{"id":2077,"date":"2026-04-03T02:07:51","date_gmt":"2026-04-03T02:07:51","guid":{"rendered":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/?post_type=product&#038;p=2077"},"modified":"2026-04-03T02:09:04","modified_gmt":"2026-04-03T02:09:04","slug":"integrated-vertical-airflow-sic-epitaxy-equipment-for-6-8-epi-wafers","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/product\/integrated-vertical-airflow-sic-epitaxy-equipment-for-6-8-epi-wafers\/","title":{"rendered":"Ge\u00efntegreerde SiC Epitaxy-apparatuur met verticale luchtstroom voor 6\u201d\/8\u201d Epi-Wafers"},"content":{"rendered":"<p data-start=\"187\" data-end=\"641\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2079 alignright\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-300x300.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-150x150.png 150w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-768x768.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-12x12.png 12w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-600x600.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-100x100.png 100w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>De Integrated Vertical Airflow Silicon Carbide (SiC) Epitaxy Equipment is een geavanceerd epitaxiaal groeisysteem dat ontworpen is voor zeer effici\u00ebnte productie van 6-inch en 8-inch SiC epi-wafers. Dit systeem is ontworpen om te voldoen aan de groeiende eisen van de productie van vermogenshalfgeleiders en integreert nauwkeurige thermische controle, geoptimaliseerde gasstroomdynamica en intelligente automatisering om uitzonderlijke prestaties te leveren op het gebied van uniformiteit, doorvoer en defectcontrole.<\/p>\n<p data-start=\"643\" data-end=\"982\">De kern van het systeem is een innovatief verticaal luchtstroom douchekopontwerp, dat een gelijkmatige verdeling van procesgassen over het waferoppervlak mogelijk maakt. In combinatie met een temperatuurveldregeling voor meerdere zones zorgt dit voor een uitstekende uniformiteit van de dikte en een stabiele doteringsconcentratie - essentieel voor krachtige SiC-elektriciteitsapparaten.<\/p>\n<p data-start=\"984\" data-end=\"1310\">Het systeem heeft een sterk ge\u00efntegreerde structuur met automatische waferhandling via een EFEM-systeem, samen met een mechanisme voor wafertransfer bij hoge temperatuur. Dit maakt naadloze integratie in moderne halfgeleiderproductielijnen mogelijk, vermindert handmatige interventie en verbetert de procesconsistentie en operationele effici\u00ebntie.<\/p>\n<p data-start=\"1312\" data-end=\"1615\">Om productie op industri\u00eble schaal te ondersteunen, beschikt de apparatuur over een tweekamerconfiguratie waarmee continu met meerdere ovens gewerkt kan worden. Met een verwerkingscapaciteit van meer dan 1100 wafers per maand - en tot 1200 wafers door optimalisatie van het proces - is de machine zeer geschikt voor hoog-volume productieomgevingen.<\/p>\n<p data-start=\"1617\" data-end=\"1971\">De apparatuur is compatibel met zowel 6-inch als 8-inch SiC-wafers, wat flexibiliteit biedt voor fabrikanten die overstappen op grotere wafermaten. De apparatuur heeft ook uitstekende capaciteiten voor de groei van dikke epitaxiale lagen en trench-filling epitaxy, waardoor deze bijzonder geschikt is voor de fabricage van geavanceerde hoogspannings- en hoogvermogenapparaten.<\/p>\n<p data-start=\"1973\" data-end=\"2214\">Daarnaast zorgt het geoptimaliseerde reactorontwerp voor een lage defectdichtheid, een betere opbrengst en lagere eigendomskosten. De robuuste constructie en het onderhoudsvriendelijke ontwerp verbeteren de betrouwbaarheid op lange termijn en de operationele stabiliteit.<\/p>\n<h2 data-section-id=\"qpn8c9\" data-start=\"2221\" data-end=\"2252\"><span role=\"text\"><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2078 alignright\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-300x300.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-150x150.png 150w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-768x768.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-12x12.png 12w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-600x600.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-100x100.png 100w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Belangrijkste technische voordelen<\/span><\/h2>\n<ul data-start=\"2254\" data-end=\"2704\">\n<li data-section-id=\"1q2t12k\" data-start=\"2254\" data-end=\"2321\">Douchekop met verticale luchtstroom voor een gelijkmatige verdeling van het gas<\/li>\n<li data-section-id=\"1lzu0dd\" data-start=\"2322\" data-end=\"2387\">Temperatuurregeling met meerdere zones voor nauwkeurig thermisch beheer<\/li>\n<li data-section-id=\"1emeqzr\" data-start=\"2388\" data-end=\"2449\">Configuratie met twee kamers voor productie met hoge doorvoer<\/li>\n<li data-section-id=\"rs6yfl\" data-start=\"2450\" data-end=\"2499\">Lage defectdichtheid en hoge opbrengstprestaties<\/li>\n<li