es\/cm\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Estabilidade da viga<\/td>\n<td>\u2264 10% \/ hora (no espa\u00e7o de 60 minutos; interrup\u00e7\u00e3o do feixe e forma\u00e7\u00e3o de arcos \u2264 1 vez)<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Paralelismo de vigas<\/td>\n<td>\u2264 0.3\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Rendimento (WPH)<\/td>\n<td>\u2265 200 bolachas\/hora<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Uniformidade (1\u03c3)<\/td>\n<td>\u2264 1%<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Repetibilidade (1\u03c3)<\/td>\n<td>\u2264 1%<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Compatibilidade de processos<\/td>\n<td>Compat\u00edvel com o processo LSI<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<h2 data-section-id=\"yb78ly\" data-start=\"2475\" data-end=\"2506\">Principais carater\u00edsticas e vantagens<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"13hha2k\" data-start=\"2508\" data-end=\"2541\">1. Sistema de controlo inteligente<\/h3>\n<p data-start=\"2542\" data-end=\"2706\">Equipado com uma plataforma de software visualizada e inteligente, permitindo uma opera\u00e7\u00e3o simplificada, um diagn\u00f3stico r\u00e1pido de falhas e uma elevada estabilidade do sistema durante a produ\u00e7\u00e3o.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1cy4f9q\" data-start=\"2713\" data-end=\"2740\">2. Fonte de i\u00f5es de longa dura\u00e7\u00e3o<\/h3>\n<p data-start=\"2741\" data-end=\"2863\">Adopta um design avan\u00e7ado de fonte de i\u00f5es com uma vida \u00fatil de \u2265500 horas, reduzindo significativamente o tempo de inatividade e o custo de manuten\u00e7\u00e3o.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"4euk5j\" data-start=\"2870\" data-end=\"2903\">3. Capacidade de diagn\u00f3stico do feixe<\/h3>\n<p data-start=\"2904\" data-end=\"2988\">Sistema integrado de medi\u00e7\u00e3o do perfil do feixe 2D, capaz de monitorizar com precis\u00e3o:<\/p>\n<ul data-start=\"2989\" data-end=\"3019\">\n<li data-section-id=\"1ct5xfp\" data-start=\"2989\" data-end=\"3003\">Largura do feixe<\/li>\n<li data-section-id=\"1vm2uvw\" data-start=\"3004\" data-end=\"3019\">Altura do feixe<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"3021\" data-end=\"3092\">Isto melhora a precis\u00e3o da implanta\u00e7\u00e3o e aumenta a repetibilidade do processo.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"qq9ajq\" data-start=\"3099\" data-end=\"3132\">4. Alta efici\u00eancia de produ\u00e7\u00e3o<\/h3>\n<p data-start=\"3133\" data-end=\"3310\">O Ai80HC oferece um desempenho de produ\u00e7\u00e3o mais de 1,5 vezes superior ao dos sistemas convencionais, tornando-o adequado para ambientes de fabrico de semicondutores de grande volume.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1h2ge5m\" data-start=\"3317\" data-end=\"3357\">5. Fun\u00e7\u00e3o de implante de padr\u00e3o avan\u00e7ado<\/h3>\n<p data-start=\"3358\" data-end=\"3429\">Suporta a implanta\u00e7\u00e3o i\u00f3nica padronizada, permitindo a distribui\u00e7\u00e3o da dose em:<\/p>\n<ul data-start=\"3430\" data-end=\"3488\">\n<li data-section-id=\"fqh2r6\" data-start=\"3430\" data-end=\"3450\">Regi\u00f5es circulares<\/li>\n<li data-section-id=\"1aoby05\" data-start=\"3451\" data-end=\"3488\">Segmenta\u00e7\u00e3o de bolachas por quadrantes<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"3490\" data-end=\"3502\">Isto permite:<\/p>\n<ul data-start=\"3503\" data-end=\"3617\">\n<li data-section-id=\"chxy3y\" data-start=\"3503\" data-end=\"3552\">M\u00faltiplas condi\u00e7\u00f5es de processo numa \u00fanica bolacha<\/li>\n<li data-section-id=\"z1xkzj\" data-start=\"3553\" data-end=\"3589\">Redu\u00e7\u00e3o do custo de desenvolvimento do processo<\/li>\n<li data-section-id=\"15uh0gh\" data-start=\"3590\" data-end=\"3617\">Melhoria da efici\u00eancia da I&amp;D<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"3619\" data-end=\"3780\">Exemplo: Uma \u00fanica bolacha pode receber simultaneamente quatro condi\u00e7\u00f5es de implanta\u00e7\u00e3o diferentes em quatro quadrantes, acelerando significativamente a otimiza\u00e7\u00e3o do processo.