\n| Densidade de defeitos<\/td>\n | \u22640,2 cm-\u00b2 (optimizado para 0,01 cm-\u00b2)<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\nCen\u00e1rios de aplica\u00e7\u00e3o<\/span><\/h2>\nEste equipamento \u00e9 amplamente utilizado na produ\u00e7\u00e3o de dispositivos avan\u00e7ados de semicondutores baseados em SiC, particularmente em ind\u00fastrias que exigem alta efici\u00eancia, alta tens\u00e3o e alto desempenho t\u00e9rmico:<\/p>\n \n- Ve\u00edculos el\u00e9ctricos (VEs)
Utilizado na produ\u00e7\u00e3o de MOSFETs SiC e m\u00f3dulos de pot\u00eancia para inversores, carregadores de bordo e conversores DC-DC, melhorando a efici\u00eancia energ\u00e9tica e a autonomia de condu\u00e7\u00e3o.<\/li>\n - Sistemas de energia renov\u00e1vel
Aplicado em inversores fotovoltaicos e sistemas de armazenamento de energia, permitindo uma maior efici\u00eancia de convers\u00e3o e fiabilidade do sistema.<\/li>\n - Eletr\u00f3nica de pot\u00eancia industrial
Adequado para accionamentos de motores de alta pot\u00eancia, sistemas de automa\u00e7\u00e3o industrial e unidades de fornecimento de energia que requerem um funcionamento est\u00e1vel e eficiente.<\/li>\n - Tr\u00e2nsito ferrovi\u00e1rio e redes el\u00e9ctricas
Suporta dispositivos de alta tens\u00e3o e alta frequ\u00eancia utilizados em redes inteligentes, sistemas de tra\u00e7\u00e3o e infra-estruturas de transmiss\u00e3o de energia.<\/li>\n - Dispositivos de pot\u00eancia topo de gama
Ideal para o fabrico de dispositivos SiC avan\u00e7ados, tais como d\u00edodos Schottky, MOSFETs e componentes de alta tens\u00e3o da pr\u00f3xima gera\u00e7\u00e3o.<\/li>\n<\/ul>\n![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-1024x578.png\") <\/p>\n
FAQ<\/span><\/h2>\n1. Que tamanhos de bolacha s\u00e3o suportados por este equipamento de epitaxia?<\/span><\/h3>\nO sistema suporta wafers de SiC de 6 e 8 polegadas, permitindo que os fabricantes satisfa\u00e7am as actuais exig\u00eancias de produ\u00e7\u00e3o enquanto se preparam para uma futura expans\u00e3o.<\/p>\n 2. Que vantagens oferece a conce\u00e7\u00e3o do fluxo de ar vertical?<\/span><\/h3>\nO sistema de fluxo de ar vertical garante uma distribui\u00e7\u00e3o uniforme do g\u00e1s pela bolacha, melhorando a consist\u00eancia da espessura, reduzindo os defeitos e melhorando a qualidade epitaxial geral.<\/p>\n 3. Este equipamento \u00e9 adequado para o fabrico de grandes volumes?<\/span><\/h3>\nSim, o sistema apresenta uma configura\u00e7\u00e3o de c\u00e2mara dupla e um modo de funcionamento cont\u00ednuo, com uma produ\u00e7\u00e3o mensal superior a 1100 bolachas. \u00c9 adequado para uma produ\u00e7\u00e3o industrial est\u00e1vel e em grande escala, garantindo uma produ\u00e7\u00e3o consistente, uma elevada estabilidade de rendimento e uma efici\u00eancia operacional a longo prazo.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" O equipamento epitaxial de carboneto de sil\u00edcio (SiC) de fluxo de ar vertical integrado \u00e9 um sistema avan\u00e7ado de crescimento epitaxial concebido para a produ\u00e7\u00e3o de alta efici\u00eancia de epi-wafers de SiC de 6 e 8 polegadas.<\/p>","protected":false},"featured_media":2078,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[730],"product_tag":[734,735,737,738,745,740,744,739,733,731,603,732,742,741,736,743],"class_list":{"0":"post-2077","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-epitaxy-equipment","7":"product_tag-6-inch-sic-wafer","8":"product_tag-8-inch-sic-wafer","9":"product_tag-cvd-epitaxy-system","10":"product_tag-epitaxial-growth-system","11":"product_tag-ev-power-semiconductors","12":"product_tag-high-voltage-sic-devices","13":"product_tag-industrial-power-electronics","14":"product_tag-semiconductor-manufacturing-equipment","15":"product_tag-sic-epi-wafer-production","16":"product_tag-sic-epitaxy-equipment","17":"product_tag-sic-power-devices","18":"product_tag-silicon-carbide-epitaxy-reactor","19":"product_tag-thick-epitaxy-growth","20":"product_tag-trench-filling-epitaxy","21":"product_tag-vertical-airflow-epitaxy","22":"product_tag-wafer-epitaxy-reactor","23":"desktop-align-left","24":"tablet-align-left","25":"mobile-align-left","26":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","27":"ast-product-tabs-layout-horizontal","29":"first","30":"instock","31":"shipping-taxable","32":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2077"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2082,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions\/2082"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2078"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2077"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2077"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2077"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pt\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2077"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}} |
![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-300x300.png\")
O Equipamento de Epitaxia de Carbeto de Sil\u00edcio (SiC) de Fluxo de Ar Vertical Integrado \u00e9 um sistema avan\u00e7ado de crescimento epitaxial projetado para a produ\u00e7\u00e3o de alta efici\u00eancia de epi-wafers de SiC de 6 e 8 polegadas. Concebido para satisfazer as crescentes exig\u00eancias do fabrico de semicondutores de pot\u00eancia, este sistema integra um controlo t\u00e9rmico preciso, uma din\u00e2mica de fluxo de g\u00e1s optimizada e uma automatiza\u00e7\u00e3o inteligente para proporcionar um desempenho excecional em termos de uniformidade, rendimento e controlo de defeitos.<\/p>\n![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-300x300.png\")
Principais vantagens t\u00e9cnicas<\/span><\/h2>\n