{"id":2335,"date":"2026-04-21T09:54:15","date_gmt":"2026-04-21T09:54:15","guid":{"rendered":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/?post_type=product&p=2335"},"modified":"2026-05-20T03:41:03","modified_gmt":"2026-05-20T03:41:03","slug":"ceramic-disc-cleaning-and-waxing-integrated-machine-for-semiconductor-wafer-mounting-and-pre-processing","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/product\/ceramic-disc-cleaning-and-waxing-integrated-machine-for-semiconductor-wafer-mounting-and-pre-processing\/","title":{"rendered":"Zintegrowana maszyna do czyszczenia i woskowania dysk\u00f3w ceramicznych do monta\u017cu p\u0142ytek p\u00f3\u0142przewodnikowych i obr\u00f3bki wst\u0119pnej"},"content":{"rendered":"

\"ZintegrowanaZintegrowana maszyna do czyszczenia i woskowania dysk\u00f3w ceramicznych to wysokowydajny zautomatyzowany system przeznaczony do wst\u0119pnej obr\u00f3bki p\u0142ytek p\u00f3\u0142przewodnikowych, integruj\u0105cy precyzyjne czyszczenie, suszenie i woskowanie p\u0142ytek (monta\u017c) na jednej platformie.<\/p>\n

Sprz\u0119t ten jest szeroko stosowany w SiC, Si, GaN, szafirze i zaawansowanym przetwarzaniu ceramiki, zapewniaj\u0105c stabilne wi\u0105zanie p\u0142ytek z dyskami no\u015bnymi przed procesami szlifowania, przerzedzania lub polerowania. \u0141\u0105cz\u0105c technologi\u0119 czyszczenia ultrad\u017awi\u0119kowego z inteligentn\u0105 kontrol\u0105 woskowania, system osi\u0105ga wysokie wska\u017aniki wydajno\u015bci do 99,9%, co czyni go idealnym zar\u00f3wno do produkcji masowej, jak i zaawansowanych zastosowa\u0144 p\u00f3\u0142przewodnikowych.<\/p>\n

Dzi\u0119ki w pe\u0142ni zautomatyzowanemu dzia\u0142aniu i \u0142\u0105czno\u015bci MES, maszyna ta znacznie poprawia wydajno\u015b\u0107 produkcji, sp\u00f3jno\u015b\u0107 procesu i identyfikowalno\u015b\u0107.<\/p>\n

\n

Kluczowe cechy techniczne<\/span><\/h2>\n

Zintegrowany system czyszczenia i woskowania<\/span><\/h3>\n
    \n
  • \u0141\u0105czy w sobie ceramiczny dysk czyszcz\u0105cy + podw\u00f3jn\u0105 stacj\u0119 woskuj\u0105c\u0105<\/li>\n
  • Jednoetapowa obr\u00f3bka: czyszczenie \u2192 suszenie \u2192 woskowanie<\/li>\n
  • Praca r\u00f3wnoleg\u0142a poprawia przepustowo\u015b\u0107<\/li>\n<\/ul>\n

    Niezwykle precyzyjne osiowanie<\/span><\/h3>\n
      \n
    • System pozycjonowania wizyjnego CCD<\/li>\n
    • Dok\u0142adno\u015b\u0107 wyr\u00f3wnania: \u00b10,02 mm<\/li>\n
    • Zapewnia precyzyjne umieszczenie p\u0142ytki i jako\u015b\u0107 klejenia<\/li>\n<\/ul>\n

      Kontrolowane osadzanie wosku<\/span><\/h3>\n
        \n
      • Ilo\u015b\u0107 wosku: 0,8 g \u00b10,05 g na wafel<\/li>\n
      • R\u00f3wnomierny rozk\u0142ad zapewnia stabilne mocowanie podczas szlifowania<\/li>\n<\/ul>\n

        Stabilna kontrola ci\u015bnienia<\/span><\/h3>\n
          \n
        • System pneumatyczny utrzymuje r\u00f3wnomierne ci\u015bnienie 5-10 N\/cm\u00b2<\/li>\n
        • Zapobiega wypaczaniu si\u0119 p\u0142ytek i wadom klejenia<\/li>\n<\/ul>\n

          Wysoka wydajno\u015b\u0107 i stabilno\u015b\u0107 procesu<\/span><\/h3>\n
            \n
          • Wydajno\u015b\u0107 do 99,9%<\/li>\n
          • Monitorowanie w czasie rzeczywistym z automatyczn\u0105 regulacj\u0105 parametr\u00f3w (tolerancja \u00b13%)<\/li>\n<\/ul>\n
            \n

