{"id":2400,"date":"2026-04-24T06:21:19","date_gmt":"2026-04-24T06:21:19","guid":{"rendered":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/?post_type=product&#038;p=2400"},"modified":"2026-04-24T06:21:22","modified_gmt":"2026-04-24T06:21:22","slug":"precision-silicon-ring-single-crystal-polycrystalline-for-semiconductor-plasma-etching","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/product\/precision-silicon-ring-single-crystal-polycrystalline-for-semiconductor-plasma-etching\/","title":{"rendered":"Anello di precisione in silicio (cristallo singolo\/policristallino) per l'incisione al plasma di semiconduttori"},"content":{"rendered":"<p data-start=\"228\" data-end=\"558\">\u00a0\u00a0<img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"alignright wp-image-2404 size-medium\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-300x300.png\" alt=\"Anello di precisione in silicio (cristallo singolo\/policristallino) per l&#039;incisione al plasma di semiconduttori\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-300x300.png 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-150x150.png 150w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-768x768.png 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-12x12.png 12w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-600x600.png 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1-100x100.png 100w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Precision-Silicon-Ring-Single-Crystal-Polycrystalline-for-Semiconductor-Plasma-Etching-1.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>L'anello di silicio (Si Ring) \u00e8 un componente ampiamente utilizzato nelle apparecchiature per la lavorazione del plasma dei semiconduttori, che funge da anello di focalizzazione, anello di bordo o rivestimento della camera. Svolge un ruolo fondamentale nel controllo della distribuzione del plasma, nel miglioramento dell'uniformit\u00e0 di incisione e nella protezione dei componenti critici della camera dall'esposizione diretta al plasma ad alta energia.<\/p>\n<p data-start=\"560\" data-end=\"882\">Realizzati in silicio monocristallino o policristallino di elevata purezza, gli anelli di silicio offrono un'eccellente compatibilit\u00e0 con i processi dei wafer di silicio. Questa compatibilit\u00e0 intrinseca dei materiali riduce significativamente i rischi di contaminazione, rendendo gli anelli di silicio la scelta preferita in molti ambienti di produzione di semiconduttori.<\/p>\n<p data-start=\"884\" data-end=\"1239\">Durante il funzionamento, gli anelli di silicio sono esposti a plasma reattivo generato da gas come CF\u2084, SF\u2086, NF\u2083 e Cl\u2082. Queste condizioni causano gradualmente l'erosione del materiale e la degradazione della superficie. Di conseguenza, gli anelli di silicio sono classificati come materiali di consumo critici per i semiconduttori, che devono essere sostituiti periodicamente per mantenere prestazioni e rendimenti ottimali del processo.<\/p>\n<p data-start=\"1241\" data-end=\"1430\">Rispetto agli anelli in SiC, gli anelli in silicio sono pi\u00f9 economici e facili da lavorare, il che li rende ideali per le applicazioni in cui i cicli di sostituzione sono accettabili e il controllo dei costi \u00e8 importante.<\/p>\n<hr data-start=\"1432\" data-end=\"1435\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1wht24f\" data-start=\"1437\" data-end=\"1457\">Caratteristiche principali<\/h2>\n<ul data-start=\"1458\" data-end=\"2054\">\n<li data-section-id=\"1wvx41j\" data-start=\"1458\" data-end=\"1549\">Materiale di silicio di elevata purezza: Disponibile in forma monocristallina e policristallina<\/li>\n<li data-section-id=\"16rlosp\" data-start=\"1550\" data-end=\"1653\">Eccellente compatibilit\u00e0 con i processi: Ideale per la lavorazione dei wafer di silicio a basso rischio di contaminazione.