{"id":2346,"date":"2026-04-22T05:56:29","date_gmt":"2026-04-22T05:56:29","guid":{"rendered":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/?post_type=product&p=2346"},"modified":"2026-04-22T07:25:08","modified_gmt":"2026-04-22T07:25:08","slug":"ai250-medium-beam-room-temperature-ion-implantation-system-for-6-8-inch-silicon-wafer-processing","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/product\/ai250-medium-beam-room-temperature-ion-implantation-system-for-6-8-inch-silicon-wafer-processing\/","title":{"rendered":"Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem op kamertemperatuur voor verwerking van 6-8 inch siliciumwafers"},"content":{"rendered":"

\"\"Het Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem is ontworpen voor productielijnen voor halfgeleiders van 6 inch en 8 inch siliciumwafers. Het is een middelstroom ionenimplantator die gebruikt wordt in geavanceerde processen voor de fabricage van ge\u00efntegreerde schakelingen, en biedt stabiele bundelprestaties, hoge implantatienauwkeurigheid en betrouwbare dosisregeling.<\/p>\n

Het systeem ondersteunt een energiebereik van 5 keV tot 250 keV, waardoor zowel ondiepe als diepe ionenimplantatietoepassingen mogelijk zijn. Het is geschikt voor een breed scala aan halfgeleider doteringsprocessen en is volledig compatibel met de productievereisten van LSI's.<\/p>\n

\n

Kenmerken<\/h2>\n

Stabiele middelstraalprestaties<\/h3>\n

Zorgt voor een stabiele uitvoer van de ionenbundel tijdens lange productiecycli, waardoor de procesconsistentie verbetert en de variabiliteit afneemt.<\/p>\n

Breed energiebereik<\/h3>\n

Het energiebereik van 5-250 keV ondersteunt flexibele implantatievereisten voor verschillende apparaatstructuren en procesknooppunten.<\/p>\n

Hoognauwkeurige procesbesturing<\/h3>\n

Biedt zeer nauwkeurige implantatieprestaties met hoeknauwkeurigheid \u2264 0,2\u00b0, bundelparallellisme \u2264 0,2\u00b0, uniformiteit \u2264 0,5% en herhaalbaarheid \u2264 0,5%.<\/p>\n

Hoge doorvoercapaciteit<\/h3>\n

Ondersteunt \u2265 200 wafers per uur, geschikt voor halfgeleiderproductie van gemiddelde tot hoge volumes.<\/p>\n

Patroon Implantaat Functie<\/h3>\n

Ondersteunt implantatie van meerdere zones en kwadranten op een enkele wafer, waardoor de procesflexibiliteit verbetert en de ontwikkelingskosten dalen.<\/p>\n

Compatibiliteit met LSI-processen<\/h3>\n

Volledig compatibel met LSI halfgeleiderproductieprocessen.<\/p>\n

\"\"<\/p>\n

\n

Belangrijkste specificaties<\/h2>\n

Procesparameters<\/h3>\n
\n
\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Item<\/th>\nSpecificatie<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
Wafergrootte<\/td>\n6-8 inch silicium wafers<\/td>\n<\/tr>\n
Energie Bereik<\/td>\n5-250 keV<\/td>\n<\/tr>\n
Ge\u00efmplanteerde elementen<\/td>\nB+, P+, As+, Ar+, N+, H+<\/td>\n<\/tr>\n
Dosisbereik<\/td>\n5E11-1E16 ionen\/cm\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n

Straalprestaties<\/h3>\n
\n
\n\n\n\n\n\n\n\n
Item<\/th>\nSpecificatie<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
Maximale bundelstroom<\/td>\nAr+ \u2265 1300 \u03bcA @ \u2265220 keV
\nB+ \u2265 1000 \u03bcA @ \u2265220 keV
\nP+ \u2265 1300 \u03bcA @ \u2265220 keV
\nN+ \u2265 1000 \u03bcA @ \u2265220 keV<\/td>\n<\/tr>\n
Stabiliteit van de balk<\/td>\n\u2264 15% \/ uur (straalonderbreking en lichtbogen \u2264 1 keer per uur)<\/td>\n<\/tr>\n
Parallelliteit van de straal<\/td>\n\u2264 0.2\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n

Nauwkeurigheid van implantatie<\/h3>\n
\n
\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Item<\/th>\nSpecificatie<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
Implantaat hoekbereik<\/td>\n0\u00b0-45\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n
Hoeknauwkeurigheid<\/td>\n\u2264 0.2\u00b0<\/td>\n<\/tr>\n
Uniformiteit (1\u03c3)<\/td>\n\u2264 0.5% (B+, 2E14, 150 keV)<\/td>\n<\/tr>\n
Herhaalbaarheid (1\u03c3)<\/td>\n\u2264 0,5%<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n

