\n| Killer Defect Density<\/td>\n | \u22640,2 cm-\u00b2 (optimiert auf 0,01 cm-\u00b2)<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\nAnwendungsszenarien<\/span><\/h2>\nDiese Ger\u00e4te werden in gro\u00dfem Umfang f\u00fcr die Herstellung von modernen Halbleiterbauelementen auf SiC-Basis verwendet, insbesondere in Branchen, die einen hohen Wirkungsgrad, eine hohe Spannung und eine hohe thermische Leistung ben\u00f6tigen:<\/p>\n \n- Elektrofahrzeuge (EVs)
Wird bei der Herstellung von SiC-MOSFETs und Leistungsmodulen f\u00fcr Wechselrichter, Onboard-Ladeger\u00e4te und DC-DC-Wandler verwendet und verbessert die Energieeffizienz und den Aktionsradius.<\/li>\n - Erneuerbare Energiesysteme
Sie werden in Photovoltaik-Wechselrichtern und Energiespeichersystemen eingesetzt und erm\u00f6glichen eine h\u00f6here Umwandlungseffizienz und Systemzuverl\u00e4ssigkeit.<\/li>\n - Industrielle Leistungselektronik
Geeignet f\u00fcr leistungsstarke Motorantriebe, industrielle Automatisierungssysteme und Netzteile, die einen stabilen und effizienten Betrieb erfordern.<\/li>\n - Schienentransit und Stromnetze
Unterst\u00fctzt Hochspannungs- und Hochfrequenzger\u00e4te, die in intelligenten Netzen, Traktionssystemen und Strom\u00fcbertragungsinfrastrukturen eingesetzt werden.<\/li>\n - High-End-Leistungsger\u00e4te
Ideal f\u00fcr die Herstellung moderner SiC-Bauelemente wie Schottky-Dioden, MOSFETs und Hochspannungskomponenten der n\u00e4chsten Generation.<\/li>\n<\/ul>\n![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/application-1024x578.png\") <\/p>\n
FAQ<\/span><\/h2>\n1. Welche Wafergr\u00f6\u00dfen werden von dieser Epitaxieanlage unterst\u00fctzt?<\/span><\/h3>\nDas System unterst\u00fctzt sowohl 6-Zoll- als auch 8-Zoll-SiC-Wafer und erm\u00f6glicht es den Herstellern, die aktuellen Produktionsanforderungen zu erf\u00fcllen und sich gleichzeitig auf eine zuk\u00fcnftige Skalierung vorzubereiten.<\/p>\n 2. Welche Vorteile bietet das vertikale Luftstromdesign?<\/span><\/h3>\nDas vertikale Luftstromsystem sorgt f\u00fcr eine gleichm\u00e4\u00dfige Gasverteilung auf dem Wafer, wodurch die Dickenkonsistenz verbessert, Defekte reduziert und die Epitaxiequalit\u00e4t insgesamt verbessert wird.<\/p>\n 3. Eignet sich das Ger\u00e4t f\u00fcr die Gro\u00dfserienfertigung?<\/span><\/h3>\nJa, das System verf\u00fcgt \u00fcber eine Zweikammer-Konfiguration und einen kontinuierlichen Betriebsmodus mit einem monatlichen Durchsatz von \u00fcber 1100 Wafern. Sie eignet sich gut f\u00fcr eine stabile industrielle Produktion in gro\u00dfem Ma\u00dfstab und gew\u00e4hrleistet eine konstante Produktion, eine hohe Ertragsstabilit\u00e4t und eine langfristige betriebliche Effizienz.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" Die Integrated Vertical Airflow Silicon Carbide (SiC) Epitaxy Equipment ist ein fortschrittliches Epitaxie-System, das f\u00fcr die hocheffiziente Produktion von 6-Zoll- und 8-Zoll-SiC-Epi-Wafern entwickelt wurde.<\/p>","protected":false},"featured_media":2078,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[730],"product_tag":[734,735,737,738,745,740,744,739,733,731,603,732,742,741,736,743],"class_list":{"0":"post-2077","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-epitaxy-equipment","7":"product_tag-6-inch-sic-wafer","8":"product_tag-8-inch-sic-wafer","9":"product_tag-cvd-epitaxy-system","10":"product_tag-epitaxial-growth-system","11":"product_tag-ev-power-semiconductors","12":"product_tag-high-voltage-sic-devices","13":"product_tag-industrial-power-electronics","14":"product_tag-semiconductor-manufacturing-equipment","15":"product_tag-sic-epi-wafer-production","16":"product_tag-sic-epitaxy-equipment","17":"product_tag-sic-power-devices","18":"product_tag-silicon-carbide-epitaxy-reactor","19":"product_tag-thick-epitaxy-growth","20":"product_tag-trench-filling-epitaxy","21":"product_tag-vertical-airflow-epitaxy","22":"product_tag-wafer-epitaxy-reactor","23":"desktop-align-left","24":"tablet-align-left","25":"mobile-align-left","26":"ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","27":"ast-product-tabs-layout-horizontal","29":"first","30":"instock","31":"shipping-taxable","32":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2077"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2082,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2077\/revisions\/2082"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2078"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2077"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2077"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2077"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2077"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}} |
![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow-300x300.png\")
Das Integrated Vertical Airflow Silicon Carbide (SiC) Epitaxy Equipment ist ein fortschrittliches Epitaxie-System, das f\u00fcr die hocheffiziente Produktion von 6- und 8-Zoll-SiC-Epi-Wafern entwickelt wurde. Dieses System wurde entwickelt, um den wachsenden Anforderungen der Leistungshalbleiterfertigung gerecht zu werden. Es integriert eine pr\u00e4zise thermische Steuerung, eine optimierte Gasflussdynamik und eine intelligente Automatisierung, um au\u00dfergew\u00f6hnliche Leistungen in Bezug auf Gleichm\u00e4\u00dfigkeit, Durchsatz und Defektkontrolle zu erzielen.<\/p>\n![\"\"](\"https:\/\/www.zmsh-semitech.com\/wp-content\/uploads\/2026\/04\/Integrated-Silicon-Carbide-Epitaxy-Equipment-with-Vertical-Airflow2-300x300.png\")
Die wichtigsten technischen Vorteile<\/span><\/h2>\n