<\/li>\n<li data-section-id=\"h5tu82\" data-start=\"1654\" data-end=\"1727\">Propriet\u00e0 elettriche stabili: Supporta un comportamento costante del plasma<\/li>\n<li data-section-id=\"qwtj7n\" data-start=\"1728\" data-end=\"1814\">Lavorazione di precisione: Tolleranze strette (&lt;10 \u03bcm) per utensili avanzati per semiconduttori<\/li>\n<li data-section-id=\"cd4ksl\" data-start=\"1815\" data-end=\"1903\">Opzioni di resistivit\u00e0 multiple: Adatte a diversi requisiti di controllo del plasma<\/li>\n<li data-section-id=\"vfz8a3\" data-start=\"1904\" data-end=\"1984\">Soluzione conveniente: Costo iniziale inferiore rispetto alle alternative SiC<\/li>\n<li data-section-id=\"1q6rj8k\" data-start=\"1985\" data-end=\"2054\">Supporto alla progettazione personalizzata: Disponibilit\u00e0 di geometrie e dimensioni complesse<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2056\" data-end=\"2059\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1vgwxle\" data-start=\"2061\" data-end=\"2093\">Specifiche tecniche<\/h2>\n<div class=\"TyagGW_tableContainer\">\n<div class=\"group TyagGW_tableWrapper flex flex-col-reverse w-fit\" tabindex=\"-1\">\n<table class=\"w-fit min-w-(--thread-content-width)\" data-start=\"2095\" data-end=\"2793\">\n<thead data-start=\"2095\" data-end=\"2124\">\n<tr data-start=\"2095\" data-end=\"2124\">\n<th class=\"\" data-start=\"2095\" data-end=\"2107\" data-col-size=\"sm\">Parametro<\/th>\n<th class=\"\" data-start=\"2107\" data-end=\"2124\" data-col-size=\"md\">Specifiche<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n<tbody data-start=\"2152\" data-end=\"2793\">\n<tr data-start=\"2152\" data-end=\"2215\">\n<td data-start=\"2152\" data-end=\"2163\" data-col-size=\"sm\">Materiale<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2163\" data-end=\"2215\">Silicio monocristallino \/ Silicio policristallino<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2216\" data-end=\"2263\">\n<td data-start=\"2216\" data-end=\"2225\" data-col-size=\"sm\">La purezza<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2225\" data-end=\"2263\">\u2265 99,999% (grado di semiconduttore 5N)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2264\" data-end=\"2297\">\n<td data-start=\"2264\" data-end=\"2281\" data-col-size=\"sm\">Diametro (max)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2281\" data-end=\"2297\">Fino a 480 mm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2298\" data-end=\"2340\">\n<td data-start=\"2298\" data-end=\"2310\" data-col-size=\"sm\">Spessore<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2310\" data-end=\"2340\">Personalizzato (in genere 5-30 mm)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2341\" data-end=\"2376\">\n<td data-start=\"2341\" data-end=\"2361\" data-col-size=\"sm\">Resistivit\u00e0 (bassa)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2361\" data-end=\"2376\">&lt; 0,02 \u03a9-cm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2377\" data-end=\"2414\">\n<td data-start=\"2377\" data-end=\"2400\" data-col-size=\"sm\">Resistivit\u00e0 (media)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2400\" data-end=\"2414\">1 - 4 \u03a9-cm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2415\" data-end=\"2452\">\n<td data-start=\"2415\" data-end=\"2436\" data-col-size=\"sm\">Resistivit\u00e0 (alta)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2436\" data-end=\"2452\">70 - 90 \u03a9-cm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2453\" data-end=\"2492\">\n<td data-start=\"2453\" data-end=\"2484\" data-col-size=\"sm\">Uniformit\u00e0 di resistivit\u00e0 (RRG)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2484\" data-end=\"2492\">&lt; 5%<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2493\" data-end=\"2543\">\n<td data-start=\"2493\" data-end=\"2513\" data-col-size=\"sm\">Condizione della superficie<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2513\" data-end=\"2543\">Lucidato \/ lappato \/ rettificato<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2544\" data-end=\"2605\">\n<td data-start=\"2544\" data-end=\"2569\" data-col-size=\"sm\">Rugosit\u00e0 superficiale (Ra)<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2569\" data-end=\"2605\">\u2264 0,8 \u03bcm (il lucido pu\u00f2 essere inferiore)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2606\" data-end=\"2639\">\n<td data-start=\"2606\" data-end=\"2628\" data-col-size=\"sm\">Lavorazione di precisione<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2628\" data-end=\"2639\">&lt; 10 \u03bcm<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2640\" data-end=\"2682\">\n<td