data-section-id=\"h9m4ox\" data-start=\"2500\" data-end=\"2550\">Geautomatiseerde verwerking van wafers met EFEM-integratie<\/li>\n<li data-section-id=\"bze71o\" data-start=\"2551\" data-end=\"2594\">Compatibiliteit met 6\u201d en 8\u201d SiC-wafers<\/li>\n<li data-section-id=\"xhhop\" data-start=\"2595\" data-end=\"2655\">Geoptimaliseerd voor dikke epitaxy- en sleufvulprocessen<\/li>\n<li data-section-id=\"1a3549x\" data-start=\"2656\" data-end=\"2704\">Hoge betrouwbaarheid met vereenvoudigd onderhoud<\/li>\n<\/ul>\n<h2 data-section-id=\"ca04ra\" data-start=\"2711\" data-end=\"2737\"><span role=\"text\">Procesprestaties<\/span><\/h2>\n<div class=\"TyagGW_tableContainer\">\n<div class=\"group TyagGW_tableWrapper flex flex-col-reverse w-fit\" tabindex=\"-1\">\n<table class=\"w-fit min-w-(--thread-content-width)\" data-start=\"2739\" data-end=\"3287\">\n<thead data-start=\"2739\" data-end=\"2768\">\n<tr data-start=\"2739\" data-end=\"2768\">\n<th class=\"\" data-start=\"2739\" data-end=\"2751\" data-col-size=\"sm\">Parameter<\/th>\n<th class=\"\" data-start=\"2751\" data-end=\"2768\" data-col-size=\"md\">Specificatie<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n<tbody data-start=\"2796\" data-end=\"3287\">\n<tr data-start=\"2796\" data-end=\"2884\">\n<td data-start=\"2796\" data-end=\"2809\" data-col-size=\"sm\">Doorvoer<\/td>\n<td data-start=\"2809\" data-end=\"2884\" data-col-size=\"md\">\u22651100 wafers\/maand (dubbele kamers), tot 1200 wafers\/maand (geoptimaliseerd)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2885\" data-end=\"2938\">\n<td data-start=\"2885\" data-end=\"2912\" data-col-size=\"sm\">Compatibiliteit wafergrootte<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2912\" data-end=\"2938\">6\u201d \/ 8\u201d SiC epi-wafers<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2939\" data-end=\"2975\">\n<td data-start=\"2939\" data-end=\"2961\" data-col-size=\"sm\">Temperatuurregeling<\/td>\n<td data-start=\"2961\" data-end=\"2975\" data-col-size=\"md\">Multi-zone<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2976\" data-end=\"3035\">\n<td data-start=\"2976\" data-end=\"2993\" data-col-size=\"sm\">Luchtstroomsysteem<\/td>\n<td data-start=\"2993\" data-end=\"3035\" data-col-size=\"md\">Verticaal instelbare multi-zone luchtstroom<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3036\" data-end=\"3067\">\n<td data-start=\"3036\" data-end=\"3053\" data-col-size=\"sm\">Rotatiesnelheid<\/td>\n<td data-start=\"3053\" data-end=\"3067\" data-col-size=\"md\">0-1000 tpm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3068\" data-end=\"3101\">\n<td data-start=\"3068\" data-end=\"3086\" data-col-size=\"sm\">Maximale groeisnelheid<\/td>\n<td data-start=\"3086\" data-end=\"3101\" data-col-size=\"md\">\u226560 \u03bcm\/uur<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3102\" data-end=\"3163\">\n<td data-start=\"3102\" data-end=\"3125\" data-col-size=\"sm\">Dikte Uniformiteit<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"3125\" data-end=\"3163\">\u22642% (geoptimaliseerd \u22641%, \u03c3\/avg, EE 5mm)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3164\" data-end=\"3224\">\n<td data-start=\"3164\" data-end=\"3184\" data-col-size=\"sm\">Dopinguniformiteit<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"3184\" data-end=\"3224\">\u22643% (geoptimaliseerd \u22641,5%, \u03c3\/avg, EE 5mm)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3225\" data-end=\"3287\">\n<td data-start=\"3225\" data-end=\"3249\" data-col-size=\"sm\">Dodelijke defectdichtheid<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"3249\" data-end=\"3287\">\u22640,2 cm-\u00b2 (geoptimaliseerd tot 0,01 cm-\u00b2)<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<h2 data-section-id=\"1w46w82\" data-start=\"3294\" data-end=\"3322\"><span role=\"text\">Toepassingsscenario's<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"3324\" data-end=\"3514\">Deze apparatuur wordt veel gebruikt bij de productie van geavanceerde halfgeleiderelementen op basis van SiC, met name in industrie\u00ebn die hoge effici\u00ebntie, hoog voltage en hoge thermische prestaties vereisen:<\/p>\n<ul data-start=\"3516\" data-end=\"4364\">\n<li data-section-id=\"qrtaas\" data-start=\"3516\" data-end=\"3707\">Elektrische voertuigen<br data-start=\"3545\" data-end=\"3548\" \/>Gebruikt bij de productie van SiC MOSFET's en vermogensmodules voor omvormers, boordladers en DC-DC converters, waardoor de energie-effici\u00ebntie en het rijbereik worden verbeterd.<\/li>\n<li data-section-id=\"1j97evh\" data-start=\"3709\" data-end=\"3867\">Hernieuwbare energiesystemen<br data-start=\"3739\" data-end=\"3742\" \/>Toegepast in fotovolta\u00efsche omvormers en energieopslagsystemen, voor een hogere omzettingseffici\u00ebntie en betrouwbaarheid van het systeem.