![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/01\/pl204262693-sic_single_crystal_resistance_heating_crystal_growth_furnace_for_6inch_8inch_12inch_sic_wafers_manufacture-300x199.webp\")
<\/p>\n<\/p>\n
De ZMSH SiC Enkel Kristal Weerstandsverwarming Groeioven is een kristalgroeisysteem op hoge temperatuur dat speciaal is ontworpen voor de productie van enkel kristal siliciumcarbide met een grote diameter. Het ondersteunt de productie van 6-inch, 8-inch en 12-inch SiC wafers.<\/p>\n
<\/p>\n
uring.<\/p>\n
De oven is ontworpen op basis van het PVT-kristalgroeiprincipe (Physical Vapor Transport) en integreert nauwkeurige weerstandsverwarmingsregeling, stabiele thermische veldverdeling, beheer van hoogvacu\u00fcmomgeving en nauwkeurige drukregeling.
Deze configuratie maakt de groei mogelijk van zeer zuivere SiC-enkristallen met een lage defectdichtheid die geschikt zijn voor geavanceerde toepassingen voor vermogenshalfgeleiders en elektronische apparaten.<\/p>\n
Het systeem is ontwikkeld om te voldoen aan industri\u00eble productievereisten en zorgt voor processtabiliteit, herhaalbaarheid en operationele betrouwbaarheid op de lange termijn in omgevingen waar op grote schaal SiC-kristallen groeien.<\/p>\n
\n
<\/p>\n
De oven maakt gebruik van een multi-zone weerstandsverwarmingsstructuur om een uniforme axiale en radiale temperatuurdistributie te bereiken. Dit minimaliseert thermische gradi\u00ebnten, vermindert interne spanning en verbetert de structurele integriteit van het kristal tijdens het groeiproces.<\/p>\n
Maximale bedrijfstemperatuur tot 2500\u00b0C<\/p>\n<\/li>\n
Nauwkeurigheid temperatuurregeling: \u00b11\u00b0C<\/p>\n<\/li>\n
Breed drukregelbereik: 1-700 mbar<\/p>\n<\/li>\n<\/ul>\n
Deze parameters zorgen voor een stabiele thermodynamische omgeving die essentieel is voor gecontroleerde sublimatie, damptransport en kristalherkristallisatie bij de groei van SiC.<\/p>\n
Met een smeltkroesdiameter van 900 mm ondersteunt het systeem de groei van de volgende generatie 8-inch en 12-inch SiC ingots, waardoor fabrikanten hun productie kunnen opschalen en tegelijkertijd de opbrengst en waferconsistentie kunnen verbeteren.<\/p>\n
De oven handhaaft een hoogvacu\u00fcm groeikamer met lage lekkage, wat zorgt voor minder risico op contaminatie, verbeterde kristalzuiverheid en een stabiele werking gedurende lange tijd.<\/p>\n
![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/01\/pl204262670-sic_single_crystal_resistance_heating_crystal_growth_furnace_for_6inch_8inch_12inch_sic_wafers_manufacture-300x300.webp\")
<\/h2>\n<\/p>\n
Substraten voor vermogenshalfgeleiders<\/p>\n<\/li>\n
Voedingsmodules voor elektrische voertuigen<\/p>\n<\/li>\n
MOSFET- en diodeapparaten met hoog voltage<\/p>\n<\/li>\n
Stroomomzettingssystemen voor hernieuwbare energie<\/p>\n<\/li>\n
Hoogfrequente en RF elektronische componenten<\/p>\n<\/li>\n
Industri\u00eble vermogenselektronica<\/p>\n<\/li>\n<\/ul>\n
<\/p>\n
<\/p>\n
| Nee.<\/th>\n | Specificatie<\/th>\n | Details<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n |
|---|---|---|
| 1<\/td>\n | Model<\/td>\n | PVT-RS-40<\/td>\n<\/tr>\n |
| 2<\/td>\n | Afmetingen oven (L \u00d7 B \u00d7 H)<\/td>\n | 2500 \u00d7 2400 \u00d7 3456 mm<\/td>\n<\/tr>\n |
| 3<\/td>\n | Diameter smeltkroes<\/td>\n | 900 mm<\/td>\n<\/tr>\n |
| 4<\/td>\n | Ultieme vacu\u00fcmdruk<\/td>\n | 6 \u00d7 10-\u2074 Pa (na 1,5 uur vacu\u00fcm)<\/td>\n<\/tr>\n |
| 5<\/td>\n | Lekkage<\/td>\n | \u22645 Pa \/ 12 h (uitbakken)<\/td>\n<\/tr>\n |
| 6<\/td>\n | Diameter rotatieas<\/td>\n | 50 mm<\/td>\n<\/tr>\n |
| 7<\/td>\n | Rotatiesnelheid<\/td>\n | 0,5-5 tpm<\/td>\n<\/tr>\n |
| 8<\/td>\n | Verwarmingsmethode<\/td>\n | Elektrische weerstandsverwarming<\/td>\n<\/tr>\n |
| 9<\/td>\n | Maximale oventemperatuur<\/td>\n | 2500\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| 10<\/td>\n | Verwarmingsvermogen<\/td>\n | 40 kW \u00d7 2 + 20 kW<\/td>\n<\/tr>\n |
| 11<\/td>\n | Temperatuurmeting<\/td>\n | Tweekleuren infrarood-pyrometer<\/td>\n<\/tr>\n |
| 12<\/td>\n | Temperatuurbereik<\/td>\n | 900-3000\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| 13<\/td>\n | Nauwkeurigheid temperatuur<\/td>\n | \u00b11\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| 14<\/td>\n | Drukbereik<\/td>\n | 1-700 mbar<\/td>\n<\/tr>\n |
| 15<\/td>\n | Nauwkeurigheid drukregeling<\/td>\n | \u00b10,5% volledige schaal<\/td>\n<\/tr>\n |
| 16<\/td>\n | Type bewerking<\/td>\n | Bodemladen, handmatige of automatische veiligheidsmodi<\/td>\n<\/tr>\n |
| 17<\/td>\n | Optionele configuraties<\/td>\n | Verwarming met meerdere zones, dubbele temperatuurbewaking<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/h2>\n |