data-start=\"2640\" data-end=\"2651\" data-col-size=\"sm\">Piattezza<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2651\" data-end=\"2682\">\u2264 30 \u03bcm (a seconda delle dimensioni)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2683\" data-end=\"2728\">\n<td data-start=\"2683\" data-end=\"2695\" data-col-size=\"sm\">Tipo di bordo<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2695\" data-end=\"2728\">Smusso \/ Raggio personalizzabile<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2729\" data-end=\"2793\">\n<td data-start=\"2729\" data-end=\"2747\" data-col-size=\"sm\">Controllo qualit\u00e0<\/td>\n<td data-col-size=\"md\" data-start=\"2747\" data-end=\"2793\">Nessuna incrinatura, scheggiatura, graffio, contaminazione<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<hr data-start=\"2795\" data-end=\"2798\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1gggyhy\" data-start=\"2800\" data-end=\"2820\">Applicazioni<\/h2>\n<p data-start=\"2821\" data-end=\"2903\">Gli anelli di silicio sono essenziali in diversi ambienti di lavorazione dei semiconduttori:<\/p>\n<ul data-start=\"2905\" data-end=\"3108\">\n<li data-section-id=\"qzqq98\" data-start=\"2905\" data-end=\"2943\">Sistemi di incisione al plasma (ICP \/ RIE)<\/li>\n<li data-section-id=\"1iourx1\" data-start=\"2944\" data-end=\"2987\">Deposizione di vapore chimico (CVD \/ PECVD)<\/li>\n<li data-section-id=\"1hekjdg\" data-start=\"2988\" data-end=\"3025\">Componenti dell'anello di messa a fuoco \/ dell'anello dei bordi<\/li>\n<li data-section-id=\"y1zl6l\" data-start=\"3026\" data-end=\"3065\">Parti di protezione e rivestimento della camera<\/li>\n<li data-section-id=\"83pt8g\" data-start=\"3066\" data-end=\"3108\">Applicazioni di controllo del plasma sul bordo del wafer<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"3110\" data-end=\"3235\">Sono ampiamente utilizzati sia nei nodi di processo maturi che in quelli intermedi, dove sono richieste efficienza dei costi e prestazioni stabili.<\/p>\n<p data-start=\"3110\" data-end=\"3235\"><img decoding=\"async\" class=\"aligncenter wp-image-2406 size-large\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-1024x681.jpg\" alt=\"Anello di precisione in silicio (cristallo singolo\/policristallino) per l&#039;incisione al plasma di semiconduttori\" width=\"1024\" height=\"681\" srcset=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-1024x681.jpg 1024w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-300x199.jpg 300w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-768x510.jpg 768w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-1536x1021.jpg 1536w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-18x12.jpg 18w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0-600x399.jpg 600w, https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/nqhpoIZB7ZFQ0FgmKSApdpD5LVDKRh2mgeWJ0h_n8YC-oFDqn-Z2JB5pyoBfyG-_oDLzw_pC2C1A3AoLJoKcLErEuU3bYIhN8vq8CwcolHLoXu8EmdfU22zT2CiuFBN0qxhzObBOZwWh-dASuFxcJnit1n-yH8VsKHv8U2e2dzbKmApkzAOkXyVy8SRUL7r0.jpg 2048w\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" \/><\/p>\n<hr data-start=\"3237\" data-end=\"3240\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1misgzs\" data-start=\"3242\" data-end=\"3274\">Vantaggi e posizionamento<\/h2>\n<p data-start=\"3275\" data-end=\"3371\">Gli anelli in silicio offrono una soluzione equilibrata tra prestazioni e costi. Rispetto agli anelli in SiC:<\/p>\n<ul data-start=\"3373\" data-end=\"3681\">\n<li data-section-id=\"qgkkrh\" data-start=\"3373\" data-end=\"3449\">Costo inferiore: ideale per scenari sensibili al budget o ad alta sostituzione<\/li>\n<li data-section-id=\"fe5ihf\" data-start=\"3450\" data-end=\"3533\">Buona compatibilit\u00e0 con i processi: Particolarmente adatto ai processi a base di silicio<\/li>\n<li data-section-id=\"1wgvfgt\" data-start=\"3534\" data-end=\"3604\">Produzione flessibile: Pi\u00f9 facile da lavorare in progetti complessi<\/li>\n<li data-section-id=\"1855g4l\" data-start=\"3605\" data-end=\"3681\">Prestazioni affidabili: Comprovate nella produzione di semiconduttori su larga scala<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"3683\" data-end=\"3894\">Tuttavia, in condizioni di plasma estremamente severe, gli anelli di silicio possono usurarsi pi\u00f9 rapidamente di quelli di SiC. Pertanto, la scelta del materiale deve basarsi sull'intensit\u00e0 del processo, sulle aspettative di durata e su considerazioni di costo.