            Specyfikacja techniczna<\/span><\/h2>\n
            \n
            \n\n\n\n\n\n\n\n\n
            Parametr<\/th>\nWarto\u015b\u0107<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
            Wymiary<\/td>\n7740 \u00d7 3390 \u00d7 2300 mm<\/td>\n<\/tr>\n
            Zasilanie<\/td>\nAC 380V, 50Hz, 90 kW<\/td>\n<\/tr>\n
            Zasilanie pneumatyczne<\/td>\n2 m\u00b3\/h, 0,4-0,5 MPa (suche powietrze bezolejowe)<\/td>\n<\/tr>\n
            Zaopatrzenie w wod\u0119<\/td>\n2 T\/h @ 0,3 MPa, \u226512 M\u03a9-cm wody DI<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n
            \n

            Zasada dzia\u0142ania<\/span><\/h2>\n

            1. Etap czyszczenia tarcz ceramicznych<\/span><\/h3>\n
              \n
            • Ultrad\u017awi\u0119kowy system czyszczenia usuwa mikronowe cz\u0105steczki i zanieczyszczenia.<\/li>\n
            • Wykorzystuje wod\u0119 DI o wysokiej czysto\u015bci (\u226512 M\u03a9-cm)<\/li>\n
            • W po\u0142\u0105czeniu z no\u017cem powietrznym + suszeniem pr\u00f3\u017cniowym, zapewniaj\u0105c zero pozosta\u0142o\u015bci<\/li>\n<\/ul>\n

              2. Zautomatyzowany proces woskowania<\/span><\/h3>\n
                \n
              • System wizyjny wykrywa wsp\u00f3\u0142rz\u0119dne tarczy<\/li>\n
              • Programowalna g\u0142owica dozuj\u0105ca nak\u0142ada jednolit\u0105 warstw\u0119 wosku<\/li>\n
              • Wafel jest montowany pod kontrolowanym ci\u015bnieniem<\/li>\n<\/ul>\n

                3. Inteligentna kontrola procesu<\/span><\/h3>\n
                  \n
                • System PLC synchronizuje modu\u0142y czyszczenia i woskowania<\/li>\n
                • Obs\u0142uga r\u00f3wnoleg\u0142ego przetwarzania do 30 dysk\u00f3w na godzin\u0119<\/li>\n
                • Czujniki grubo\u015bci monitoruj\u0105 jednorodno\u015b\u0107 wosku w czasie rzeczywistym<\/li>\n<\/ul>\n
                  \n

                  Zdolno\u015b\u0107 produkcyjna<\/span><\/h2>\n
                  \n
                  \n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
                  Rozmiar wafla<\/th>\n\u015arednica tarczy<\/th>\nIlo\u015b\u0107<\/th>\nCzas cyklu<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
                  4 cale<\/td>\n\u03a6485 mm<\/td>\n11 szt.<\/td>\n5 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n
                  4 cale<\/td>\n\u03a6576 mm<\/td>\n13 szt.<\/td>\n6 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n
                  6 cali<\/td>\n\u03a6485 mm<\/td>\n6 szt.<\/td>\n3 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n
                  6 cali<\/td>\n\u03a6576 mm<\/td>\n8 szt.<\/td>\n4 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n
                  8 cali<\/td>\n\u03a6485 mm<\/td>\n3 szt.<\/td>\n2 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n
                  8 cali<\/td>\n\u03a6576 mm<\/td>\n5 szt.<\/td>\n3 min\/dysk<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n
                  \n

                  Zastosowania<\/span><\/h2>\n

                  \"\"Wst\u0119pne przetwarzanie p\u0142ytek p\u00f3\u0142przewodnikowych<\/span><\/h3>\n
                    \n
                  • Monta\u017c p\u0142ytek przed szlifowaniem \/ przerzedzaniem \/ polerowaniem<\/li>\n
                  • Odpowiedni dla:\n
                      \n
                    • Krzem (Si)<\/li>\n
                    • W\u0119glik krzemu (SiC)<\/li>\n
                    • Azotek galu (GaN)<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n

                      Produkcja p\u00f3\u0142przewodnik\u00f3w z\u0142o\u017conych<\/span><\/h3>\n
                        \n
                      • Urz\u0105dzenia zasilaj\u0105ce GaN, SiC<\/li>\n
                      • Zaawansowana obs\u0142uga pod\u0142o\u017ca<\/li>\n<\/ul>\n

                        Materia\u0142y optyczne i krystaliczne<\/span><\/h3>\n
                          \n
                        • Pod\u0142o\u017ca szafirowe<\/li>\n
                        • Ceramika precyzyjna<\/li>\n
                        • Komponenty optyczne<\/li>\n<\/ul>\n

                          MEMS i materia\u0142y zaawansowane<\/span><\/h3>\n
                            \n
                          • Przygotowanie p\u0142ytek do mikrofabrykacji<\/li>\n
                          • Przetwarzanie materia\u0142\u00f3w specjalnych<\/li>\n<\/ul>\n
                            \n