<\/li>\n<li data-section-id=\"8pfhmh\" data-start=\"3869\" data-end=\"4041\">Industri\u00eble vermogenselektronica<br data-start=\"3903\" data-end=\"3906\" \/>Geschikt voor krachtige motoraandrijvingen, industri\u00eble automatiseringssystemen en voedingseenheden die een stabiele en effici\u00ebnte werking vereisen.<\/li>\n<li data-section-id=\"frfj8s\" data-start=\"4043\" data-end=\"4206\">Spoorvervoer &amp; Energienetten<br data-start=\"4075\" data-end=\"4078\" \/>Ondersteunt hoogspannings- en hoogfrequente apparaten die worden gebruikt in intelligente netwerken, tractiesystemen en infrastructuur voor stroomtransmissie.<\/li>\n<li data-section-id=\"1k6eb43\" data-start=\"4208\" data-end=\"4364\">Hoogwaardige voedingsapparaten<br data-start=\"4236\" data-end=\"4239\" \/>Ideaal voor de productie van geavanceerde SiC-apparaten zoals Schottky-dioden, MOSFET's en de volgende generatie hoogspanningscomponenten.<\/li>\n<\/ul>\n<p><img decoding=\"async\" class=\"wp-image-2080 size-large aligncenter\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-1024x578.png\" alt=\"\" width=\"1024\" height=\"578\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-1024x578.png 1024w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-300x169.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-768x433.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-18x10.png 18w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-600x339.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application.png 1285w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/p>\n<h2 data-section-id=\"elc90z\" data-start=\"4371\" data-end=\"4381\"><span role=\"text\">FAQ<\/span><\/h2>\n<h3 data-section-id=\"1f731tm\" data-start=\"4383\" data-end=\"4453\"><span role=\"text\">1. Welke waferformaten worden ondersteund door deze epitaxy-apparatuur?<\/span><\/h3>\n<p data-start=\"4454\" data-end=\"4606\">Het systeem ondersteunt zowel 6-inch als 8-inch SiC-wafers, waardoor fabrikanten aan de huidige productie-eisen kunnen voldoen en zich tegelijkertijd kunnen voorbereiden op toekomstige schaalvergroting.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"8a4v60\" data-start=\"4613\" data-end=\"4683\"><span role=\"text\">2. Welke voordelen biedt het verticale luchtstroomontwerp?<\/span><\/h3>\n<p data-start=\"4684\" data-end=\"4858\">Het verticale luchtstroomsysteem zorgt voor een gelijkmatige gasdistributie over de wafer, waardoor de dikte consistenter wordt, defecten worden verminderd en de algehele epitaxiale kwaliteit wordt verbeterd.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1rbmoqb\" data-start=\"4865\" data-end=\"4935\"><span role=\"text\">3. Is deze apparatuur geschikt voor massaproductie?<\/span><\/h3>\n<p data-start=\"4936\" data-end=\"5110\">Ja, het systeem heeft een configuratie met twee kamers en een continue werkmodus, met een maandelijkse verwerkingscapaciteit van meer dan 1100 wafers. Het systeem is zeer geschikt voor stabiele industri\u00eble productie op grote schaal en garandeert een consistente uitvoer, een hoge opbrengststabiliteit en operationele effici\u00ebntie op de lange termijn.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>De Integrated Vertical Airflow Silicon Carbide (SiC) Epitaxy Equipment is een geavanceerd epitaxiaal groeisysteem ontworpen voor zeer effici\u00ebnte productie van 6-inch en 8-inch SiC epi-wafers.<\/p>","protected":false},"featured_media":2078,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[730],"product_tag":[734,735,737,738,745,740,744,739,733,731,603,732,742,741,736,743],"class_list":{"0":"post-2077","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-epitaxy-equipment","7":"product_tag-6-inch-sic-wafer","8":"product_tag-8-inch-sic-wafer","9":"product_tag-cvd-epitaxy-system","10":"product_tag-epitaxial-growth-system","11":"product_tag-ev-power-semiconductors","12":"product_tag-high-voltage-sic-devices","13":"product_tag-industrial-power-electronics","14":"product_tag-semiconductor-manufacturing-equipment","15":"product_tag-sic-epi-wafer-production","16":"product_tag-sic-epitaxy-equipment","17":"product_tag-sic-power-devices","18":"product_tag-silicon-carbide-epitaxy-reactor","19":"product_tag-thick-epitaxy-growth","20":"product_tag-trench-filling-epitaxy","21":"product_tag-vertical-airflow-epitaxy","22":"product_tag-wafer-epitaxy-reactor","23":"desktop-align-left","24":"tablet-align-left","25":"mobile-align-left","26":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","27":"ast-product-tabs-layout-horizontal","29":"first","30":"instock","31":"shipping-taxable","32":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2077"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2082,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions\/2082"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2078"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2077"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2077"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2077"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2077"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}