![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/sic_growth_furnace_pvt_method_6inch_8inch_12_inch_low_energy_consumption1-300x300.webp\")
El horno de crecimiento de SiC (m\u00e9todo PVT) es un sistema de alto rendimiento dise\u00f1ado para la producci\u00f3n de monocristales de carburo de silicio (SiC) de 6, 8 y 12 pulgadas.<\/p>\nEl horno de crecimiento de SiC (m\u00e9todo PVT) es un sistema de alto rendimiento dise\u00f1ado para la producci\u00f3n de monocristales de carburo de silicio (SiC) de 6, 8 y 12 pulgadas.<\/p>\n
Gracias a su avanzada tecnolog\u00eda de calentamiento por inducci\u00f3n, el horno ofrece un calentamiento r\u00e1pido, un control preciso de la temperatura y un bajo consumo energ\u00e9tico, lo que lo convierte en una soluci\u00f3n ideal para el crecimiento de cristales de SiC a escala industrial.<\/p>\n
Se utiliza ampliamente en la fabricaci\u00f3n de sustratos de SiC para electr\u00f3nica de potencia, dispositivos de RF y aplicaciones de semiconductores de nueva generaci\u00f3n.<\/p>\n
Sistema de calefacci\u00f3n por inducci\u00f3n
El calentamiento electromagn\u00e9tico directo del crisol de grafito garantiza una alta eficacia y una r\u00e1pida respuesta t\u00e9rmica<\/p>\n<\/li>\n
Control ultrapreciso de la temperatura
Precisi\u00f3n de hasta \u00b11 \u00b0C, lo que garantiza unas condiciones estables de crecimiento del cristal<\/p>\n<\/li>\n
Bajo consumo de energ\u00eda
El dise\u00f1o t\u00e9rmico optimizado reduce significativamente el coste operativo<\/p>\n<\/li>\n
Alta estabilidad y baja contaminaci\u00f3n
Calentamiento sin contacto + entorno de gas inerte que minimiza las impurezas<\/p>\n<\/li>\n
Escalable para cristales de gran di\u00e1metro
Admite el crecimiento de cristales de SiC de 6\u2033, 8\u2033 y 12\u2033.<\/p>\n<\/li>\n<\/ul>\n
| Par\u00e1metro<\/th>\n | Especificaci\u00f3n<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n |
|---|---|
| Dimensiones (L\u00d7A\u00d7H)<\/td>\n | 3200 \u00d7 1150 \u00d7 3600 mm (personalizable)<\/td>\n<\/tr>\n |
| Di\u00e1metro de la c\u00e1mara del horno<\/td>\n | 400 mm<\/td>\n<\/tr>\n |
| Temperatura m\u00e1xima<\/td>\n | 2400\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| Temperatura<\/td>\n | 900-3000\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| Precisi\u00f3n de temperatura<\/td>\n | \u00b11\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| M\u00e9todo de calentamiento<\/td>\n | Calentamiento por inducci\u00f3n<\/td>\n<\/tr>\n |
| Fuente de alimentaci\u00f3n<\/td>\n | 40 kW, 8-12 kHz<\/td>\n<\/tr>\n |
| Nivel de vac\u00edo<\/td>\n | 5 \u00d7 10-\u2074 Pa<\/td>\n<\/tr>\n |
| Rango de presi\u00f3n<\/td>\n | 1-700 mbar<\/td>\n<\/tr>\n |
| Medici\u00f3n de la temperatura<\/td>\n | Infrarrojos de dos colores<\/td>\n<\/tr>\n |
| M\u00e9todo de carga<\/td>\n | Carga inferior<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\nVentajas del dise\u00f1o<\/span><\/h2>\nCompatible con el crecimiento de cristales de SiC semiaislantes y conductores<\/p>\n<\/li>\n El sistema de rotaci\u00f3n del crisol mejora la uniformidad de la temperatura<\/p>\n<\/li>\n La elevaci\u00f3n ajustable de la bobina de inducci\u00f3n reduce las perturbaciones t\u00e9rmicas<\/p>\n<\/li>\n La c\u00e1mara de cuarzo de doble capa refrigerada por agua prolonga la vida \u00fatil del equipo<\/p>\n<\/li>\n Control de temperatura de doble punto en tiempo real<\/p>\n<\/li>\n M\u00faltiples modos de control: potencia \/ corriente \/ temperatura constantes<\/p>\n<\/li>\n Arranque inteligente con un solo clic para un funcionamiento automatizado<\/p>\n<\/li>\n Estructura compacta para una distribuci\u00f3n eficiente de la f\u00e1brica<\/p>\n<\/li>\n Control de presi\u00f3n de alta precisi\u00f3n (hasta \u00b11 Pa)<\/p>\n<\/li>\n<\/ul>\n Rendimiento y aplicaciones<\/span><\/h2>\nMOSFET de SiC<\/p>\n<\/li>\n Diodos Schottky<\/p>\n<\/li>\n Dispositivos de radiofrecuencia<\/p>\n<\/li>\n Veh\u00edculos el\u00e9ctricos (m\u00f3dulos de alimentaci\u00f3n EV)<\/p>\n<\/li>\n Inversores solares<\/p>\n<\/li>\n Sistemas de comunicaci\u00f3n 5G<\/p>\n<\/li>\n<\/ul>\n Con un control t\u00e9rmico estable y condiciones de crecimiento optimizadas, el sistema garantiza un alto rendimiento, consistencia y escalabilidad para la producci\u00f3n industrial.<\/p>\n
Nuestras capacidades (ZMSH)<\/span><\/h2>\n
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