                            \"\"G\u0142\u00f3wne zalety<\/span><\/h2>\n
                              \n
                            • Wysoka integracja: Czyszczenie + suszenie + woskowanie w jednym systemie<\/li>\n
                            • Efektywno\u015b\u0107 energetyczna: Wsp\u00f3\u0142czynnik recyklingu wody >80%, zmniejszone zu\u017cycie<\/li>\n
                            • Wysoka wydajno\u015b\u0107: Do 30 dysk\u00f3w na godzin\u0119<\/li>\n
                            • Gotowo\u015b\u0107 do inteligentnej produkcji: Obs\u0142ugiwana integracja MES\/ERP<\/li>\n
                            • Elastyczna personalizacja: Obs\u0142uguje niestandardowe dyski \u03a6300-650 mm<\/li>\n
                            • Szybka zmiana: Czas prze\u0142\u0105czania narz\u0119dzi <3 minuty<\/li>\n<\/ul>\n
                              \n

                              Najwa\u017cniejsze wyniki<\/span><\/h2>\n
                                \n
                              • Odchylenie jednorodno\u015bci wosku: \u2264\u00b13%<\/li>\n
                              • Zu\u017cycie wody: \u22640,5 l\/dysk<\/li>\n
                              • Zautomatyzowane dzia\u0142anie z pe\u0142n\u0105 identyfikowalno\u015bci\u0105<\/li>\n
                              • Stabilna i powtarzalna kontrola procesu<\/li>\n<\/ul>\n
                                \n

                                FAQ<\/span><\/h2>\n

                                P1: W jaki spos\u00f3b zapewniana jest wysoka rentowno\u015b\u0107?<\/span><\/h3>\n

                                Dedykowany system wizyjny CCD zapewnia dok\u0142adno\u015b\u0107 pozycjonowania \u00b10,02 mm, zapewniaj\u0105c sta\u0142\u0105 jako\u015b\u0107 monta\u017cu p\u0142ytek.<\/p>\n

                                P2: Jaki jest poziom zu\u017cycia wody?<\/span><\/h3>\n

                                System osi\u0105ga >80% recyklingu wody, przy zu\u017cyciu zaledwie \u22640,5 L na tarcz\u0119.<\/p>\n

                                P3: Czy obs\u0142uguje szybkie prze\u0142\u0105czanie rozmiar\u00f3w p\u0142ytek?<\/span><\/h3>\n

                                Tak, inteligentna biblioteka oprzyrz\u0105dowania umo\u017cliwia automatyczne prze\u0142\u0105czanie oprzyrz\u0105dowania w ci\u0105gu 3 minut za po\u015brednictwem interfejsu HMI.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

                                Zintegrowana maszyna do czyszczenia i woskowania dysk\u00f3w ceramicznych to wysokowydajny zautomatyzowany system przeznaczony do wst\u0119pnej obr\u00f3bki p\u0142ytek p\u00f3\u0142przewodnikowych, integruj\u0105cy precyzyjne czyszczenie, suszenie i woskowanie p\u0142ytek (monta\u017c) w jedn\u0105 platform\u0119. Sprz\u0119t ten jest szeroko stosowany w SiC, Si, GaN, szafirze i zaawansowanej obr\u00f3bce ceramicznej, zapewniaj\u0105c stabilne wi\u0105zanie p\u0142ytek z dyskami no\u015bnymi przed procesami szlifowania, przerzedzania lub polerowania.<\/p>","protected":false},"featured_media":2338,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[726],"product_tag":[1166,1175,1172,1173,1169,739,1171,1174,591,1176,1168,1170,1167],"class_list":{"0":"post-2335","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-wafer-cleaning-machine","7":"product_tag-ceramic-disc-cleaning-machine","8":"product_tag-di-water-cleaning-system","9":"product_tag-sapphire-wafer-waxing-system","10":"product_tag-semiconductor-automation-equipment","11":"product_tag-semiconductor-cleaning-system","12":"product_tag-semiconductor-manufacturing-equipment","13":"product_tag-sic-wafer-cleaning-machine","14":"product_tag-ultrasonic-cleaning-machine-semiconductor","15":"product_tag-wafer-bonding-equipment","16":"product_tag-wafer-handling-equipment","17":"product_tag-wafer-mounting-equipment","18":"product_tag-wafer-pre-processing-equipment","19":"product_tag-wafer-waxing-machine","20":"desktop-align-left","21":"tablet-align-left","22":"mobile-align-left","23":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","24":"ast-product-tabs-layout-horizontal","26":"first","27":"instock","28":"shipping-taxable","29":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2335","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2335"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2335\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2341,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2335\/revisions\/2341"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2338"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2335"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2335"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2335"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/pl\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2335"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}