<\/p>\n<h2 data-section-id=\"18zz1hm\" data-start=\"3787\" data-end=\"3810\">Aplica\u00e7\u00e3o<\/h2>\n<ul data-start=\"3812\" data-end=\"4005\">\n<li data-section-id=\"16inq9u\" data-start=\"3812\" data-end=\"3839\">Fabrico de dispositivos CMOS<\/li>\n<li data-section-id=\"xjegvm\" data-start=\"3840\" data-end=\"3875\">Fabrico avan\u00e7ado de circuitos integrados l\u00f3gicos<\/li>\n<li data-section-id=\"1xlm3tz\" data-start=\"3876\" data-end=\"3906\">Dopagem de semicondutores de pot\u00eancia<\/li>\n<li data-section-id=\"1ursyu4\" data-start=\"3907\" data-end=\"3959\">Linhas-piloto de semicondutores para investiga\u00e7\u00e3o e desenvolvimento<\/li>\n<li data-section-id=\"1k6v1m6\" data-start=\"3960\" data-end=\"4005\">Produ\u00e7\u00e3o de circuitos integrados \u00e0 base de sil\u00edcio<\/li>\n<\/ul>\n<h2 data-section-id=\"1idaiwr\" data-start=\"58\" data-end=\"95\">Perguntas frequentes (FAQ)<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"squ7m7\" data-start=\"97\" data-end=\"166\">1. Para que tamanho de bolacha foi concebido o sistema Ai80HC (High Beam)?<\/h3>\n<p data-start=\"167\" data-end=\"381\">O sistema de implanta\u00e7\u00e3o i\u00f3nica Ai80HC (feixe elevado) foi concebido para linhas de produ\u00e7\u00e3o de bolachas de sil\u00edcio de 12 polegadas, o que o torna adequado para o fabrico de semicondutores avan\u00e7ados e para o fabrico de circuitos integrados de grande volume.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"foelcb\" data-start=\"388\" data-end=\"458\">2. Qual \u00e9 a gama de energia e a capacidade de processamento deste sistema?<\/h3>\n<p data-start=\"459\" data-end=\"716\">O sistema funciona numa gama de energia de 0,5 keV a 80 keV, suportando implanta\u00e7\u00e3o superficial e de profundidade m\u00e9dia. \u00c9 compat\u00edvel com os processos LSI, incluindo a forma\u00e7\u00e3o de jun\u00e7\u00f5es pouco profundas e a engenharia de fonte\/dreno em estruturas de dispositivos avan\u00e7ados.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"jluc3f\" data-start=\"723\" data-end=\"792\">3. Qual \u00e9 o n\u00edvel de precis\u00e3o e estabilidade do sistema?<\/h3>\n<p data-start=\"793\" data-end=\"850\">O Ai80HC (High Beam) garante uma elevada consist\u00eancia do processo com:<\/p>\n<ul data-start=\"851\" data-end=\"965\">\n<li data-section-id=\"8ldlzj\" data-start=\"851\" data-end=\"878\">Precis\u00e3o angular \u2264 0,1\u00b0<\/li>\n<li data-section-id=\"nyztaj\" data-start=\"879\" data-end=\"905\">Uniformidade (1\u03c3) \u2264 1%<\/li>\n<li data-section-id=\"ai4v3y\" data-start=\"906\" data-end=\"935\">Repetibilidade (1\u03c3) \u2264 1%<\/li>\n<li data-section-id=\"1hjdqzq\" data-start=\"936\" data-end=\"965\">Paralelismo do feixe \u2264 0,3\u00b0<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"967\" data-end=\"1069\">Estas especifica\u00e7\u00f5es garantem um desempenho est\u00e1vel de wafer para wafer e uma produ\u00e7\u00e3o de semicondutores de elevado rendimento.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>O sistema de implanta\u00e7\u00e3o i\u00f3nica da s\u00e9rie Ai80HC (High Beam) \u00e9 um implantador de i\u00f5es de alta corrente especificamente concebido para linhas de produ\u00e7\u00e3o de semicondutores de bolachas de sil\u00edcio de 12 polegadas. Foi concebido para processos avan\u00e7ados de dopagem de precis\u00e3o no fabrico de circuitos integrados modernos, proporcionando um desempenho est\u00e1vel do feixe, uma elevada repetibilidade do processo e uma excelente precis\u00e3o do controlo da dose.<\/p>","protected":false},"featured_media":2343,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center 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