Systeemprestaties<\/h3>\n
\n
\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Item<\/th>\nSpecificatie<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n
Doorvoer<\/td>\n\u2265 200 wafers per uur<\/td>\n<\/tr>\n
Vacu\u00fcmniveau<\/td>\n< 5E-7 Torr<\/td>\n<\/tr>\n
Lekkage r\u00f6ntgenstraling<\/td>\n\u2264 0,6 \u03bcSv\/h<\/td>\n<\/tr>\n
Scannen<\/td>\nHorizontaal elektrostatisch scannen + verticaal mechanisch scannen<\/td>\n<\/tr>\n
Uitrustingsgrootte<\/td>\n5600 \u00d7 3300 \u00d7 2600 mm<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n
\n

Toepassingsvelden<\/h2>\n

Productie van halfgeleiderapparaten<\/h3>\n

Gebruikt bij de productie van CMOS logische apparaten, voor precieze implantatie van doteringsmiddelen voor transistorvorming.<\/p>\n

Fabricage van ge\u00efntegreerde circuits<\/h3>\n

Toegepast in LSI en geavanceerde IC fabricageprocessen die een zeer nauwkeurige dopingcontrole vereisen.<\/p>\n

Ondiepe en diepe verbinding<\/h3>\n

Ondersteunt implantatieprocessen voor bron\/drain-engineering en junctiedieptecontrole.<\/p>\n

Dopant-engineering<\/h3>\n

Gebruikt voor het regelen van elektrische eigenschappen van siliciumwafers door middel van nauwkeurige ionenimplantatie.<\/p>\n

Procesontwikkeling en R&D<\/h3>\n

Geschikt voor de ontwikkeling van halfgeleiderprocessen, proefproductie en experimentele fabricage van apparaten.<\/p>\n

\n

Veelgestelde vragen<\/h2>\n

1. Welke wafermaten ondersteunt de Ai250?<\/h3>\n

Het systeem ondersteunt 6-inch en 8-inch siliciumwafers en is geschikt voor mainstream productielijnen voor halfgeleiders.<\/p>\n

2. Wat is het energiebereik van het systeem?<\/h3>\n

Het energiebereik is 5 keV tot 250 keV en ondersteunt zowel ondiepe als diepe implantatieprocessen voor de fabricage van halfgeleiderelementen.<\/p>\n

3. Welk niveau van procesnauwkeurigheid biedt het systeem?<\/h3>\n

Het systeem biedt hoeknauwkeurigheid binnen 0,2\u00b0, bundelparallelliteit binnen 0,2\u00b0 en uniformiteit en herhaalbaarheid binnen 0,5%, wat zorgt voor stabiele productieprestaties met een hoog rendement.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Het Ai250 (Medium Beam) ionenimplantatiesysteem is ontworpen voor productielijnen voor halfgeleiders van 6 inch en 8 inch siliciumwafers. Het is een middelstroom ionenimplantator die gebruikt wordt in geavanceerde processen voor de fabricage van ge\u00efntegreerde schakelingen, en biedt stabiele bundelprestaties, hoge implantatienauwkeurigheid en betrouwbare dosisregeling.<\/p>","protected":false},"featured_media":2347,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[1177],"product_tag":[1189,1190,1191,1193,1178,1192,1186,1185,1188,1187],"class_list":{"0":"post-2346","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-ion-implantation-equipment","7":"product_tag-6-inch-wafer-equipment","8":"product_tag-8-inch-wafer-processing","9":"product_tag-cmos-manufacturing-equipment","10":"product_tag-high-current-ion-implantation","11":"product_tag-ion-implantation-system","12":"product_tag-lsi-process-equipment","13":"product_tag-medium-beam-ion-implanter","14":"product_tag-semiconductor-fabrication-equipment","15":"product_tag-semiconductor-implantation-machine","16":"product_tag-silicon-wafer-doping-equipment","17":"desktop-align-left","18":"tablet-align-left","19":"mobile-align-left","20":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","21":"ast-product-gallery-with-no-image","22":"ast-product-tabs-layout-horizontal","24":"first","25":"instock","26":"shipping-taxable","27":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2346","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2346"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2346\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2374,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2346\/revisions\/2374"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2347"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2346"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2346"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2346"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2346"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}