<\/p>\n<p data-start=\"3683\" data-end=\"3894\"><img decoding=\"async\" class=\"wp-image-2383 size-large aligncenter\" src=\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/\u5fae\u4fe1\u56fe\u7247_20260423181006_366_381-1024x486.png\" alt=\"\" width=\"1024\" height=\"486\" srcset=\"\" sizes=\"(max-width: 1024px) 100vw, 1024px\" data-srcset=\"\" \/><\/p>\n<hr data-start=\"3896\" data-end=\"3899\" \/>\n<h2 data-section-id=\"cpu4ih\" data-start=\"3901\" data-end=\"3912\">FAQ<\/h2>\n<p data-start=\"3914\" data-end=\"4070\">D1: L'anello in silicone \u00e8 un prodotto di consumo?<br data-start=\"3963\" data-end=\"3966\" \/>S\u00ec. \u00c8 considerato un consumabile critico per i semiconduttori a causa dell'erosione graduale in ambienti al plasma.<\/p>\n<p data-start=\"4072\" data-end=\"4291\">D2: Qual \u00e8 la differenza tra anelli di silicio monocristallino e policristallino?<br data-start=\"4160\" data-end=\"4163\" \/>Il silicio monocristallino offre una migliore uniformit\u00e0 e propriet\u00e0 elettriche, mentre il silicio policristallino \u00e8 pi\u00f9 economico.<\/p>\n<p data-start=\"4293\" data-end=\"4452\">Q3: L'anello in silicone pu\u00f2 essere personalizzato?<br data-start=\"4336\" data-end=\"4339\" \/>S\u00ec. Dimensioni, spessore, resistivit\u00e0, finitura superficiale e geometria possono essere personalizzati in base ai vostri disegni.<\/p>\n<p data-start=\"4454\" data-end=\"4622\">D4: Con quale frequenza \u00e8 necessario sostituire un anello in silicone?<br data-start=\"4509\" data-end=\"4512\" \/>Dipende dalle condizioni di processo, ma in genere \u00e8 pi\u00f9 frequente degli anelli in SiC a causa della minore resistenza al plasma.<\/p>\n<p data-start=\"4624\" data-end=\"4743\">D5: Qual \u00e8 il tempo di consegna tipico?<br data-start=\"4662\" data-end=\"4665\" \/>La produzione richiede generalmente 3-5 settimane, a seconda delle specifiche e della quantit\u00e0.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>L'anello di silicio (Si Ring) \u00e8 un componente ampiamente utilizzato nelle apparecchiature per la lavorazione del plasma dei semiconduttori, che funge da anello di focalizzazione, anello di bordo o rivestimento della camera. Svolge un ruolo fondamentale nel controllo della distribuzione del plasma, nel miglioramento dell'uniformit\u00e0 di incisione e nella protezione dei componenti critici della camera dall'esposizione diretta al plasma ad alta energia.<\/p>","protected":false},"featured_media":2404,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[1212],"product_tag":[1251,1250,1246,1237,1254,1218,1232,1249,1252,1248,1255,1253,1256],"class_list":{"0":"post-2400","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-semiconductor-consumables","7":"product_tag-edge-ring-semiconductor","8":"product_tag-focus-ring-silicon","9":"product_tag-icp-rie-ring","10":"product_tag-plasma-etching-ring","11":"product_tag-polycrystalline-silicon-ring","12":"product_tag-semiconductor-consumables","13":"product_tag-semiconductor-equipment-parts","14":"product_tag-si-ring-semiconductor","15":"product_tag-silicon-chamber-parts","16":"product_tag-silicon-ring","17":"product_tag-silicon-wear-parts","18":"product_tag-single-crystal-silicon-ring","19":"product_tag-wafer-processing-components","20":"desktop-align-left","21":"tablet-align-left","22":"mobile-align-left","23":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","24":"ast-product-tabs-layout-horizontal","26":"first","27":"instock","28":"shipping-taxable","29":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2400","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2400"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2400\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2408,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2400\/revisions\/2408"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2404"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2400"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2400"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2400"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2400"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}